王　莉　盧秉恒　崔東印　丁玉成　劉紅忠

摘要：為滿足多層冷壓印光刻中套刻的超高精度要求，提出了基于斜紋結(jié)構(gòu)光柵的對正技術(shù)．利用光電接收器件陣列組合接收光柵產(chǎn)生莫爾條紋的零級光，得到條紋平面內(nèi)X、y方向的對正誤差信號．通過調(diào)整光柵副的間隙來提高誤差信號的對比度．利用高對比度和靈敏度的誤差信號作為控制系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)信號，對承片臺進(jìn)行宏微兩級驅(qū)動(dòng)控制，并由激光干涉儀作為控制系統(tǒng)的反饋環(huán)節(jié)在驅(qū)動(dòng)過程中進(jìn)行全程監(jiān)測，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)對正．最終使在X、y方向上的重復(fù)對正精度達(dá)到了i20nm，滿足了100nm特征尺寸壓印光刻的對正精度要求．

關(guān)鍵詞：壓印光刻；結(jié)構(gòu)光柵；莫爾條紋；超高精度；對正

中圖分類號：THll2；THll3．1文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A文章編號：0253—987X(2004)09-0895—05