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上海微高精密機械工程有限公司提供用于高亮度照明LED的步進光刻機

2010-04-04 15:23
電子工業(yè)專用設備 2010年1期
關鍵詞:高亮度光刻機圖形化

“作為新一輪高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的焦點,被譽為全世界最有機會、最受追捧的產(chǎn)業(yè)。隨著LED制造工藝技術的發(fā)展,特別是對于高性能LED照明芯片圖形化襯底(PSS)而言,傳統(tǒng)的接觸式曝光模式已不能滿足的要求。微高公司根據(jù)市場需求,對NIKON公司生產(chǎn)的i7系列機型進行了改造,改造后的設備具備全自動2英寸、3英寸晶片傳輸、曝光功能,相對傳統(tǒng)的接觸接近式曝光具備更高的分辨率、生產(chǎn)率和圖形一致性,完全滿足當前LED生產(chǎn)的最高要求。

同時,該公司已完全掌握了LED照明晶片曝光的工藝技術。

目前國內(nèi)在高亮度LED照明芯片制造才開始起步,該項技術的突破,為國內(nèi)有志于高性能LED照明芯片生產(chǎn)廠家提供了更好的選擇。

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