朱瑞林 朱國林
(湖南師范大學工學院) (江西公安專科學校))
過程強化裝置的偏心轉(zhuǎn)子與活塞的接觸方式對設(shè)備運行的影響*
朱瑞林**朱國林
(湖南師范大學工學院) (江西公安??茖W校))
探討了過程強化裝置的偏心轉(zhuǎn)子與活塞點接觸時,設(shè)備在運行過程中長度與壓力的變化規(guī)律;并提出了消除這種變化的措施。
過程強化 偏心轉(zhuǎn)子 壓力
要產(chǎn)生振蕩運動,可利用偏心轉(zhuǎn)子。作為一種機械裝置,偏心轉(zhuǎn)子可用于許多機器設(shè)備中。但不論是現(xiàn)有技術(shù)或理論,都沒有注意到偏心轉(zhuǎn)子實際上只保證其圓心在某個方向作簡諧振動,某些情況下并不能保證由轉(zhuǎn)子驅(qū)動的構(gòu)件 (如活塞)作同樣的簡諧振動以及由此引起的相關(guān)問題,如由轉(zhuǎn)子驅(qū)動的兩活塞內(nèi)端面之間的距離不能保持恒定從而影響設(shè)備內(nèi)介質(zhì)的壓力、不能消除轉(zhuǎn)子因傾斜造成的橢圓度影響等。本文研究一種改進的轉(zhuǎn)子機構(gòu),其特點是:必要時可使由轉(zhuǎn)子驅(qū)動的構(gòu)件 (如活塞)作與轉(zhuǎn)子中心同頻率 (周期)、同振幅的簡諧振動,并使由轉(zhuǎn)子驅(qū)動的兩活塞內(nèi)端面之間的距離保持恒定,從而消除對設(shè)備內(nèi)介質(zhì)壓力的影響。
圖1所示的是利用轉(zhuǎn)子機械裝置驅(qū)動活塞以產(chǎn)生振蕩運動的一種過程強化裝置,其技術(shù)方案是[1]:在過程設(shè)備 1(內(nèi)設(shè)擋板 2)上設(shè)置與之密封配合的轉(zhuǎn)子機械振蕩裝置,使過程設(shè)備內(nèi)的流體形成湍流或充分混合,以強化工藝過程。振蕩裝置主要由活塞 3與圓柱轉(zhuǎn)子 4構(gòu)成,轉(zhuǎn)子對稱斜置,形成相位差 180°的偏心距,此即活塞振幅。將轉(zhuǎn)子橫截面繪于圖 2,由圖 2不難推得點接觸 (即活塞桿直接或通過接觸球 7與轉(zhuǎn)子接觸)時,在任意時刻,左活塞的位移是:
式中 z——活塞桿末端與轉(zhuǎn)子的接觸點 i到活塞位移為 0的平衡線 0-0的距離,即為活塞內(nèi)端面的行程;
圖1 過程強化裝置
圖2 左轉(zhuǎn)子從使活塞處于最高位置旋轉(zhuǎn)到使其處于最低位置的橫截面
R——轉(zhuǎn)子橫截面半徑;
e——轉(zhuǎn)子偏心距;
β——轉(zhuǎn)子位置角度;
同理,點接觸時在任意時刻右活塞的位移是
顯然式(1)、式(2)均不是簡諧運動 ecosβ。
經(jīng)研究得知,只有轉(zhuǎn)子頂點 d(參閱圖 3)的位移是簡諧運動 ecosβ。為了讓這一簡諧運動傳遞給活塞,經(jīng)分析,發(fā)現(xiàn)需要加一切線,即在活塞桿末端增加一接觸件 8,如圖 3(b)所示,使接觸件與轉(zhuǎn)子的橫截面相切,而接觸件的增加并沒有使結(jié)構(gòu)復(fù)雜起來。加接觸件后,活塞的位移才是 ecosβ[2],它與未加接觸件時 (通過接觸球與轉(zhuǎn)子接觸,即點接觸)的位移實際上不同,有一差距 ,如圖 3所示。
圖3 點接觸與切線接觸的比較
只有加了接觸件后,活塞的位移才是簡諧運動ecosβ;只有活塞的位移是 ecosβ,才能保證設(shè)備體積不變,從而保證設(shè)備內(nèi)流體的體積在設(shè)備運行過程中始終保持不變。分析如下:
參閱圖 2、圖 3,在任意時刻 (任意位置)時,切點 d點到 0-0線的距離,即加切線時左活塞的位移為 z=dk=cd-R=oc+od-R=oc=ecosβ。此時右活塞的位移必為 z′=-ecosβ(注意,兩轉(zhuǎn)子對稱斜置),故在任意時刻左、右活塞行程之和為 0,不會引起設(shè)備長度的變化。點接觸則不然,此時令左、右活塞行程之和
若右活塞上升或下降的距離等于左活塞下降或上升的距離,則Δ應(yīng)為 0,所以Δ實際上也是任一時刻不同λ下兩活塞內(nèi)端面間的距離變化。顯然Δ并不恒為 0,這表示當轉(zhuǎn)子與活塞點接觸時,由于左、右轉(zhuǎn)子并不各自以簡諧振動規(guī)律運行,故二者的位移并不完全對稱。由式 (3)知,Δ<0,這表示對圖 1所示的結(jié)構(gòu),機構(gòu)運行過程中兩活塞內(nèi)端面間的距離始終略呈增大狀態(tài),不會引起設(shè)備內(nèi)介質(zhì)的壓力增加,但會引起壓力降低,適用于設(shè)備空間可略有增大的場合或空間的增大對過程影響不大的場合;對不允許設(shè)備內(nèi)的壓力減小的場合會有一定影響。若要使運行過程中兩活塞內(nèi)端面間的距離呈縮小狀態(tài),只需相應(yīng)地改變轉(zhuǎn)子截面的幾何形狀。式 (3)還表明Δ以 90°為對稱,并在β=90°處為最大值 (負的),以 180°為周期。令
一些λ任一瞬間β處的δ如圖 4所示,δ也是受λ影響的,λ越大,即偏心距越大,δ越大。要改變δ的大小,需調(diào)節(jié)λ。以 R=80 mm為例,設(shè)λ=0.5,于是 e=λR=40 mm,β=90°處Δ=δe=-0.5359×40=-21.4 mm,又設(shè)設(shè)備長度 L=2000 mm,Δ/L=21.4/2000=1.07%,設(shè)備長度有一個百分點的增長。
圖4 一周內(nèi)δ受λ影響的規(guī)律
設(shè)備在運行過程中不能保證體積始終不變會有什么不良后果呢?因為流體的體積變化,就會引起其壓力發(fā)生變化,壓力變化不僅影響設(shè)備的正常運行,而且影響產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率,特別是對壓力敏感的產(chǎn)品的生產(chǎn),影響是嚴重的。下面討論由于設(shè)備長度變化導(dǎo)致體積變化所引起的壓力變化,以理想氣體為例,實際流體可以此作為參照。根據(jù)氣體體積與壓力的關(guān)系[3]有:
式中 p0——初始狀態(tài)的壓力
p1——設(shè)備運行過程的壓力
V0——初始狀態(tài)的體積
V1——設(shè)備運行過程的體積
由式 (5)得壓力降低系數(shù)為
由式 (7a)顯然可知,λ、η越大,壓力降低得越多。為了詳細看出λ、η對壓力的影響,將λ、η對m的影響規(guī)律例出如圖 5所示,也便于工程上的查圖。
圖5 λ、η對 m的影響規(guī)律
就圖 5所示的幾個實例,壓力降最多時,可達到 15%,所以在活塞桿末端加一與之垂直的接觸件很有必要。
轉(zhuǎn)子與活塞桿端部點接觸時,由轉(zhuǎn)子推動的活塞的運動不是純簡諧運動,這將使得設(shè)備運行過程中其長度有所變化,從而引起設(shè)備內(nèi)流體壓力的變化。為使設(shè)備在運行過程中其長度恒定,可在活塞桿端部設(shè)置與活塞桿垂直的接觸件,使接觸件與轉(zhuǎn)子成切線接觸,這樣即可保證由轉(zhuǎn)子推動的活塞作純簡諧運動,從而消除設(shè)備運行中流體壓力的波動。
點接觸時,設(shè)備內(nèi)流體壓力的波動呈周期變化,以π為周期;壓力變化的大小與轉(zhuǎn)子偏心距(λ=e/R)和設(shè)備長度 (η=R/L)有關(guān),λ、η越大,壓力降低得越多。本文給出了λ、η對壓力的影響規(guī)律示圖。
[1] 朱瑞林.一種工藝過程流體強化裝置 [J].石油化工設(shè)備,2006,35(1):68-71.
[2] 朱瑞林.一種轉(zhuǎn)子機械裝置 [P],中國專利:2006100843262.
[3] 韓德剛.物理化學 [M].北京:高等教育出版社,2009.2.
*國家科技部創(chuàng)新基金資助項目,編號:09C26214305047。
**朱瑞林,男,1962年生,博士,教授。長沙市,410081。
2009-12-28)