秦月香,李學(xué)亮,袁志偉,梁晉濤
(桂林電子科技大學(xué)生命與環(huán)境科學(xué)學(xué)院,廣西桂林 541004)
光尋址電位傳感器[1](LAPS)是由D.G.Haleman等人在上世紀(jì)80年代提出的,與傳統(tǒng)的電極分析法相比,LAPS具有靈敏度高、穩(wěn)定性好的優(yōu)點,且更容易實現(xiàn)陣列化、微型化。LAPS技術(shù)是生物傳感器界的一次革命,使得對細(xì)胞、DNA等大分子檢測成為一種可能,具有深遠(yuǎn)的科學(xué)意義。然而,影響LAPS輸出特性(光電流I)的因素有很多,主要包括光源調(diào)制頻率(頻率f)、光強(qiáng)、硅基底厚度以及敏感膜穩(wěn)定性等[2]。其中,光源調(diào)制頻率是影響其輸出特性的重要因素之一,傳統(tǒng)方法對光源調(diào)制頻率的研究停留在探索搜尋階段,沒有從本質(zhì)理論上出發(fā)進(jìn)行深入探究。文章在控制其它影響因子恒定的情況下,著重對光源調(diào)制頻率與光電流之間的關(guān)系進(jìn)行了研究。
EIS型光尋址電位傳感器(LAPS)的工作原理,如圖1所示。其機(jī)理實質(zhì)上是半導(dǎo)體的內(nèi)光電效應(yīng),以P型硅為例,在正偏置電壓的作用下,半導(dǎo)體內(nèi)部的載流子(電子和空穴對)相對運動,在絕緣層和半導(dǎo)體的界面處形成了一定寬度的耗盡層。當(dāng)用一定頻率的調(diào)制光照射LAPS器件的硅基底時,半導(dǎo)體內(nèi)部的電子吸收足夠量的光子后形成價帶躍遷,產(chǎn)生大量的電子空穴對。在調(diào)制光作用下電子空穴對將會交替運動,沒有來得及復(fù)合的電子空穴對擴(kuò)散到達(dá)耗盡層,在耗盡層內(nèi)建電場作用下發(fā)生分離。由于絕緣層的存在,此時在外電路可以檢測到交變的光生電流[3]。
1-電解質(zhì)溶液;2-敏感膜;3-絕緣層;4-耗盡層;5-基底層;6-歐姆接觸;7-電流表;8-偏置電壓;9-控制電極;10-光源
1.1LAPS等效電路模型
LAPS的模型電路如圖2所示。圖中表示光電流Ig,Rp、Cd分別表示耗盡層的電阻和電容。CEL代表絕緣層和溶液總的等效電容。光電流中含有直流和交流分量,當(dāng)載流子濃度達(dá)到最大調(diào)制時,Ig=ig(1+sinωt);Rp的大小隨偏置電壓的變化而變化。當(dāng)LAPS芯片表面電荷處于積累狀態(tài)時,Rp幾乎為零;當(dāng)LAPS芯片表面處于強(qiáng)反型時,Rp取得最大值。Rp不僅取決于偏置電壓的大小,還與光強(qiáng)和調(diào)制頻率有關(guān)[4-5]。
LAPS檢測到的是回路中電流Im的交流成分im,im由式子(1)給出:
(1)
當(dāng)調(diào)制頻率小于[2πRp(Cd+CEL)]-1時,im約為jωCELRpig,與調(diào)制頻率成正比。由于Rpig與光強(qiáng)的對數(shù)成正比,所以在低頻下im亦與光強(qiáng)的對數(shù)成正比。當(dāng)頻率大于[2πRp(Cd=CEL)]-1時:
(1)
im取決于i及耗盡層電容Cd.
圖2 LAPS模型電路
1.2等效電路模型數(shù)值仿真
由LAPS等效電路可知,回路中的光電流與光源調(diào)制頻率有密切的關(guān)系。經(jīng)過實驗研究分析,對320 μm的P型硅LAPS芯片的偏置電壓、耗盡層電阻等相關(guān)參數(shù)初值進(jìn)行設(shè)定,如表1所示,然后對光電流和光源調(diào)制頻率的關(guān)系進(jìn)行數(shù)值模擬。
表1 參數(shù)初值表
由LAPS等效模型電路得到,光電流的數(shù)學(xué)模型如式(3)所述:
(3)
隨著光源調(diào)制頻率的增加,光電流不斷增大,當(dāng)調(diào)制頻率為[2πRp(Cd+CEL)]-1時,回路中的光電流取得最大值;當(dāng)調(diào)制頻率大于[2πRp(Cd+CEL)]-1時,隨著調(diào)制頻率的增加,回路中的光電流將不斷衰減,并趨于零。所以,在進(jìn)行光照實驗時,要選擇一個合適的光源調(diào)制頻率,使得回路中的光電流達(dá)到一個最大值[6-7]。光源調(diào)制頻率與光電流的數(shù)值仿真結(jié)果如圖3所示。
圖3 光電流與調(diào)制頻率的關(guān)系
選用320 μm的P型硅制成LAPS芯片,表面濺射100 nm厚的SiO2絕緣層,用100 nm的Si3N4作為H+敏感膜,將其固定在遮光的PVC塑料盒底部,組成測量池。光源發(fā)射器選用HLD980050激光二極管,中心波長為960 nm,采用幅頻可調(diào)的正弦信號驅(qū)動激光頭。參比電極選用甘汞電極,輔助電極選用鉑電極,敏感硅片作工作電極。采用CHI660D型電化學(xué)工作站驅(qū)動三電極系統(tǒng),并檢測光生電流信號。系統(tǒng)測量平臺如圖4所示。
1-光源;2-參比電極;3-輔助電極;4-測量池;5-LAPS芯片;6-電化學(xué)工作站;7-計算機(jī)
2.1測量結(jié)果
在LAPS傳感器測試時,采用光源背面照射LAPS芯片,測試溶液是pH值為9.18的標(biāo)注緩沖液,實驗過程中不改變其他條件,只將光源調(diào)制頻率1 Hz變化到10 kHz,遞增幅度為100 Hz,測量得到的I-f特性曲線如圖5所示。
圖5 光電流與調(diào)制頻率關(guān)系實測結(jié)果圖
由圖5中可以清晰的看出光電流隨著光源調(diào)制頻率的增大會先增大后變小的,最后趨于零的總體趨勢,當(dāng)調(diào)制頻率在1 000Hz時,光電流幅度達(dá)到最大,且線性度較好,過度區(qū)間大,因此,系統(tǒng)選擇調(diào)制頻率為1 000 Hz.
2.2結(jié)果分析
為了能更直觀的說明在光源調(diào)制頻率為1 000 Hz時,光電流信號的信號強(qiáng)度最大,通過編程,分別對信號各頻率點的信噪比進(jìn)行了計算。信噪比[8]公式為:
由表2可以看出,光源調(diào)制頻率在1 000 Hz時,信號的信噪比達(dá)到了最大。隨著頻率的增加,信號的信噪比先增大后減小,其原因是當(dāng)頻率較高時,電子—空穴對來不及被耗盡層電場分開,光電流將下降;當(dāng)頻率較低時,就會影響電子—空穴對的分離與積累[9-10]。
表2 信噪比比較
文中詳細(xì)闡述了EIS型光尋址電位傳感器光源調(diào)制頻率與光電流的關(guān)系,在此基礎(chǔ)上提出了LAPS傳感器的等效電路,對傳感器的I-f的特性進(jìn)行了數(shù)值模擬,得到了其特性曲線。為了驗證模型的可行性,采用CHI660D型電化學(xué)工作站對傳感器的實際I-f特性曲線進(jìn)行了研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),實際采集得到的I-f特性曲線與理論上仿真曲線一致性好。實驗證明:選擇合適的光源調(diào)制頻率對于LAPS傳感器的研制具有重要的意義。接下來的研究工作中,將在文中的基礎(chǔ)上去深入研究如何提高光電流信號與其它參數(shù)的關(guān)系。經(jīng)過不斷地實驗、研究、創(chuàng)新,LAPS傳感器性能將會不斷提高。
參考文獻(xiàn):
[1]張志勇,陳興梧,牛文成,等.光尋址電位傳感器測量系統(tǒng)的研究.儀表技術(shù)與傳感器,2003,(12):34-36.
[2]梁衛(wèi)國.光尋址電位傳感器系統(tǒng)的設(shè)計與實現(xiàn):[學(xué)位論文],北京:中國科學(xué)院電子學(xué)研究所,2001.
[3]張高燕,王平,張欽濤.基于數(shù)字補(bǔ)償?shù)亩喙庠磳ぶ凡⑿袡z測電位圖像傳感器.計量學(xué)報,2002,23(3):182-185.
[4]牛文成,孫學(xué)珠,楊東民,等.EIS型光尋址電位傳感器及其對液體分析的研究.光學(xué)學(xué)報,1997,17(12):153-156.
[5]牛文成,孫學(xué)珠,孫杰,等.EIS并列型光尋址半導(dǎo)體體液分析傳感器研究.電子科學(xué)學(xué)刊,1998,20(6):815-820.
[6]WAGNER T,YOSHINOBU T,RAO C,etal.“All-in-one” solid-state device based on a light-addressable potentiometric sensor platform.Sensors and Actuators B,2006(117):472-479.
[7]ZHANG Q T.Theoretical analysis and design of submicron-LAPS.Sensors and Actuators B,2005(105):304-311.
[8]高晉占.微弱信號檢測.北京:清華大學(xué)出版社,2011.
[9]韓涇鴻,崔大付,李全政,等.一種新型生物化學(xué)圖象傳感器的研究.中國生物醫(yī)學(xué)工程學(xué)報,2000(4):477-480.
[10]牛文成,喻駿,林立旻,等.光掃描型pH圖象傳感器測試條件的研究與分析.傳感技術(shù)學(xué)報,2004(2):205-208.