齊 海,張金柯,白占旗,劉武燦
(浙江省化工研究院有限公司,浙江杭州 310023)
氮氣是空氣中含量最多的組分,約為78%,其次是氧氣,約為21%,二氧化碳占0.03%,剩余的0.97%為稀有氣體(氦 He、氖 Ne、氬 Ar、氪 Kr、氙Xe、氡Rn等)。因此,對于氣體行業(yè),氮氣是最容易引入,也是含量較高的雜質(zhì)之一。優(yōu)化N2吸附工藝以及研究篩選相應吸附劑,對空分制氧、濃縮煤層氣和天然氣中的CH4、去除電子氣體中微量N2有著十分重要的意義。同時,脫除高選擇性吸附劑上的N2可制得高純度N2,這對于制備高純N2這一重要的大宗工藝用氣也意義重大[1]。
根據(jù)吸附劑的再生方法,吸附分離工藝可分為兩種:變壓吸附(Pressure Swing Adsorption,PSA)和變溫吸附(Temperature Swing Adsorption,TSA)[2]。變壓吸附及變溫吸附示意圖如圖1所示[2]。
圖1 變壓、變溫吸附概念示意圖Fig.1 The diagramof PSA&TSA
圖中橫坐標為變壓吸附的分壓,縱坐標為單位吸附劑的吸附量。由圖可知,加壓降溫有利于吸附質(zhì)的吸附,而降壓加溫有利于吸附質(zhì)的解吸或吸附劑的再生。
TSA技術吸附溫度通常需要到達液氮溫度[8],對操作要求較高,相比之下,PSA技術工藝適用性強,操作靈活,成本低廉[3],所以工業(yè)上 N2吸附只有少數(shù)采用TSA技術,絕大多數(shù)為PSA技術。PSA技術被廣泛應用于O2/N2分離、CH4/N2分離、高純氣中N2的深度脫除以及制N2工藝。其原理是根據(jù)吸附劑對N2及其他組分吸附性能上微小的差異,在高壓下循環(huán)吸附N2。PSA的核心在于吸附劑,吸附劑的性能直接影響工藝步驟的復雜性、吸附裝置的壽命,以及最終的吸附分離效果,進而影響吸附能耗以及生產(chǎn)成本。因此,采用PSA技術時,對于吸附劑的選擇尤為重要。藺華林[4]等介紹了O2/N2分離中PSA吸附劑的研究進展,指出目前對于富氧吸附劑的研究主要集中在對沸石分子篩4A和13X的改性上。楊江峰等[5]介紹了CH4/N2的主要分離技術,其中針對PSA技術的吸附劑種類主要有活性炭、碳分子篩、沸石分子篩等。20世紀80年代西南化工研究院[6]報道了煤層CH4濃縮的PSA工藝專利,該工藝采用活性炭和碳分子篩做吸附劑,可將煤層氣中的CH4含量從30.4%濃縮到63.9%。增加多次置換步驟后,可進一步達到99.4%,但該工藝尚未在工業(yè)上應用[5]。對于在高純氣中N2的深度脫除報道相對較少,李盛姬[7]等報道了采用PSA技術在含氟電子氣體制備中的應用。
O2是一種重要的工業(yè)原料氣體,被廣泛應用于金屬冶煉、廢水處理等領域。最初人們用A型和X型分子篩進行O2/N2分離[9-10],但因其分離效率低、選擇性差,逐漸被離子改性或者含有不同Si/Al比的分子篩所代替。
M S A Baksh[11]等研究發(fā)現(xiàn),采用 Li+離子交換后的分子篩,相比于Na+離子交換對N2有更大的吸附容量和吸附選擇性。John F Kirner等[12]進一步研究發(fā)現(xiàn),Li+交換度必須大于70%,同時Si/Al=1時,才會使X分子篩對N2的吸附容量增加。專利US4859217[13]中研究發(fā)現(xiàn),當 Li+交換度大于 90%時,X分子篩表現(xiàn)出超常的 N2吸附能力。專利US4544378[14]中研究表明,單價堿金屬離子交換后的X型分子篩對N2的吸附能力順序如下:Li+>Na+>K+>Rb+>Cs+。在研究了一價金屬離子交換改性之后,研究人員繼而研究了二價離子改性。Chien C等人[15]嘗試通過引入Ca2+離子改性X型分子篩。當Ca2+交換度在60% ~89%,分子篩的Si/Al=2.0~2.4的時候,改性的分子篩可以用于PSA 吸附 N2。ShivajiSircar[16]研究得出,將 Sr2+金屬離子引入X型分子篩后,可以吸附空氣中的N2以生產(chǎn)富氧化的產(chǎn)品。
在研究引入單一金屬離子的同時,也有研究者嘗試引入兩種不同的金屬離子。Chien C等[17]用Li+和堿土金屬離子對A型及X型分子篩進行離子改性(Li+/堿土金屬離子比值從50% ~95%),發(fā)現(xiàn)相比于單一的堿土金屬離子交換,雙金屬離子改性后的分子篩對N2有更大的吸附能力和熱穩(wěn)定性,并且改性后的吸附劑可用于變壓吸附分離氧氮。美國AP 公司的專利[18-19]將 Li與 Ba、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Ni、Zn中的一種同時引入分子篩,對于N2/O2的吸附選擇性最高可達到9.4,在此基礎上AP公司研究了引入Li+與堿土金屬Ca2+、Sr2+改性也具有良好的N2吸附性能[20],對于N2/O2的吸附選擇性進一步提高可達到10.8。
對于不同Si/Al的分子篩研究[4],低Si/Al比分子篩(LSX,Si/Al=1)比普通分子篩的N2吸附量更高。圖2是Li+交換后的不同Si/Al比分子篩對N2吸附容量的影響。
圖2 N2在Li沸石上的吸附Fig.2 The adsorption of N2on Li zeolite
由圖可知,在相同的Li+交換度下,低Si/Al比有更高的N2吸附量,隨著Li+交換度升高時,N2吸附量顯著升高。
我國煤層氣資源豐富,探明儲量為36萬億m3[5],其主要是CH4和空氣的混合氣體。CH4不僅是一種低碳能源而且也是一種溫室氣體,因此煤層氣回收利用具有能源開發(fā)和環(huán)保的雙重意義。
CH4與N2的物理性質(zhì)相似,很難分離,因此煤層氣回收利用的核心技術在于CH4和N2的分離。采用吸附法分離CH4和N2的技術,最早可追溯到1958 年[21]。Herry[21]等人發(fā)明了用沸石分子篩作為兩者分離的吸附劑,并且發(fā)現(xiàn)在低溫下有利于N2的吸附。Yang[22]等人研究報道了將天然斜發(fā)沸石用于CH4/N2的分離。其后又有研究者發(fā)現(xiàn)用Ca2+、Mg2+改性后的斜發(fā)沸石對N2有更好的吸附選擇性[23]。金淑明[24]等人研究發(fā)現(xiàn),相對于 Li+、K+、Ca2+、Mg2+、Sr2+,Na+交換后的斜發(fā)沸石有更高CH4/N2分離因子。然而Jodie E[25]等研究指出Na+離子含量過高反而會降低吸附容量,低Na+改性斜發(fā)沸石的吸附性能要優(yōu)于高Na+改性。
近來,人們逐步開始研究鈦硅類新型分子篩(ETS)在CH4/N2分離中的應用,其中氣體分離應用效果最好的是 ETS-4[26]。Renjith 等[27]發(fā)現(xiàn) Na-ETS-4在303 K溫度下,對CH4/N2的分離系數(shù)可達3左右。將Na+與Sr2+交換后,可制備Sr-ETS-4分子篩,由于其孔結構的收縮,N2可進入孔內(nèi),而CH4則停留在空氣中,N2與CH4的吸附比能達到10.1[26,28-29]。
與傳統(tǒng)的多孔材料與分子篩相比,新型的多孔材料金屬有機骨架材料(metal-organic framework,MOFs)由于其密度小,比表面積大,孔徑均勻且結構多樣化,得到了普遍的關注[5]。Zhou 等[30]研發(fā)了具有三維結構的MOFs材料MAMS-1,在113 K的溫度下對N2的吸附量為2.4mmol/g,而對CH4的吸附量不足0.7mmol/g。
高純氣屬于特種氣體,主要用于醫(yī)療行業(yè)以及半導體、太陽能電池等電子行業(yè)。目前對于采用吸附法除去高純氣體中N2雜質(zhì)的相關報道較少,主要集中在SF6以及高純惰性氣體的提純這兩方面。
高純SF6產(chǎn)品主要用于電子工業(yè)中的刻蝕及清洗過程。電子行業(yè)對于SF6的純度要求非常高,需要達到4N~5N?,F(xiàn)階段脫除SF6中N2主要采用吸附工藝。李中元[31]采用分子篩做吸附劑,利用PSA技術分離SF6與N2,可將SF6純度從15.7%提純到99.998%,收率95%。日本氧氣公司[32]發(fā)明了一套分離SF6和N2的裝置,經(jīng)過活性炭和5A分子篩二級吸附,能得到含量為99.998%的超高純SF6產(chǎn)品。
惰性氣體提純方面,黃建彬[33]等采用活性炭作為吸附劑,用TSA技術,在液氮冷卻條件下分離He中的O2和N2雜質(zhì),經(jīng)過整個除雜步驟后得到的He純度達到99.999%。日本大陽日酸公司[34]開發(fā)了變溫型吸附劑Cu-ZSM5沸石,通過吸附,得到的惰性氣體中N2的含量小于1×10-6,可直接用于半導體電子行業(yè)。王寧等[35]發(fā)明了一種惰性氣體純化器,該種純化器通過化學吸附,將N2在一定溫度下與鋯鋁合金反應生成穩(wěn)定固溶體的方法來去除N2。
人們很早就開始研究N2的吸附技術,從最初的TSA技術,逐漸發(fā)展到現(xiàn)在以PSA技術為主,TSA為輔。對于吸附劑的研究,主要集中在不同分子篩的選擇及改性方面。隨著我國半導體電子行業(yè)的興起、低碳能源的開發(fā)與利用以及對于大宗氣體(如O2、N2)需求量的不斷提高,開發(fā)高分離比、高吸附選擇性的吸附劑成為現(xiàn)階段PSA技術中主要的研究方向。解決這一問題不僅能夠產(chǎn)生巨大的經(jīng)濟和環(huán)境效益,而且有利于我國能源領域,半導體電子行業(yè)以及空分產(chǎn)業(yè)的進一步發(fā)展與壯大。
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