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國產(chǎn)離子膜DF988在DD350電解槽上的應(yīng)用

2014-11-22 02:04張佳興齊長亮董文虎孫廣軍孫玉堂陳光強(qiáng)
中國氯堿 2014年2期
關(guān)鍵詞:電流效率氯堿電解槽

張佳興,齊長亮,董文虎,孫廣軍,孫玉堂,陳光強(qiáng)

(營創(chuàng)三征(營口)精細(xì)化工有限公司 遼寧營口 115003)

在營創(chuàng)三征試用國產(chǎn)離子膜之前,國產(chǎn)離子膜已在5家氯堿工廠開始了應(yīng)用。營創(chuàng)三征及這前應(yīng)用的單位和槽型見表1。

作為國內(nèi)自主開發(fā)的第一代離子膜DF988,其定位特點(diǎn)就是高強(qiáng)度和安全性,若想驗(yàn)證DF988真正具有高強(qiáng)度和高安全性,最好的辦法就是在DD350電解槽上試用,因?yàn)樵撾娊獠垭姌O有效面積3.5 m2,是目前電極面積最大,對(duì)離子膜要求最苛刻的電解槽。東岳集團(tuán)國產(chǎn)離子膜生產(chǎn)企業(yè)經(jīng)項(xiàng)目人員經(jīng)過現(xiàn)場考察首選營創(chuàng)三征(營口)精細(xì)化工有限公司作為試用單位,并上報(bào)國家科技部獲得批準(zhǔn)。

1 DF988離子膜特性

DF988與國外同類型高強(qiáng)度離子膜物理性能對(duì)比見表2。

從表中可以看出,國產(chǎn)DF988與國外同類型膜物理性能相近甚至高于國外膜。

表1 國產(chǎn)DF988在營創(chuàng)三征及之前應(yīng)用單位和槽型統(tǒng)計(jì)

表2 DF988與國外同類型高強(qiáng)度離子膜物理性能對(duì)比

與國外同類型高強(qiáng)度膜一樣,DF988是無犧牲芯材的離子膜,為了發(fā)揮羧酸樹脂和磺酸樹脂各自優(yōu)勢,DF988同樣用較厚的磺酸層/PTFE 網(wǎng)布/較薄的羧酸層復(fù)合而成,這樣才能保證在較高的電流效率前提下,膜電阻最小。當(dāng)然,為了降低氣泡效應(yīng)對(duì)槽電壓的影響,性能卓越的親水涂層也用來改善膜表面。

DF988采用了自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)專利技術(shù),全氟磺酸層和全氟羧酸層之間形成無界面融合狀態(tài),與國外膜相比,DF988大大提高了2層之間結(jié)合的牢固度,具有更優(yōu)良的抗起泡能力,同時(shí),通過層間結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)和樹脂匹配,賦予離子膜突出的對(duì)鹽水雜質(zhì)耐受性。

2 DD350氯堿裝置特性

該公司迪諾拉DD350氯堿裝置燒堿生產(chǎn)能力20 000 t/a,共有5臺(tái)電解槽組成,其DD350型電解槽技術(shù)特性如下。

電解槽形式: 復(fù)極,純自然循環(huán)

極間距:0(膜極距)

有效電極面積:3.5 m2

單元槽數(shù)量:30

設(shè)計(jì)負(fù)載:11.7 kA

電流密度:3.35 kA/m2

最大電流運(yùn)行:13 kA

最大電流密度:3.71 kA/m2

原設(shè)計(jì)離子膜選型:N966

離子膜尺寸:1 310×3 000 mm

DD350電解槽的獨(dú)特的性能,也必然對(duì)配套離子膜有著極度苛刻的要求:

(1)在所有的電解槽中,DD350是有效電極面積最大的槽型,也必然對(duì)離子膜強(qiáng)度要求最高,原裝置專利商意大利迪諾拉轉(zhuǎn)讓當(dāng)初明確指定,唯一滿足配套強(qiáng)度要求離子膜是杜邦N966。

(2)由于DD350電極面積大,陰、陽極液體又采用純自然循環(huán),不能保證整個(gè)膜面的電解液濃度分布均勻性,因此,對(duì)離子膜抗氣泡能力有極高的要求,而DF988采用自主專利技術(shù),使磺酸層與羧酸層形成無界面融合狀態(tài),理論上應(yīng)有更強(qiáng)的抗起泡能力。

(3)循環(huán)液分布不均,能引起局部的氣泡效應(yīng)增強(qiáng),DF988采用卓越的親水性涂層,以降低氣泡效應(yīng)對(duì)槽電壓的影響就顯得十分的重要。

由此可見,DD350電解槽對(duì)離子膜的特殊要求,DF988的設(shè)計(jì)者都被重點(diǎn)考慮和給出很好的解決方案。

3 運(yùn)行情況

營創(chuàng)三征(營口)精細(xì)化工有限公司現(xiàn)有兩套電解裝置,其中,年產(chǎn)4萬t燒堿裝置采用3臺(tái)藍(lán)星北化機(jī)ZMBCH-2.7型電解槽,為自然循環(huán)復(fù)極式電解槽。另一套裝置就是年產(chǎn)2萬t燒堿,5臺(tái)DD350電解槽,為零極距復(fù)極式電解槽自然循環(huán)工藝。該套裝置已運(yùn)行18年,裝置配有實(shí)時(shí)在線單元槽電壓檢測和離子膜泄漏監(jiān)測系統(tǒng),對(duì)離子膜的試用數(shù)據(jù)采集十分有利。

2012年1月20日,該公司DD350裝置的變壓器因局部絕緣老化燒壞,新做1臺(tái)變壓器周期需要至少50天,于是用這次更換變壓器,電解槽停車檢修時(shí)機(jī),安裝國產(chǎn)DF988膜試用,同期也將B、C 槽整臺(tái)更換了進(jìn)口新膜。

2012年3月9日上午,電解送直流電,開車一次成功。經(jīng)過72 h 運(yùn)行考核,國產(chǎn)DF988和進(jìn)口膜性能都能達(dá)到都達(dá)到設(shè)計(jì)保證值95%以上,DF988和進(jìn)口膜電流效率均保證在95%以上,裝DF988膜E 槽比裝進(jìn)口膜的B、C 槽單元槽電壓低約20 mV。

DF988運(yùn)行數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)見表3。

長期運(yùn)行數(shù)據(jù)表明DF988與進(jìn)口膜保持穩(wěn)定一致電流效率,運(yùn)行電流效率對(duì)比見圖1。

運(yùn)行14個(gè)月統(tǒng)計(jì)裝DF988膜的電解槽與裝進(jìn)口膜電解槽的單元槽電壓比見圖2。

安裝DF988膜和同期進(jìn)口膜運(yùn)行已14個(gè)月,期間停車4次,非計(jì)劃停車2次,沒有發(fā)現(xiàn)對(duì)離子膜有明顯的影響。

有2張DF988膜,運(yùn)行10個(gè)月,電壓在線監(jiān)測表現(xiàn)異常,檢修時(shí)下線,檢查發(fā)現(xiàn)分別有大約15 mm、20 mm 的裂口,分析認(rèn)為,可能2張膜在裁剪或安裝過程產(chǎn)生過折傷,長時(shí)間運(yùn)行逐漸變成裂口。該公司采用進(jìn)口膜補(bǔ)丁,嘗試了補(bǔ)膜。DF988膜修補(bǔ)效果和以往進(jìn)口膜沒有什么區(qū)別,準(zhǔn)備重新裝槽,征求國產(chǎn)膜生產(chǎn)企業(yè)的意見,認(rèn)為沒經(jīng)過檢測,僅憑經(jīng)驗(yàn)感覺就直接使用存在一定風(fēng)險(xiǎn),有必要先經(jīng)過實(shí)驗(yàn)室檢測,再考慮裝槽,于是2張膜發(fā)回東岳進(jìn)行實(shí)驗(yàn)室檢測。

表3 DF988運(yùn)行數(shù)據(jù)

4 結(jié)論

DF988作為高強(qiáng)度離子膜研發(fā),其檢測指標(biāo)已達(dá)到和部分指標(biāo)已超過國外同類型膜水平。在DD350電解槽上的應(yīng)用運(yùn)行數(shù)據(jù)表明:

(1)在具有最大電極面積電解槽的情況來看,屬于的高強(qiáng)度膜。從強(qiáng)度性能看,DF988膜將能滿足當(dāng)前所有電解槽對(duì)離子膜的強(qiáng)度要求。

(2)在最大電極面積,純自然循環(huán)淡鹽水濃度分布不均的電解槽表現(xiàn)優(yōu)良出的抗起泡能力,將能滿足其他槽型對(duì)離子膜抗起泡性能的要求。

(3)DF988比國外同類型離子膜具有較低的膜電阻。

(4)DF988電流效率與國外進(jìn)口同類型膜保持同等水平。

(5)親水涂層有利于降低槽電壓,如果DF988在有極距槽型應(yīng)用,為了降低氣泡效應(yīng)的影響,親水涂層更是不可或缺的。

(6)DF988作為無犧牲芯材離子膜,建議在電流密度≤4.5 kA/m2的電解槽上使用。對(duì)于運(yùn)行電流密度大于4.5 kA/m2的電解槽,應(yīng)該考慮選用國產(chǎn)有犧牲芯材的離子膜DF2801。

(7)DF988膜與國外膜應(yīng)該同樣具有針孔和小的裂口的可修補(bǔ)性,希望東岳方面盡快進(jìn)行國產(chǎn)膜的修補(bǔ)相關(guān)檢測數(shù)據(jù)和修補(bǔ)方法的進(jìn)一步研究。同時(shí),也能配套提供專用的膜補(bǔ)丁。

[1]張文雷.氯堿行業(yè)2012年經(jīng)濟(jì)運(yùn)行分析及2013年走勢展望.中國氯堿,2012,(2):1-3.

[2]于昌國,王 婧,王學(xué)軍,張 恒,張永明.萬噸級(jí)國產(chǎn)離子膜示范裝置運(yùn)行情況.氯堿工業(yè),2012,48(11):17-19.

[3]高自宏,王學(xué)軍,張恒,張永明.氯堿用國產(chǎn)離子膜研發(fā)及應(yīng)用.氯堿工業(yè),2010,46(10):11-16.

[4]楊振偉,崔曉兵.國產(chǎn)離子膜DF988的應(yīng)用.中國氯堿,2011,(8):11-13.

[5]王學(xué)軍,于昌國,王 婧,張永明,張恒.國產(chǎn)氯堿離子膜的應(yīng)用與研究進(jìn)展.中國氯堿,2012,(6):1-4.

[6]楊振偉,崔曉兵.國產(chǎn)氯堿離子膜最新應(yīng)用情況.中國氯堿,2012,(11):7-10.

[7]方 度,楊維驛.全氟離子交換膜-制法、性能和應(yīng)用.化學(xué)工業(yè)出版社,1993,6.

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