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基于Sentaurus Device的4H—SiC PiN二極管的仿真

2014-12-25 08:58:37孫佳哲王磊
電腦知識(shí)與技術(shù) 2014年33期
關(guān)鍵詞:空穴二極管電流密度

孫佳哲 王磊

摘要:該文通過4H-SiC PiN二極管的模擬,給4H-SiC PiN二極管加了一個(gè)5V電壓,在室溫T=300K的情況下分析了4H-SiC PiN二極管的直流特性和溫度特性,從而介紹了Synopsys Inc.開發(fā)的新一代的器件物理特性仿真工具Sentaurus Device的一些仿真功能。

關(guān)鍵詞:4H-SiC PiN二極管;Si;SenTaurus Device

中圖分類號(hào):TP31 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1009-3044(2014)33-8034-04

電子電流密度要大于空穴電流密度。當(dāng)溫度在300K-450K的時(shí)候電流密度是隨著溫度的增加而增加,在T=450K附近的時(shí)候電流密度達(dá)到了最大值,當(dāng)溫度在450K-600K的時(shí)候電流密度隨著溫度增加而減小。

3 總結(jié)

利用器件模擬軟件Sentaurus Device對(duì)4H-SiC PiN 二極管的直流特性進(jìn)行模擬。通過模擬 4H-SiC PiN 二極管的直流正向 I-V 特性、開關(guān)特性,載流子密度等特性。器件的導(dǎo)通電壓為2.6V 左右,同時(shí)漂移區(qū)少子濃度(空穴)增至5e+17[cm-3]比漂移區(qū)摻雜濃度1e+15[cm-3]高出倆個(gè)數(shù)量級(jí)。通過模擬發(fā)現(xiàn) 4H-SiC PiN 二極管的正向?qū)妷弘S著溫度的升高而逐漸減小。

參考文獻(xiàn):

[1] B.Jayant Baliga. Fundamentals of Power Semiconductor Devices[J].Springer 2008.

[2] Michael Shur, Sergey Rumyantsev, Michael Levinshtein. SiC Materials and Devices[M].Publishing House of Electronics Industry,2012.

[3] B.J.Baliga.Power Semiconductor Devices[M].PWS Publishing Co,1996.

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