朱南京 李濤 彭世通 張洪潮
(大連理工大學機械工程學院 遼寧大連 116024)
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LPCVD法制備TiO2納米薄膜的生命周期評價*
朱南京李濤彭世通張洪潮
(大連理工大學機械工程學院遼寧大連 116024)
摘要針對納米材料生產(chǎn)的高能耗、低生產(chǎn)率的特點,用生命周期評價(LCA)方法對納米TiO2薄膜生產(chǎn)過程進行了環(huán)境影響評價,并通過設(shè)置不同的低壓化學氣相沉積過程(LPCVD)工藝參數(shù),研究了工藝參數(shù)中溫度和壓強對于TiO2薄膜評價結(jié)果的影響。研究顯示,納米TiO2薄膜生產(chǎn)階段的環(huán)境表現(xiàn)受LPCVD過程工藝參數(shù)影響,評價結(jié)果可用于指導(dǎo)LPCVD工藝優(yōu)化。
關(guān)鍵詞低壓化學氣相沉積生命周期評價二氧化鈦薄膜
Life Cycle Assessment of Nano-TiO2Film Preparation by LPCVD
ZHU NanjingLI TaoPENG ShitongZHANG Hongchao
(SchoolofMechanicalEngineering,DalianUniversityofTechnologyDalian,Liaoning116024)
AbstractIn view of the shortcomings of high energy consumption and low productivity in nano materials production process, life cycle assessment is used to evaluate the environmental impact of nano-TiO2film production stage. By setting different LPCVD parameters, the impact of temperature and pressure on the evaluation result is also studied. This study shows the environmental performances of nano-TiO2film production stage are influenced by LPCVD process parameters, and the assessment result is the basic for the LPCVD process optimization.
Key Wordslow-pressure chemical vapor depositionlife cycle assessmentnano-TiO2film
0引言
納米技術(shù)已成為引領(lǐng)世界科學技術(shù)發(fā)展的前沿領(lǐng)域之一。在大力發(fā)展納米產(chǎn)業(yè)的同時,應(yīng)注意納米材料的制造是資源和能量密集型產(chǎn)業(yè),納米技術(shù)的可持續(xù)性研究已經(jīng)成為熱點。
納米TiO2薄膜具有特殊光物理和光化學性質(zhì),在半導(dǎo)體、功能材料和環(huán)境保護等方面被廣泛應(yīng)用。低壓化學氣相沉積(LPCVD)是制備納米TiO2薄膜的方法之一,該方法容易得到純度高、均勻性和重復(fù)性好的銳鈦礦。目前研究重點在該方法制備納米TiO2薄膜的性能和生產(chǎn)率,忽視了其能耗高、環(huán)境污染大的缺點。楊君峰[1]建立了LPCVD制備TiO2薄膜的參數(shù)化熱力學模型,并研究了該過程的能量耗散機理。本文采用ISO 14040中LCA方法,對納米TiO2薄膜的LPCVD制備過程環(huán)境影響進行了系統(tǒng)的評價。
1LPCVD工藝介紹
LPCVD方法基本原理是利用Ti(OC3H7)4(異丙醇鈦)作為前驅(qū)體,在高溫低壓下發(fā)生水解反應(yīng),其化學反應(yīng)方程式為:
Ti(OC3H7)4+4H2O→Ti(OH)4+4C3H7OH
(1)
Ti(OH)4→TiO2+2H2O
(2)
該方法制備納米TiO2薄膜的裝置如圖1。運載氣體N2將反應(yīng)氣體Ti(OC3H7)4和水蒸氣輸送到反應(yīng)容器中,到達反應(yīng)區(qū)后,由于主氣流與基片表面存在著濃度差,反應(yīng)氣體因擴散作用到達并吸附在基片表面,發(fā)生化學反應(yīng)(1)和(2)。
1—N2;2—流量計;3—恒溫槽;4—異丙醇鈦;5—水;
制備TiO2薄膜時,為了獲得低壓和高溫環(huán)境,大量能量輸入到LPCVD系統(tǒng)中,但只有極少量的能量用于薄膜制備。納米TiO2薄膜生命周期如圖2所示,薄膜生長率一般僅為1~30 nm/min,末端排放物含有大量未反應(yīng)的前驅(qū)體Ti(OC3H7)4,TiO2顆粒等對人體和環(huán)境有影響的物質(zhì)。
圖2 納米TiO2薄膜生命周期示意圖2 LCA目標及范圍確定
生命周期評價(LCA)是匯總和評估一個產(chǎn)品、過程(或服務(wù))體系在其整個生命周期間的所有投入及產(chǎn)出對環(huán)境造成潛在影響的方法。
本文研究目的是匯總納米TiO2薄膜生命周期過程中所涉及的資源、能源利用及污染排放數(shù)據(jù),設(shè)置不同的LPCVD工藝條件得到環(huán)境影響評價結(jié)果,確定環(huán)境友好的工藝參數(shù),為TiO2薄膜的生產(chǎn)工藝優(yōu)化提供支持。
本研究選取0.1 mol的TiO2薄膜作為功能單元,評價范圍是納米TiO2薄膜的制造階段,即原料開采到最終TiO2薄膜的制備完成,如圖2。計算過程中所使用的數(shù)據(jù)來源有:原材料的開采及生產(chǎn)過程數(shù)據(jù)來自行業(yè)平均水平(CLCD數(shù)據(jù)庫)、主要排放物數(shù)據(jù)來自全國污染源普查及《中國統(tǒng)計年鑒》[2]、LPCVD工藝過程能耗、物耗及排放等數(shù)據(jù)來自于文獻[1-3]、其余工藝過程根據(jù)化學平衡計算得到。
3生命周期清單分析
清單分析是對產(chǎn)品、工藝過程或活動等研究系統(tǒng)整個生命周期階段,資源和能源的使用及向環(huán)境排放廢物進行定量的技術(shù)過程。選取LPCVD工藝參數(shù)為673 K,500 Pa,分析得到制備0.1 mol的TiO2薄膜的制備過程的資源消耗見表1。匯總制備0.1 mol的TiO2薄膜的主要環(huán)境排放物見表2。
表1 Ti(OC3H7)4生產(chǎn)及LPCVD過程資源消耗
表2 TiO2薄膜生命周期主要環(huán)境排放物
4生命周期影響評價
生命周期影響評價(LCIA)是根據(jù)清單分析過程中列出的要素對環(huán)境影響進行定性和定量分析。
為得到納米TiO2薄膜環(huán)境影響負荷評價結(jié)果及影響指數(shù),由EPA和ISO[4]關(guān)于LCA的影響評價階段的概念框架,將本研究的生命周期環(huán)境影響評價分為環(huán)境影響潛值計算、標準化、加權(quán)等步驟[5],納米TiO2薄膜的LCIA框架如圖3所示,本文選取全球變暖、酸化、富營養(yǎng)化、光化學煙霧、生態(tài)毒性5種環(huán)境影響類型作為影響評價指標。
圖3 納米TiO2薄膜的LCIA框架
環(huán)境影響潛值是各種環(huán)境排放物質(zhì)對各種環(huán)境影響類型的潛在貢獻。產(chǎn)品的環(huán)境影響潛值指整個產(chǎn)品系統(tǒng)中所有環(huán)境排放影響的總和,計算方法為:
EP(j)=∑EP(j)i=∑[Q(j)i×EF(j)i]
(3)
式中,EP(j)為產(chǎn)品系統(tǒng)對第j種潛在環(huán)境影響的貢獻;EP(j)i為第i種排放物質(zhì)對第j種潛在環(huán)境影響的貢獻;Q(j)i為第i種物質(zhì)排放量;EF(j)為第i種排放物質(zhì)對第j種潛在環(huán)境影響的當量因子。
數(shù)據(jù)標準化是為了對各種影響類型的相對大小提供一個可比較的標準,從而比較對各種影響類型的貢獻大小。本研究采用標準人當量進行數(shù)據(jù)標準化,即:
(4)
式中,ER(j)為第j種環(huán)境影響的標準人當量基準。
然而,即使經(jīng)標準化后兩種不同類型環(huán)境影響潛值數(shù)值大小相同,也并不意味著兩者的潛在環(huán)境影響同樣嚴重。因而需要對不同環(huán)境影響類型的嚴重性進行排序,即賦予不同影響類型不同權(quán)重,才能進行比較,這一過程稱為加權(quán)評估,即:
WEP(j)=WF(j)×ENP(j)
(5)
式中,WF(j)是第j種環(huán)境影響的權(quán)重因子。
根據(jù)表2中各種污染物的排放情況,結(jié)合中國環(huán)境影響潛值標準人當量基準值和權(quán)重進行標準化和加權(quán)計算,得出二氧化鈦TiO2薄膜生命周期環(huán)境影響評價結(jié)果,見表3。
表3 二氧化鈦TiO2薄膜生命周期環(huán)境影響潛值標準化和加權(quán)值
從影響潛力水平來看,納米二氧化鈦薄膜生產(chǎn)制造對于全球變暖的影響最大,對于生態(tài)毒性的影響最小,對于酸化、富營養(yǎng)化、光化學煙霧三者的影響差距不大。
5不同LPCVD參數(shù)下LCIA結(jié)果分析
當溫度范圍在533 K~873 K、壓強在100 Pa~700 Pa范圍內(nèi)時,LPCVD過程制備的TiO2薄膜成分以銳鈦礦為主[6]。該過程材料利用率及能量利用率均小于1%,且受到壓強和溫度等工藝參數(shù)的影響[3]。本研究選取了A(623 K,500 Pa),B(673 K,500 Pa),C(723 K,500 Pa),D(673 K,400 Pa),E(673 K,300 Pa)5組工藝參數(shù),對二氧化鈦薄膜進行了生命周期環(huán)境影響進行了對比,各項加權(quán)環(huán)境影響潛值見表4。
表4 不同工藝參數(shù)的加權(quán)環(huán)境影響潛值WEP(j)
結(jié)果顯示,在C(723 K,500 Pa)的工藝條件下,GWP,AP,EP,POCP和ET均最低,而在E(673 K,300 Pa)的工藝條件下,5項潛值均最大。
考慮LPCVD工藝壓強對于LCIA結(jié)果的影響,選取B(673 K,500 Pa)和D(673 K,400 Pa)兩組工藝條件進行對比,前者的GWP,AP和EP值均低于后者,而POCP值卻高于后者。這是由于當溫度為673 K時,隨著壓強的增大,LPCVD工藝的材料利用率有所提高,能量利用率卻在下降,導(dǎo)致了不同物質(zhì)的排放量變化。
考慮LPCVD工藝溫度對于LCIA結(jié)果的影響,選取A(623 K,500 Pa),B(673 K,500 Pa),C(723 K,500 Pa)3組工藝條件對比。事實上,當LPCVD系統(tǒng)溫度升高時,一方面材料利用率提高,削弱了環(huán)境排放;另一方面能量利用率降低,增大了環(huán)境影響,兩者是一個相反的過程。然而表4顯示,當LPCVD工藝壓強保持在500 Pa,溫度升高時,5項潛值都隨之降低。這說明在LPCVD工藝中,相較于能量利用率,原材料的利用率對于TiO2薄膜環(huán)境表現(xiàn)的影響更為顯著。
計算得到5組工藝條件下綜合加權(quán)環(huán)境影響潛值∑WEP(j)(如圖4所示),從小到大依次是C
圖4 TiO2薄膜綜合加權(quán)環(huán)境影響潛值∑WEP(j)
6結(jié)語
本文基于低壓化學氣相沉積工藝,用生命周期評價(LCA)方法對納米TiO2薄膜生產(chǎn)過程進行了環(huán)境影響評價。結(jié)果顯示,納米TiO2薄膜生產(chǎn)過程對于生態(tài)環(huán)境最主要的影響是全球變暖。當LPCVD工藝溫度為723 K、壓強為500 Pa時,納米TiO2薄膜制造過程綜合環(huán)境影響最小。
參考文獻
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李濤,女,1977年生,副教授,主要研究領(lǐng)域為產(chǎn)品生命周期評估、納米技術(shù)可持續(xù)性。
更正
刊登于《工業(yè)安全與環(huán)保》2015年第9期的文章“再生有機胺法在硫酸尾氣治理中的應(yīng)用”,作者提供的第4作者姓名“史智勇”有誤,應(yīng)為“史志勇”,特此更正。
(本刊編輯部)
(收稿日期:2015-02-10)
作者簡介朱南京,男,1989年生,碩士研究生,研究領(lǐng)域為納米技術(shù)可持續(xù)性。
*基金項目:國家自然科學基金(51205042)。