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HVNMOS 管的工藝參數(shù)分析

2016-10-29 02:17賀雪群
關鍵詞:剖面圖耐壓管子

賀雪群

(廈門理摯半導體科技有限公司,福建 廈門 361008)

工程技術

HVNMOS 管的工藝參數(shù)分析

賀雪群

(廈門理摯半導體科技有限公司,福建廈門361008)

以測試數(shù)據(jù)分析了CMOS工藝下影響高壓N管HVNMOS耐壓值的幾個參數(shù)。

高壓N管;工藝參數(shù);耐壓值

在電路設計中,即使是低壓的設計,也難免要應用到高壓部分,但又不能改變工藝,在這種情況下,高壓管應用而生。下面我們以HVNMOS為例子來具體分析。

在高壓管中,我們就是要保證D端所加的高壓經過場釋放到大G端下面后小于柵穿電壓。圖1是一個CMOS工藝下HVNMOS的剖面圖[1],也就是在A點時,要保證VD-VG<V柵穿。D端是一個低攙雜的N-區(qū),與G端有一定的交疊量。總的D、S電壓VDS等于兩個三角形的面積之和:

圖1 HVNMOS晶體管剖面圖及漏端橫向電場示意圖

D端N-與G端交疊量,即a的大小,不可太小,也不可太大。既要考慮在有套版偏差的情況下管子能正常工作,又要盡量提高管子的工作電壓。VD=VDS-V陰影,從上面兩個圖可以看出,如果適當縮小a的值,D端在A點的電壓會降低。

影響耐壓值的參數(shù)有:1)poly1gate覆蓋在場氧FOX即場板的值fp;2)fp到D端高濃接觸區(qū)的space,即HVNMOS剖面圖上的fsd(fpspacedrain);3)溝道長度L。

在測試中,以某工藝為例,做了一系列的圖形,在其他參數(shù)不便的情況下,分別改變以上三個參數(shù),然后測試擊穿電壓。具體的測試方法為:S、B、G短接并接-20V電壓,D端電壓從-20V到40V、步進0.2 V的加壓,檢測D端電流Id、b端電流Ib,s端電流Is,若出現(xiàn)擊穿使Id、Ib任意一個突然增大的情況,停止掃描。

1)fp的改變對擊穿電壓的影響:W/L=40/4,m=2,fsd=3.0 um,fp分別取0.8um、1.2um、1.6um,得到的擊穿圖分別如圖2—圖4。

總結:從擊穿曲線看,所有的擊穿都屬于次表面擊穿,且擊穿發(fā)生后直至測試所加的最高電壓60V,柵極都沒有電流,可見場板起到了兩個作用:將擊穿壓在次表面并保護柵氧不被擊穿。三個圖形的耐壓值分別為46.6V、48.2V、48.9V,有上升的趨勢,可見擊穿部位的深度在逐漸的增加。從測試數(shù)據(jù)看,擊穿都是發(fā)生在n-/p-之間。

圖2 Fp=08u m的擊穿圖

圖3 Fp=1.2μm的擊穿圖

圖4 Fp=1.6μm的擊穿圖

2)fsd對耐壓值的影響:W/L=40/4,m=2,fp= 2.0u,fsd分別取0.4μm、0.8μm、1.2μm、1.6μm、2.0μm、3.0μm,得到的擊穿圖分別如圖5—10。

圖5 fsd=0.4μm的擊穿圖

圖6 fsd=0.8μm的擊穿圖

圖7 fsd=1.2μm的擊穿圖

圖8 fsd=1.6μm的擊穿圖

圖9 Fsd=2.0μm的擊穿圖

圖10 Fsd=3.0μm的擊穿圖

總結:從理論上分析,如果fsd太小的話,管子則會因d與fp之間的電場太大而造成擊穿。從測試得到的擊穿曲線來看,fsd的改變對耐壓值的影響并不大。從電壓的角度來看,除fsd=1.6μm之外的5個圖形,耐壓值在51V和52V兩個點上徘徊,管子達到限流值時的電壓值也基本相同;從得到的擊穿曲線來看,除第4組外,其余5個曲線基本上相似。4組的擊穿曲線很漂亮,d端加到一定的電壓后管子立即就被擊穿了。

3)L值對耐壓值的影響:W/L=10,m=2,fsp=3.0,fp=2.0,L分別取1.5μm、2.0μm、2.5μm,得到的擊穿圖分別如圖11~13。

圖11 L=15u/1.5μm的擊穿圖

除L=1.5μm時,管子在VDS=37V時就發(fā)生了d/s穿通之外,其余的都是d/b次表面擊穿。在設計高壓管的L時,要考慮到結的耗盡和橫擴,不能太小。

圖12 L=20u/2.0μm的擊穿圖

上面討論的是單邊HVNMOS,只有D端可耐高壓,如果要雙邊耐高壓,則S端結構也要與D端相同。

圖13 L=2.5μm的擊穿圖

[1](美)黑斯廷斯.模擬電路版圖的藝術[M].北京:電子工業(yè)出版社,2007:416.

(編輯:劉楠)

HV MOSTransistor Parameters Analysis

He Xuequn
(Xiamen Lizhi Sem iconductor Technology Co.,L td.,Xiamen Fujian 361008)

This paper analyzes the impact of test data under high voltage CMOS process N HVNMOS tube voltage value of several parameters.

high pressure pipe parameters N;technological parameter;withstandingvoltage

TN141.1+6

A

2095-0748(2016)11-0040-03

10.16525/j.cnki.14-1362/n.2016.11.17

2016-04-25

賀雪群(1978—),男,湖南南縣人,本科,工程師,從事IC版圖設計工作,對工藝以及電路均有研究。

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