張秀英
(山東理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,山東 淄博 255049)
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PVA/MMT納米復(fù)合材料的制備與表征
張秀英
(山東理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,山東 淄博 255049)
將聚乙烯醇插入鈉基蒙脫石的層片之間,制備出聚乙烯醇/蒙脫石復(fù)合材料.考察了鈉基蒙脫石的加入量對復(fù)合材料力學(xué)性能的影響;用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)對復(fù)合材料進(jìn)行了結(jié)構(gòu)和性能的表征.XRD結(jié)果表明:蒙脫石的d(001)值由1.26nm增加到2.56nm及2.77nm,聚乙烯醇分子成功插入到蒙脫石片層之間,形成插層-剝離型納米復(fù)合材料.SEM顯示,蒙脫石片均勻分布于聚乙烯醇中,耐熱性能明顯提高.力學(xué)性能測試結(jié)果表明:蒙脫石的加入有利于材料力學(xué)性能的提高,當(dāng)蒙脫石質(zhì)量分?jǐn)?shù)為7%時(shí),其抗拉強(qiáng)度為88.03MPa,比純PVA薄膜提高103.73%.
蒙脫石;聚乙烯醇;納米復(fù)合材料;表征
黏土/聚合物納米復(fù)合材料,是指黏土礦物和聚合物經(jīng)過插層復(fù)合法,形成的一類無機(jī)/有機(jī)納米復(fù)合材料.聚合物與黏土礦物片層達(dá)到分子水平的復(fù)合,增強(qiáng)了聚合物與粘土礦物的界面相互作用,有效改善了聚合物的力學(xué)性能、光學(xué)性能、耐熱性及氣體阻隔性[1-4].聚乙烯醇(PVA)具有足夠的機(jī)械強(qiáng)度,優(yōu)良的透明度和氣體阻隔性能[5],且PVA無毒,易降解,對減少白色污染意義重大.但是PVA為水溶性聚合物,吸濕性大且在一定溫度下耐水性較差,水蒸氣通過性較好,這雖然可以防止包裝好的食品所散發(fā)出的水蒸氣在包裝膜內(nèi)凝結(jié),提高食品保質(zhì)期限[6],但對于生鮮食品水分的保持卻大為不利.蒙脫石是2∶1型的層狀硅酸鹽礦物,具有良好的離子交換性能和熱穩(wěn)定性[7].因此,制備PVA/蒙脫石納米復(fù)合材料,在提高薄膜力學(xué)性能的同時(shí),蒙脫石(MMT)的二維片層還可以提高PVA薄膜的氣體阻隔性能,并降低水蒸氣的透過率.制備高性能聚合物/蒙脫石納米復(fù)合材料的關(guān)鍵技術(shù)是蒙脫石片層納米尺度的分散[8]. 本實(shí)驗(yàn)以鈉基蒙脫石(NaMMT)和聚乙烯醇為原料,采用溶液插層法制備不同MMT含量的聚乙烯醇/蒙脫石(PVA/MMT)納米復(fù)合材料,實(shí)現(xiàn)蒙脫石與PVA在納米尺度的復(fù)合.用萬能試驗(yàn)機(jī)測試了復(fù)合材料的力學(xué)性能,并采用XRD和SEM對結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,分析了受熱后不同樣品的變化.
1.1 實(shí)驗(yàn)原料
實(shí)驗(yàn)用膨潤土為自制鈉基膨潤土,d001值為1.235nm,蒙脫石質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)90%.
聚乙烯醇為天津市福晨化學(xué)試劑廠生產(chǎn),分子式[CH2CH(OH)]n,質(zhì)量分?jǐn)?shù)不小于97%,平均聚合度為1750±50.
1.2 實(shí)驗(yàn)儀器
78HW-1型恒溫磁力攪拌器,江蘇金壇榮華儀器制造有限公司;HHS-2S型電子恒溫水浴鍋,上海光地儀器設(shè)備有限公司;D8-ADVANCE型X射線衍射儀,德國Brucker公司;Sirion200型場發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM),荷蘭FEI公司;WDW1020型電子萬能試驗(yàn)機(jī),中科院長春科新公司試驗(yàn)儀器研究所制造;101A-1型電熱恒溫鼓風(fēng)干燥箱,龍口市電爐制造廠;SHB-Ⅲ循環(huán)水式多用真空泵,鄭州長城科工貿(mào)有限公司.
1.3 PVA/MMT納米復(fù)合材料的制備
因?yàn)镻VA為水溶性聚合物,選用聚合物水溶液插層法制備PVA/MMT納米復(fù)合材料.
稱取一定量的鈉基膨潤土倒入燒杯中,加入去離子水,充分?jǐn)嚢枋怪稚⒕鶆?稱取一定量的PVA,邊攪拌邊緩慢加入上述懸浮液中;將燒杯放入恒溫水浴中,從室溫逐漸升溫至90℃,并恒溫?cái)嚢?0min,攪拌速率為1000~1500r/min.
將反應(yīng)后的混合溶液超聲波振蕩45min,去除攪拌過程中產(chǎn)生的氣泡;然后將混合物澆注到光滑干凈的玻璃板上流延成膜.室溫下干燥72h,得到納米復(fù)合材料薄膜.
用上述方法分別制備MMT質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0%、2%、5%、7%、10%的納米復(fù)合材料薄膜試樣.
1.4 復(fù)合材料的性能測試及表征
1.4.1 力學(xué)性能測試
力學(xué)性能測試在WDW1020型電子萬能試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行力學(xué)性能測試標(biāo)準(zhǔn)按照GB13022-91進(jìn)行,拉伸速度為100±10mm/min,每個(gè)樣品測試5次取平均值.
1.4.2 XRD分析
X-射線衍射采用采用德國Brucker公司的D8-ADVANCE多晶衍射儀對樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)與物相分析,X-射線衍射儀的主要技術(shù)指標(biāo)為:X-射線波長為0.154nm,Cu靶,管電壓40kV,管電流40mA,功率2.2kW.
1.4.3 SEM分析
為了觀察MMT片在復(fù)合材料中的分散情況及材料受電壓轟擊以后的變化,采用掃描電子顯微鏡對樣品進(jìn)行研究.
2.1 納米復(fù)合材料的力學(xué)性能
純PVA及MMT含量不同時(shí),納米復(fù)合材料薄膜的拉伸強(qiáng)度和斷裂強(qiáng)度的測試結(jié)果見表1.
從表1的各項(xiàng)指標(biāo)可以看出,純PVA薄膜的抗拉強(qiáng)度為43.21MPa,斷裂強(qiáng)度為21.61Mpa.當(dāng)MMT用量小于7%時(shí),復(fù)合材料薄膜的抗拉強(qiáng)度和斷裂強(qiáng)度均隨著加入量的增加而增強(qiáng),當(dāng)MMt加入量為7%時(shí),薄膜的抗拉強(qiáng)度和斷裂強(qiáng)度較純PVA薄膜分別提高了103.73%和197.59%,達(dá)到了最大數(shù)值.繼續(xù)增加MMT的用量,其抗拉強(qiáng)度變?yōu)?0.42Mpa斷裂強(qiáng)度變?yōu)?4.40Mpa,力學(xué)性能開始下降.
產(chǎn)生上述現(xiàn)象的原因是MMT本身具有極高的比表面積,加入的MMT含量較低,片層上的-SiO-基團(tuán)與PVA分子上的-OH基團(tuán)結(jié)合緊密,產(chǎn)生很高的結(jié)合能,所以拉伸及斷裂強(qiáng)度提高很快.
表1 薄膜力學(xué)性能測試結(jié)果
MMT質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%抗拉強(qiáng)度/MPa斷裂強(qiáng)度/MPa043.2121.61254.0232.41564.8233.24788.0364.311050.4214.40
隨MMT用量的繼續(xù)增加,材料的拉伸強(qiáng)度降低的原因可能是:當(dāng)MMT的用量達(dá)到一定的數(shù)量后,MMT在復(fù)合材料中的密度增加,片層之間距離太近,甚至自我堆疊,使得材料剛性增大.材料受沖擊產(chǎn)生裂紋時(shí),PVA不能迅速產(chǎn)生塑性變形以便吸收沖擊能,裂紋迅速擴(kuò)大,以至于發(fā)展成為應(yīng)力開裂,因此拉伸性能快速下降[9].
因此,MMT的添加對PVA基體具有增強(qiáng)作用,當(dāng)增強(qiáng)體的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為7%時(shí)最為合適.
2.2 SEM分析
為了更直觀的觀察復(fù)合材料中MMT的分布狀態(tài),尋找復(fù)合材料力學(xué)性質(zhì)差別大的原因,對部分樣品進(jìn)行了SEM分析.結(jié)果見圖1.
(a)
(b)
(c)圖1 純PVA及復(fù)合材料的SEM照片
圖1中a、b、c分別是純PVA及MMT質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%及7%的復(fù)合材料的SEM照片.從圖(a)中看,材料中已經(jīng)出現(xiàn)了較多的裂紋,這些裂紋的出現(xiàn)是因?yàn)榻?jīng)受不住電子束的熱量而引起的.相同放大倍數(shù)下的復(fù)合材料中極少出現(xiàn)裂紋,說明加入MMT的復(fù)合材料耐熱性能達(dá)大大高.原因可能是加入MMT時(shí),基體之中被蒙脫石片均勻的覆蓋,蒙脫石的耐熱性遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于純PVA,因此,復(fù)合材料的耐熱性好,裂紋少.
從圖1(b)、1(c)中還可以看出,蒙脫石片在基體中分布均勻,且呈厚度極小的片狀.說明大部分MMT已經(jīng)剝離成后度較薄的晶片了,因此明顯起到了增加薄膜強(qiáng)度的作用.
2.3 XRD分析
根據(jù)力學(xué)性能測試結(jié)果,我們選澤了MMT質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%、7%的復(fù)合材料進(jìn)行XRD分析,并與純PVA的測試結(jié)果進(jìn)行比較.結(jié)果見圖2.圖2(a)為純PVA ,圖2(b)為蒙脫石質(zhì)量分?jǐn)?shù)7%,圖2(c)為蒙脫石質(zhì)量分?jǐn)?shù)5%.
圖2 納米復(fù)合材料的XRD圖
圖2(b)、2(c)中分別在3.18°和3.43°的位置出現(xiàn)d值為2.77nm的衍射峰及2.56nm的衍射峰,衍射強(qiáng)度均較弱,與原料Na-MMT強(qiáng)大的的底面衍射峰相比,幾乎可以忽略;低角度處再無其它衍射峰.說明通過復(fù)合材料的制備過程,PVA分子已經(jīng)進(jìn)入MMT石的片層之間,并將晶片分隔開來,使片層厚度變小[10].b樣品的層間距比c樣品的更大,說明插層剝離效果更好,與力學(xué)性能測試結(jié)果一致,SEM照片中也顯示這一特點(diǎn).純PVA中,在低角度處沒有任何衍射峰,而19.8°處的強(qiáng)衍射峰依然存在,只是衍射強(qiáng)度有所降低,結(jié)晶程度并沒有受到影響.
綜合上述測試可以判斷,MMT與PVA 形成了插層-剝離型納米復(fù)合材料.MMT近納米尺度的存在,大大提高了復(fù)合材料的力學(xué)性能,熱學(xué)性能也得到明顯的改善.
(1)通過溶液插層法制備了PVA/MMT納米復(fù)合材料,復(fù)合材料的類型為插層-剝離型.
(2)加入MMT后,復(fù)合材料的力學(xué)性能較純PVA有了大幅度的提高,當(dāng)MMT的加入量為7%時(shí),納米復(fù)合材料的抗拉強(qiáng)度和斷裂強(qiáng)度較純PVA薄膜分別提高了103.73%和197.59%,蒙脫石的加入量不宜過大.
(3)復(fù)合材料的耐熱性能較純PVA有了非常明顯的提高,相同的放大倍數(shù)下,純PVA的裂紋數(shù)量多,寬度大.
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(編輯:姚佳良)
Preparation and characterization of PVA/MMT nanocomposit
ZHANG Xiu-ying
(School of Materials Science and Engineering, Shandong University of Technology, Zibo 255049, China)
The composite materials were prepared by inserting polyvinyl alcohol(PVA) molecules into the Na-montmorillonite(NaMMT) using solution intercalated method. The effect of NaMMT content on the properties of polyvinyl alcoho/ montmorillonite(PVA/MMT) nanocomposite was studied.The structure and properties of composite wered studed by X-ray diffraction (XRD),and scanning electron microscopy (SEM). The XRD patterns show that when the d value of the silicates layers of NaMMT increased from 1.26 nm to 2.56nm and 2.77nm, the intercalated and exfoliated nanocompesites wered obtained. SEM images showed well-distributed microstructure and higher thermal properties. In addition, NaMMT is beneficial to the improvement of the performance,when the content of montmorillonite is 7%, the tensile strength can reach 88.3Mpa,which is increased by 103.73% than that of the pure PVA film.
montmorillonite;olyvinyl alcohol;nanocomposite;characterization
2016-03-01
張秀英,女,zhxy2006@sdut.edu.cn
1672-6197(2017)01-0060-04
TB332
A