王濤,葛祥坤,范光,郭冬發(fā)
(核工業(yè)北京地質(zhì)研究院,北京 100029)
二次離子質(zhì)譜技術(shù)自提出至今已存在60余年[1-2]。經(jīng)過多年的發(fā)展,該技術(shù)在靈敏度、易用性等方面取得了長(zhǎng)足的進(jìn)展,在電子、冶金、材料、地質(zhì)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用[3-4]。其功能主要有表面元素分析、元素面分布和深度剖析等,橫向空間分辨率可達(dá)1 μm。隨著人們對(duì)納米微觀領(lǐng)域的研究越來越深入,尤其是地質(zhì)科學(xué)領(lǐng)域,地質(zhì)學(xué)家把目光轉(zhuǎn)向亞微米級(jí)、納米級(jí)的微小礦物等方面的研究,從而對(duì)儀器空間分辨率有了新的要求。聚焦離子束掃描電子顯微鏡 (Focused Ion Beam Scanning Electron Microscope,簡(jiǎn)稱FIB-SEM)是在掃描電鏡的基礎(chǔ)上配備聚焦離子束,從而在實(shí)現(xiàn)電子束表面成像的同時(shí)可以進(jìn)行微納米級(jí)的離子束加工,近20年來在材料科學(xué)、生物、半導(dǎo)體集成電路等領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用[5]。由于采用液態(tài)Ga+離子源的聚焦離子束具有較高的橫向分辨率 (<10 nm),且該系統(tǒng)可同時(shí)配置多種分析附件,并與二次離子質(zhì)譜儀聯(lián)用,大大提高了二次離子質(zhì)譜的空間分辨率,擴(kuò)展了其應(yīng)用范圍[6]。
Levi-Setti等在20世紀(jì)80-90年代對(duì)聚焦離子束掃描電鏡與二次離子質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)(FIB-SIMS)進(jìn)行了開拓性的研究,他們首先將四級(jí)桿質(zhì)譜與FIB聯(lián)用,后來又發(fā)展到磁質(zhì)譜與FIB聯(lián)用[7-9]。20世紀(jì)90年代中期,美國(guó)FEI公司首次推出了商用選配的四級(jí)桿質(zhì)譜探測(cè)器(SIMSMAPⅢ),可搭載在FIB200型FIB-SEM上。Dunn和Hull首次用該套聯(lián)用設(shè)備取得了較好的研究結(jié)果[10]。隨后,Mcphail等也相繼將其應(yīng)用到科學(xué)研究中[11-12]。Stevie等還研究了基于該設(shè)備的不同元素的檢測(cè)靈敏度,由于液態(tài)Ga+離子源比傳統(tǒng)Cs+離子源或O2+離子源的二次離子產(chǎn)額低2~3個(gè)數(shù)量級(jí),信號(hào)減少,使得檢測(cè)靈敏度大大降低,限制了FIB-SIMS技術(shù)的應(yīng)用[13]。近年來,人們對(duì)更高空間分辨率需求的提高,促進(jìn)了這種具備高空間分辨率的二次離子質(zhì)譜儀的發(fā)展。捷克TESCAN電鏡公司與瑞士TOFWERK公司合作,將一小型飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 (Time ofFlightSecondary Ion Mass Spectrometer,簡(jiǎn)稱 TOF-SIMS)安裝在 FIBSEM上,開發(fā)了新一代FIB-TOF-SIMS聯(lián)用技術(shù),使FIB-SIMS聯(lián)用技術(shù)得以再次向前推進(jìn)。
表1FIB-TOF-SIMS與EDS和WDS的性能對(duì)比Table 1 Comparison of FIB-TOF-SIMS,EDS and WDS performance
Tescan GAIA 3型聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM),配備小型飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 (型號(hào): C (compact)-TOF, TOFWERK Company),簡(jiǎn)稱FIB-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)。該系統(tǒng)的電子束與離子束間的夾角為55°,二次離子收集器斜插在FIB-SEM樣品倉(cāng)上,與FIB鏡筒呈20°角。離子束垂直于樣品表面轟擊,激發(fā)出的二次離子經(jīng)TOF-SIMS分析,最終得到分析區(qū)域的核素及離子團(tuán)信息。
C (compact)-TOF的質(zhì)量分辨率和縱向空間分辨率分別為800和3 nm,在Ga+離子源下的橫向空間分辨率為40 nm,檢出限為3×10-6。應(yīng)用該套聯(lián)用技術(shù),可以分析包含H等輕元素及其同位素,可分析陽(yáng)離子和陰離子,元素檢出限可低至10-6;基于FIB的切割功能,還可進(jìn)行元素及其同位素的二維面分析和三維成像。FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng),可彌補(bǔ)X射線能譜和波譜不能分析H、Li等超輕元素、不能分析同位素、檢出限高、空間分辨率低等不足。FIB-TOF-SIMS技術(shù)與能譜儀(Energy Dispersive Spectrometer, 簡(jiǎn)稱 EDS)和波譜儀 (Wavelength Dispersive Spectrometer,簡(jiǎn)稱WDS)分析的性能對(duì)比見表1。
隨著科技的進(jìn)步,地學(xué)研究也逐漸向著更微觀的方向發(fā)展,納米礦物顆粒和納米孔隙具有顯著的特有屬性,對(duì)研究地質(zhì)過程中礦物的形成機(jī)理、演化機(jī)制和聚集狀態(tài)具有重要的科學(xué)價(jià)值。因此以掃描電鏡為代表的納米微束分析工具在地質(zhì)學(xué)研究中起著越來越重要的作用,并且礦物元素組成和同位素分析為地質(zhì)學(xué)研究提供了重要的基礎(chǔ)信息,質(zhì)譜儀是同時(shí)實(shí)現(xiàn)以上兩種分析最為方便有效的手段。因此,通過將聚焦離子束雙束掃描電鏡與飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀進(jìn)行聯(lián)用組成FIB-TOF-SIMS系統(tǒng),集合兩系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì),在地質(zhì)學(xué)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。
應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng),可進(jìn)行原位同位素分析,進(jìn)而確定樣品中所含元素的種類。其超輕元素(H、Li、Be、B等)的檢測(cè)功能,可彌補(bǔ)常規(guī)X射線能譜(EDS)和X射線波譜(WDS)無法檢測(cè)輕元素的技術(shù)缺陷。
在地學(xué)研究中,常見一些含H、Li、Be和B的礦物,應(yīng)用常規(guī)的EDS和WDS分析方法無法檢測(cè),使得確定含超輕元素礦物的種類比較困難。但應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng),結(jié)合能譜分析,即可大致確定這類礦物的種類。圖1a為某偉晶巖樣品的背散射電子圖像,僅通過能譜定性分析 (圖1b和圖1c),很難判斷測(cè)點(diǎn)P1和測(cè)點(diǎn)P2位置的礦物種類。應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用技術(shù),分析區(qū)域?yàn)?60 μm×260 μm, 離子束流 3 nA, 圖像分辨率 512×512,像素合并 4,共采集 500幅,分析了圖1a部位的元素組成。結(jié)合能譜數(shù)據(jù),從圖1d-h可以看出,測(cè)點(diǎn)P1區(qū)域除含有O、F、Al、Si和K等元素外,還含有H和Li元素;測(cè)點(diǎn)P2區(qū)域除含有O、F、Na、Al和Si等元素外,還含有H、Li和B元素,并且點(diǎn)P2位置Li元素的含量較點(diǎn)P1處少。根據(jù)上述元素種類,可判斷測(cè)點(diǎn)P1部位為鋰云母,測(cè)點(diǎn)P2部位為鋰電氣石。
圖1 礦物的EDS和FIB-TOF-SIMS分析Fig.1 Mineral analysis by EDS and FIB-SIMS
FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)與傳統(tǒng)的元素分析工具EDS相比,具有更高的空間分辨率,以及更快的檢測(cè)速度。EDS的元素面分布圖像空間分辨率約為1 μm,而FIB-TOF-SIMS系統(tǒng)的橫向分辨率可以達(dá)到50 nm,縱向分辨率通過調(diào)節(jié)一次離子源的強(qiáng)度可以小于10 nm,元素面分布檢測(cè)通常僅需要幾分鐘即可完成。因此,F(xiàn)IB-TOF-SIMS系統(tǒng)對(duì)于復(fù)雜礦物體系中小尺寸(微米級(jí))礦物顆粒的研究有較強(qiáng)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
頁(yè)巖樣品中通常含有較多的草莓狀黃鐵礦集合體,單個(gè)黃鐵礦顆粒均小于1 μm(圖2a)。應(yīng)用EDS對(duì)草莓狀黃鐵礦進(jìn)行元素面分析時(shí),由于EDS的空間分辨率大于1 μm,從元素面分布結(jié)果(圖2c)中無法區(qū)分單個(gè)黃鐵礦顆粒。本文應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng),對(duì)圖2a中的草莓狀黃鐵礦進(jìn)行了元素面分析,實(shí)驗(yàn)分析區(qū)域?yàn)? μm×8 μm,離子束流150 pA,圖像分辨率1024×1024,像素合并4(圖2b)。從圖 2b中可以看出,F(xiàn)e元素面分布結(jié)果可以清晰地區(qū)分出草莓狀黃鐵礦的單個(gè)顆粒,較好地體現(xiàn)了FIB-TOF-SIMS系統(tǒng)高空間分辨率的技術(shù)特點(diǎn)。
圖2 同一位置EDS與FIB-TOF-SIMS元素面分布Fig.2 Comparison of surface distribution of elements in same position by EDS and FIB-TOF-SIMS
鈾礦地質(zhì)研究中,鈾礦物共生組合關(guān)系的厘定是礦床成因、成礦規(guī)律預(yù)測(cè)等研究的基礎(chǔ)性工作之一。研究礦物間的共生關(guān)系通常選用背散射電子圖像并結(jié)合EDS分析,得到二維平面的礦物共生關(guān)系;選用FIB-SEM結(jié)合EDS可以進(jìn)行三維元素分析,但該方法的測(cè)試時(shí)間較長(zhǎng)(通常大于10 h),對(duì)儀器系統(tǒng)的穩(wěn)定性有很高的要求,同時(shí)空間分辨率較低(橫向分辨率約為1 μm),對(duì)細(xì)小礦物顆粒很難分辨。應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)可有效地研究礦物間的三維空間關(guān)系,同時(shí)具有分析速度快(通常小于1 h)、空間分辨率高等特點(diǎn)。
應(yīng)用本實(shí)驗(yàn)室的FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)對(duì)某煤巖樣品中細(xì)小鈾礦物的共生關(guān)系進(jìn)行了研究。實(shí)驗(yàn)分析區(qū)域?yàn)?0 μm×30 μm,離子束流3 nA,圖像分辨率1024×1024,像素合并4,共采集500幅,采集到的數(shù)據(jù)利用Dragonfly軟件進(jìn)行三維重構(gòu) (圖3)。圖3a為測(cè)試區(qū)域的背散射電子圖像,可以看出,鈾礦物的共生關(guān)系主要有兩種形式,一是與黃鐵礦緊密共生,二是獨(dú)立于黃鐵礦之外存在于其它礦物間裂隙或石英孔洞中。但從U和Fe元素的三維空間分布圖(圖3b、c)中可以看出,幾乎每個(gè)鈾礦物顆粒均與黃鐵礦緊密共生,由此可以推斷,鈾礦物的形成與黃鐵礦關(guān)系密切,可能為含鈾流體與黃鐵礦發(fā)生氧化還原反應(yīng)后聚集、沉淀的產(chǎn)物,黃鐵礦起到了還原劑的作用。通過FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)的三維分析,較好地反映了鈾礦物與黃鐵礦的空間關(guān)系,避免了僅從二維平面分析得出的片面性結(jié)論。該實(shí)例中,即便應(yīng)用FIB-SEM結(jié)合EDS技術(shù),由于其低空間分辨率的限制,也很難區(qū)分個(gè)別微小的黃鐵礦顆粒,得出的結(jié)論也會(huì)有片面性。由此可以看出,F(xiàn)IB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)的三維分析,具有分析速度快、空間分辨率高等技術(shù)優(yōu)勢(shì),在細(xì)小礦物顆粒的空間分布關(guān)系研究方面將大有作為。
圖3 FIB-TOF-SIMS得到的三維元素分布圖Fig.3 3D element distribution obtained by FIB-TOF-SIMS
應(yīng)用FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng),不僅可以對(duì)超輕元素進(jìn)行分析,并且借助其納米級(jí)的橫向和縱向空間分辨率,可以使我們對(duì)礦物成分的分析從微米尺度轉(zhuǎn)變?yōu)閬單⒚住⒓{米尺度,由二維分析轉(zhuǎn)變?yōu)槿S分析,從而得到更加準(zhǔn)確的礦物結(jié)構(gòu)和元素空間分布信息,在礦物形成條件、形成機(jī)理研究等方面具有重要的意義。
盡管FIB-TOF-SIMS聯(lián)用系統(tǒng)具有上述技術(shù)優(yōu)勢(shì),但作為一種新興的技術(shù)手段,該聯(lián)用技術(shù)也存在一定的局限性,主要體現(xiàn)在:1)不能像EDS和WDS那樣進(jìn)行元素定量分析,主要由于缺少基于聚焦離子束的二次離子信號(hào)修正方法和理論模型;2)3D分析結(jié)果不能準(zhǔn)確的與剝離深度聯(lián)系起來,僅能用FIB剝離的層數(shù)表示,盡管儀器廠家建議在樣品臺(tái)上加配一個(gè)類似于原子力顯微鏡的掃描探針顯微鏡,實(shí)時(shí)檢測(cè)FIB的剝離深度,但其效果如何,有待進(jìn)一步驗(yàn)證;3)邊緣效應(yīng)明顯,在裂隙邊緣由于二次離子產(chǎn)額多,強(qiáng)度異常增高。然而,隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟,相信這些問題能夠在不遠(yuǎn)的將來得到圓滿的解決。