鄭昱 張建強(qiáng)
【摘 要】 本文介紹了一種利用溫和液相氧化劑對(duì)石墨相氮化碳(g-C3N4)進(jìn)行表面羥基化改性的方法,采用SEM、XRD、FTIR、DRS等表征方法,考察了氧化處理對(duì)母體g-C3N4結(jié)構(gòu)、表面官能團(tuán)等的影響。以染料羅丹明B(RhB)的光催化降解反應(yīng)為目標(biāo)反應(yīng),對(duì)改性前后的光催化劑性能進(jìn)行了評(píng)價(jià)。研究結(jié)果表明,對(duì)母體g-C3N4進(jìn)行液相氧化處理未破壞母體g-C3N4的結(jié)構(gòu),并在表面形成了羥基等含氧官能團(tuán),達(dá)到了表面羥基化的目的。與母體g-C3N4相比,改性后的催化劑光催化降解RhB的性能得到明顯提升,反應(yīng)速率常數(shù)提高了6-8倍。
【關(guān)鍵詞】 石墨相氮化碳;表面羥基化;光催化
【中圖分類號(hào)】 O62 【文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼】 A
【文章編號(hào)】 2096-4102(2019)05-0089-04
水是人類賴以生存和發(fā)展的重要環(huán)境資源之一,而我國(guó)是一個(gè)水資源相對(duì)匱乏的國(guó)家(人均水資源總量2200立方米,世界排位88),此外,隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和城市化進(jìn)程的加快,以及人類的生產(chǎn)、生活等活動(dòng)所導(dǎo)致的水體水環(huán)境質(zhì)量下降,使我國(guó)水資源供需不平衡問(wèn)題變得尤為突。現(xiàn)階段,傳統(tǒng)的有機(jī)廢水處理方法包括吸附法、化學(xué)氧化法、電解法和生物技術(shù)法等。這些方法或者由于不能完全去除污染物,或者需要引入化學(xué)試劑,又或者成本過(guò)高、用時(shí)過(guò)長(zhǎng)以及會(huì)產(chǎn)生有毒二次污染物等原因,并不能作為高效的有機(jī)廢水處理方法。
與傳統(tǒng)的有機(jī)廢水處理技術(shù)相比,光催化技術(shù),一種利用太陽(yáng)光輻射作為誘發(fā)條件,通過(guò)生成羥基自由基(·OH)和超氧自由基(·O2-)等活性組分,進(jìn)而在半導(dǎo)體光催化劑表面發(fā)生氧化還原反應(yīng)的高級(jí)氧化技術(shù),近年來(lái)被廣泛用于光解水制氫、還原二氧化碳制備有機(jī)燃料以及環(huán)境凈化等應(yīng)用研究領(lǐng)域。
氮化碳(C3N4),一種僅由碳和氮兩種元素構(gòu)成的有機(jī)半導(dǎo)體,具有很多優(yōu)異的物化性質(zhì):超硬度、低密度、耐磨性、可靠的化學(xué)和熱力學(xué)強(qiáng)度以及生物兼容性等,這些性質(zhì)使得氮化碳成為光催化等研究領(lǐng)域里極具應(yīng)用前景的材料之一。
石墨相氧化碳屬于窄禁帶光催化劑,其禁帶能約為2.74eV,能夠被可見光激發(fā);此外,g-C3N4的導(dǎo)帶電勢(shì)為-1.14eV,比O2/·O-2(-0.28eV vs.NHE) 的氧化還原電勢(shì)更負(fù),即g-C3N4的光生電子能夠?qū)⒋呋瘎┍砻嫖降难鯕夥肿舆€原成強(qiáng)氧化性的超氧自由基;然而g-C3N4的價(jià)帶電勢(shì)為1.6eV,高于OH/·OH(2.27eV vs.NHE)的氧化還原電勢(shì),因此無(wú)法生成羥基自由基。在光催化降解染料的過(guò)程中,羥基自由基與超氧自由基等活性氧組分是反應(yīng)的主要參與者,其中羥基自由基的作用尤其重要。因此在對(duì)g-C3N4進(jìn)行改性處理時(shí),如何促進(jìn)羥基自由基的生成成為首要解決的問(wèn)題。
在對(duì)TiO2的研究中人們發(fā)現(xiàn),對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行表面羥基化處理可以顯著提高催化劑的光催化活性。目前對(duì)g-C3N4進(jìn)行表面羥基化的研究尚少,有研究人員對(duì)g-C3N4進(jìn)行了堿性化(羥基化)改性,發(fā)現(xiàn)改性后物質(zhì)的親水性增強(qiáng),另一方面表面羥基基團(tuán)(-OHs)可以作為光生空穴(hf+)的捕獲位(式1),生成表面吸附的羥基自由基(·OHs)。研究表明,與游離的羥基自由基相比,這些表面吸附的羥基自由基是主要的氧化物質(zhì)(式2)。在對(duì)其他碳材料,如碳納米管和石墨烯的研究中可知,利用液相氧化方式對(duì)材料進(jìn)行活化處理,可以在材料表面生成羥基、羰基等表面含氧官能團(tuán)??紤]到g-C3N4的特殊層面原子結(jié)構(gòu),本文選取氧化性較溫和的雙氧水 (H2O2)對(duì)g-C3N4進(jìn)行表面活化改性。
1實(shí)驗(yàn)部分
1.1光催化劑的制備
三聚氰胺作為前驅(qū)體,通過(guò)在600°C下梯度升溫的直接縮聚法制備母體g-C3N4。將濃度為30%的H2O2用去離子水稀釋至濃度分別為0%、10%、20%和30%;量取30mL不同濃度的H2O2溶液分別盛放在4個(gè)50mL的燒杯中待用。稱取0.2g母體g-C3N4倒入盛有H2O2溶液的燒杯中,燒杯密封后放置于超聲波清洗器中超聲處理1小時(shí)?;罨瓿珊?,過(guò)濾并于60°C下干燥24小時(shí)得到樣品。樣品根據(jù)H2O2的濃度分別標(biāo)記為OH0-g、OH10-g、OH20-g和OH30-g。
1.2光催化劑的表征
光催化劑的形貌特征由型號(hào)為JSM-7500F(JEOL)的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(Scanning electron microscope,SEM)表征得出。
XRD(X-ray power diffraction)表征檢測(cè)使用了Cu-KαX射線衍射儀,工作環(huán)境為:電壓40 kV,電流44mA;檢測(cè)時(shí)XRD的掃描范圍為:5°≤ 2θ≤90°;X射線波長(zhǎng)為:λ=0.15418nm。
紫外-可見漫反射光譜(Ultraviolet-visible diffuse reflectance spectra,DRS)可以對(duì)半導(dǎo)體g-C3N4的能帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)量。實(shí)驗(yàn)使用的紫外可見分光光度儀為Thermo Evolution 300,檢測(cè)波長(zhǎng)范圍為200-800nm,儀器配備有Labsphere光學(xué)漫反射附件。
1.3光催化劑的性能評(píng)價(jià)
為了驗(yàn)證對(duì)母體g-C3N4進(jìn)行表面羥基化能夠提高其光催化性能,對(duì)改性前后的樣品進(jìn)行了光催化降解RhB的評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn):評(píng)價(jià)裝置為間歇式玻璃反應(yīng)器,反應(yīng)器帶夾層可通控溫的循環(huán)水用以控制反應(yīng)溫度為25°C±2°C。給反應(yīng)提供光照的照明體系由鹵鎢燈與濾光鏡組成,濾光鏡確保反應(yīng)僅在可見光下進(jìn)行。向600mL燒杯中添加200mL初始濃度為10mgL-1的RhB稀溶液,其濃度與吸光度的對(duì)應(yīng)關(guān)系符合Beer-Lanbert Law(式3),向反應(yīng)液中加入0.05g(0.25gL-1)光催化劑,并于暗室中攪拌30分鐘,以達(dá)到吸附/脫附平衡;在光照下進(jìn)行1小時(shí)的光催化降解反應(yīng),每隔10分鐘進(jìn)行一次反應(yīng)液的提取,RhB的光降解效率可通過(guò)檢測(cè)反應(yīng)液的吸光度變化得出(式4)。
其中C0和A0分別是RhB溶液的初始濃度和吸光度,Ct和At則分別是RhB溶液反應(yīng)t時(shí)間后的即時(shí)濃度和吸光度。
2結(jié)果與討論
2.1光催化劑的物理化學(xué)性質(zhì)
圖1中是用濃度為20%的雙氧水氧化處理前后樣品的表面形貌圖??梢钥闯?,原始樣品是由大量分散的二維薄片狀晶體組成的,在經(jīng)過(guò)氧化處理后,原本分散的薄片團(tuán)聚在一起,樣品的結(jié)構(gòu)變得致密。
圖2中分別展示了母體g-C3N4和被不同濃度的H2O2改性處理后的OH-g樣品的XRD譜圖??梢钥闯鰞煞N樣品所檢測(cè)到的特征峰位置相同,說(shuō)明H2O2氧化處理后,物質(zhì)的結(jié)構(gòu)沒(méi)有遭到破壞。對(duì)兩個(gè)衍射角位置的峰進(jìn)行詳細(xì)分析發(fā)現(xiàn),出現(xiàn)在低衍射角位置的特征峰位置和強(qiáng)度均未發(fā)生改變,因此可以確定,對(duì)母體g-C3N4進(jìn)行H2O2氧化處理并未對(duì)材料本身產(chǎn)生氧化腐蝕的副作用。高衍射角位置的特征峰向高衍射角方向發(fā)生了0.4°的偏移,說(shuō)明母體材料不僅未被剝離,而且堆疊更加致密,與SEM的表征結(jié)果一致。除此之外,OH-g樣品該位置的特征峰強(qiáng)度明顯增加,推測(cè)高衍射角位置的特征峰這兩種變化產(chǎn)生的原因?yàn)椋簩?duì)g-C3N4進(jìn)行H2O2的氧化處理后,材料表面生成了目標(biāo)羥基基團(tuán),在這些基團(tuán)的作用下,原本靠范德華力堆疊的g-C3N4的2D晶面結(jié)合更加緊密且更加有序。
為了考察表面改性對(duì)母體g-C3N4光學(xué)性能的影響,對(duì)母體g-C3N4和不同濃度H2O2改性處理的OH-g樣品進(jìn)行了DRS表征,表征結(jié)果如圖3所示。在圖3a中,四種樣品均呈現(xiàn)出半導(dǎo)體的本征吸收曲線,曲線吸收邊在可見光譜的藍(lán)光區(qū)域。與母體g-C3N4相比,改性后的樣品在全譜范圍內(nèi)對(duì)光的吸收強(qiáng)度增加,該結(jié)論表明表面羥基官能團(tuán)的生成增強(qiáng)了催化劑對(duì)光的吸收。導(dǎo)致這一結(jié)果的原因可能是,表面羥基基團(tuán)屬于助色團(tuán),含有未成鍵孤對(duì)電子,當(dāng)羥基基團(tuán)與可產(chǎn)生π-π*躍遷的生色團(tuán)相連時(shí),會(huì)引起電荷重組,在已有的π-π*躍遷基礎(chǔ)上引入未共用孤對(duì)電子(n電子)向反鍵π*軌道的n-π*躍遷,使吸收邊發(fā)生紅移。
對(duì)DRS結(jié)果進(jìn)行進(jìn)一步的Tauc計(jì)算得出表面改性前后樣品的禁帶能量(Eg),結(jié)果如圖3b所示。母體g-C3N4的Eg值為2.74eV,當(dāng)對(duì)母體g-C3N4進(jìn)行了表面氧化處理后,以O(shè)H20-g為例,其禁帶寬度略有減小,Eg值為2.72eV。這是由于雖然有表面羥基基團(tuán)的形成,會(huì)引起吸收邊紅移,但因?yàn)榱u基基團(tuán)的含量較少,因此紅移不明顯。
2.2光催化劑的反應(yīng)性能
改性前后的光催化劑對(duì)RhB的光催化降解實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖4所示。從圖中可以很明顯看出,改性處理后的樣品(OH-g)均表現(xiàn)出了明顯提高的光催化活性,在反應(yīng)進(jìn)行10分鐘時(shí),母體g-C3N4對(duì)RhB的光降解率為30%,當(dāng)g-C3N4被氧化處理后,光降解RhB的效率最小升至60%。對(duì)光降解實(shí)驗(yàn)進(jìn)行一級(jí)動(dòng)力學(xué)分析(圖4b,表1)可以得出,對(duì)g-C3N4進(jìn)行表面羥基化處理后,樣品的RhB光催化降解反應(yīng)速率常數(shù)可以提高6-10倍,其中OH20-g光降解RhB的總反應(yīng)速率常數(shù)是g-C3N4總反應(yīng)的10倍,說(shuō)明表面羥基化改性對(duì)光催化性能的提高有明顯的促進(jìn)作用。
3結(jié)論
本實(shí)驗(yàn)使用了不同濃度的雙氧水作為氧化劑,通過(guò)液相氧化的方式對(duì)母體g-C3N4進(jìn)行了表面羥基化改性處理。對(duì)處理得到的樣品進(jìn)行表征得知,氧化處理未破壞母體g-C3N4的結(jié)構(gòu),僅在表面形成了羥基等含氧官能團(tuán)。與母體g-C3N4相比,表面氧化處理后得到的OH-g樣品光催化降解RhB的性能得到了明顯提高。通過(guò)對(duì)光催化反應(yīng)過(guò)程進(jìn)行一級(jí)動(dòng)力學(xué)分析發(fā)現(xiàn),OH-g的反應(yīng)速率常數(shù)是母體g-C3N4的6-10倍。
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