本報訊7月9日，KLA公司發(fā)布392x和295x光學缺陷檢測系統(tǒng)和eDR7380電子柬缺陷檢視系統(tǒng)。這些全新的檢測系統(tǒng)是該公司旗艦產(chǎn)品系列——圖案晶圓平臺的進一步拓展，其檢測速度和靈敏度均有提升，代表了光學檢測的新水準。全新電子束檢視系統(tǒng)的創(chuàng)新使其自身價值進一步穩(wěn)固，并成為缺陷和發(fā)現(xiàn)其產(chǎn)生根源之間的必要一環(huán)。對于領(lǐng)先的3DNAND、DRAM和邏輯集成電路（IC），該產(chǎn)品組合將縮短整個產(chǎn)品周期，加快其上市時間。

“為了有利潤地制造下一代內(nèi)存和邏輯芯片，對所需的制程控制要求之高也是前所未有的?！盞LA國際產(chǎn)品部執(zhí)行副總裁Ah-mad Khan說，“元件結(jié)構(gòu)變得更小、更窄、更高、更深，并且形狀更為復(fù)雜，以及材料更為新穎。將缺陷與其他無害的物理變化分開，已成為一個非常棘手的難題。我很高興地宣布我們的光學和電子束工程團隊開發(fā)了一系列創(chuàng)新的系統(tǒng)，將缺陷的檢測和檢視相結(jié)合，這將推動我們的行業(yè)繼續(xù)向前發(fā)展。”