李明軒 于麗娟 劉建國

摘要：光隔離器是保障光通信系統(tǒng)穩(wěn)定運行的重要核心器件。目前，光通信器件在單個芯片上的集成是必然趨勢，但光隔離器的集成仍然存在損耗高、隔離度差、集成工藝困難等諸多問題，復(fù)雜有源光通信器件片上集成的發(fā)展也因此受到了阻礙。概述了實現(xiàn)光隔離的幾種有效方案，介紹了硅基集成光隔離器的最新研究進展，并對其未來的發(fā)展態(tài)勢進行了展望。

關(guān)鍵詞：光學(xué)器件;硅基集成;非互易器件;光隔離器;波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

Abstract： Optical isolators are core devices to ensure the stable operation of optical communication systems. At present， the integration of optical communication devices on a single chip is an inevitable trend， but there are still some serious problems in the integration of isolators such as high loss， poor isolation， and difficult integrating process， which have hindered the development of on-chip integration of complex active optical communications devices. In this paper， several effective solutions for optical isolation and the latest research progress of silicon-based integrated optical isolators are introduced， and its future development is forecasted.

Key words： optical device; silicon-based integration; non-reciprocal device; optical isolators; waveguide structure

隨著信息時代的發(fā)展，為了更好地滿足其“爆炸式增長”的信息傳輸需要，人們對光纖通信模塊、鏈路和系統(tǒng)的性能要求也在逐步提升。在光路中，由于種種原因會產(chǎn)生與正向傳輸光方向相反的反射光。例如，當光耦合進入光纖時，由于連接器和熔接點的存在，將會在這些端面和點處產(chǎn)生與原傳輸方向相反的反射光。反射波的光子回到器件之中時，會與半導(dǎo)體材料進行二次作用。這將干擾發(fā)光材料的正常載流子分布，導(dǎo)致光路系統(tǒng)間產(chǎn)生自耦合效應(yīng)和自激勵效應(yīng)，造成其他波長和模式光的產(chǎn)生，同時會破壞傳輸穩(wěn)定性并給器件帶來各種不良影響。這些不良影響包括：（1）對于直調(diào)激光器，反射波會給激光帶來啁啾，導(dǎo)致光源信號的劇烈波動，調(diào)制帶寬下降，十分不利于高速信號的長距離傳輸，嚴重時甚至?xí)龤Ъす馄?（2）對于光纖放大器，反射波的存在會增加噪聲強度，從而使傳輸信噪比降低;（3）對于模擬信號傳輸系統(tǒng)，本身抗電磁波干擾能力就較差，反射波會嚴重影響通信質(zhì)量;（4）對于相干光通信系統(tǒng)而言，反射波會增加載波信號的光譜寬度并帶來頻率漂移，使系統(tǒng)無法滿足外差法的條件從而不能正常工作。

光隔離器是使光信號只允許沿一個方向傳播并能阻擋反射光的器件，又叫光單向器。它類似于電路中的“二極管”，能夠用來防止光路中由于各種原因產(chǎn)生的反射光給正向傳輸光帶來的不良影響。因此，光通信系統(tǒng)需要在這些端口處加入隔離器，這樣能夠有效地穩(wěn)定系統(tǒng)的正常工作，從而保證信號的傳輸質(zhì)量。衡量光隔離器性能的指標包括插入損耗、反向隔離度、回波損耗、3 dB隔離度帶寬、通帶帶寬、偏振相關(guān)損耗、溫度特性等。為了能夠使光隔離器在系統(tǒng)中發(fā)揮更好的效果，高反向隔離度、高工作帶寬、高回波損耗、高穩(wěn)定性和可靠性、低插入損耗等特性是光隔離器的主要發(fā)展方向。

近年來，硅基光電子學(xué)的進步和絕緣層上硅（SOI）波導(dǎo)的出現(xiàn)，使光電子器件正朝著小型化和集成化的方向發(fā)展。這更讓人們看到了光通信系統(tǒng)在片上集成方面的發(fā)展前景，實現(xiàn)光電融合這一目標指日可待。與體型隔離器相比，集成光隔離器體積更小。特別是硅基集成的器件通過設(shè)計可以與其他器件一同進行流片生產(chǎn)，十分適用于集成光路中且有望進行大規(guī)模的生產(chǎn)。不僅如此，硅基集成的器件使用時不需要與光源進行對準，具有可靠性較高的特點。對于磁光隔離器而言，集成型磁光隔離器還具有所需的外加磁場強度更小等一系列優(yōu)點;但由于缺乏一種有效且實用的光隔離器的集成方法，目前復(fù)雜的有源器件在光子集成芯片上的集成也受到了一些阻礙。

通過推導(dǎo)洛倫茲互易定理可知，對于線性的非時變傳輸系統(tǒng)而言，破壞互易定理成立的條件使上述方程不為零，即可得到非互易的光傳輸，實現(xiàn)反向光的隔離。因此，可以從破壞對稱性、破壞線性性以及破壞非時變性這3個角度去破壞互易定理，再根據(jù)物理性質(zhì)不同的正反向光在同一種材料或結(jié)構(gòu)中的傳播特性不同，最終可實現(xiàn)隔離反向光的效果。光隔離器的研究最初源于磁光材料及其法拉第旋光效應(yīng)的發(fā)現(xiàn)，根據(jù)有無磁光材料可將光隔離器分為磁光隔離器或非磁光隔離器。

1.2 磁光隔離器

使用磁光材料的隔離器為磁光隔離器。磁光材料的介電常數(shù)張量是非對稱的，因此采用磁光方法可以從破壞對稱性的角度來打破洛倫茲互易定理，這也是光隔離重點研究的方向。衡量磁光材料隔離效果的物理參數(shù)為法拉第旋光系數(shù)。除此之外，材料的光學(xué)損耗也會影響到器件的最終性能。因此，較為理想的磁光材料需要同時具有比較大的法拉第旋光系數(shù)和比較低的光學(xué)吸收損耗，這種物理特性在鐵石榴石這種材料中較為常見。

1958年，DILLON JR. J. F.等人首次發(fā)現(xiàn)釔鐵石榴石材料Y3Fe5O12（YIG）對于紅外光具有較好的傳遞性和較低的傳輸損耗，可用于磁光隔離器的制造[1]。但由于當時材料的制備技術(shù)不成熟，在器件的實際制造方面幾乎沒有應(yīng)用價值。20世紀70年代，液相外延（LPE）、射頻濺射技術(shù)的進步促進了薄膜材料的廣泛應(yīng)用，磁光薄膜材料應(yīng)運而生[2-4]。同時期，科學(xué)家們發(fā)現(xiàn)YIG中的Y3+離子在由少量抗磁性的Bi3+離子取代之后得到Bi：YIG，能夠在通信波長1 300 nm和1 550 nm附近具有高出之前磁光材料幾個數(shù)量級的法拉第旋光系數(shù)，且隨著Bi3+離子含量的增加線性增大。1988年，GOMI M.等人發(fā)現(xiàn)了利用Ce3+離子取代YIG材料中的Y3+離子得到Ce：YIG[5]，對于相同波長的光波，相比Bi：YIG有其5～6倍的法拉第旋光系數(shù)，且溫度系數(shù)更小。此后，產(chǎn)生了許多利用LPE和射頻濺射制備的Bi：YIG和Ce：YIG薄膜材料制成的磁光隔離器，為隔離器的小型化打開了局面。

傳統(tǒng)體型光隔離器為法拉第旋光型隔離器，由2個偏振器和中間的磁光材料組成。光的非互易性傳播通過磁光效應(yīng)實現(xiàn)，即磁光材料在外加磁場下會產(chǎn)生法拉第旋光效應(yīng)，原理如圖1所示。假設(shè)光從左到右為正向傳輸，豎直方向的線偏振光經(jīng)過左側(cè)偏振器進入磁光材料，由于法拉第旋光效應(yīng)使偏振方向從正向看過去逆時針旋轉(zhuǎn)了45°，之后恰好通過45°放置的右側(cè)偏振器輸出。當反向光進入隔離器時，斜45°的線偏振光經(jīng)過右側(cè)偏振器進入磁光材料，由于法拉第旋光效應(yīng)的非互易性會產(chǎn)生沿反向看過去的順時針45°旋光，此時光的偏振方向和左側(cè)偏振器的偏振方向垂直從而無法通過，由此可以實現(xiàn)對反向光的良好隔離。

上述體型隔離器要求進入隔離器的光波偏振方向是確定的，稱為偏振相關(guān)型磁光隔離器。還有偏振無關(guān)型的光隔離器，即不要求光波的初始偏振態(tài)，這種隔離器能夠適用于更廣泛的情況。

1.3 非磁光隔離器

非磁光方法的研究主要是為了解決磁光材料難以小型化和集成的弊端，除了打破對稱性角度之外，還可以從破壞線性性和非時變性角度來打破洛倫茲互易定理。線性材料的物理特性是不隨光的強度發(fā)生變化的;但對于一些非線性材料而言，不同的光強會導(dǎo)致材料的折射率隨之變化。因此，對于正反向的傳輸光，非線性材料的折射率分布不同，從而實現(xiàn)非互易傳輸。另外，正反向的光在波導(dǎo)中傳播還具有非時變性，即時間對稱性，因此也可以考慮打破這種性質(zhì)來制成隔離器。

2 光隔離器的集成

目前，商用的體型磁光隔離器具有相對良好的隔離性能，但是不能滿足光通信器件小型化的需求，因此人們開始研究波導(dǎo)型的隔離器件。早期的研究者嘗試用在石榴石襯底上的石榴石器件去研究波導(dǎo)器件，涌現(xiàn)出了許多方法，包括：（1）利用模轉(zhuǎn)換的方法改變反向傳輸光的傳播模式;（2）利用非對稱馬赫-曾德爾干涉儀（MZI）型波導(dǎo)和多模干涉型波導(dǎo);（3）注入電流增大鐵磁材料對反向光的吸收系數(shù)等[6]。其中某些方法也可以達到30 dB以上的隔離度和1 dB以下的損耗;但這些以磁光材料作為波導(dǎo)或以石榴石材料作為襯底制成的器件，還存在如相位匹配條件難以實現(xiàn)、具有形狀誘導(dǎo)的雙折射效應(yīng)、傳播損耗較大等缺點。

隨著硅基光電子學(xué)的發(fā)展，尤其是SOI波導(dǎo)的出現(xiàn)，硅已經(jīng)成為實現(xiàn)光電融合的首選材料。SOI損耗很小，目前的工藝技術(shù)允許其實現(xiàn)復(fù)雜和多變的光子集成回路，同時與互補金屬氧化物半導(dǎo)體（CMOS）工藝兼容，加之調(diào)制器、放大器、探測器等器件均在硅襯底上進行集成制成光子集成芯片;因此，光隔離器在硅基平臺上的集成是未來發(fā)展的重要方向。YIG材料的磁光特性良好，尤其是摻雜稀土離子Bi3+和Ce3+之后具有較高的法拉第旋光系數(shù)，目前也被廣泛應(yīng)用于光隔離器等磁光器件的制造。但石榴石材料難以集成在硅基光學(xué)芯片上，因為得到石榴石相需要進行熱退火，會帶來襯底之間的不匹配。因此，人們開始尋找各種無磁的硅基集成光隔離器的實現(xiàn)方法，同時也嘗試在石榴石材料的集成工藝上進行突破。

2.1 鍵合磁光薄膜的光隔離器

2008年，日本學(xué)者MIZUMOTO T.等人首次采用直接鍵合的方法將Ce：YIG薄膜集成到具有MZI結(jié)構(gòu)的SOI波導(dǎo)上，其結(jié)構(gòu)如圖2所示[7]。在給Ce：YIG薄膜施加反向平行磁場的情況下，光在器件中傳播時具有非互易相移，2臂中的反向光由于2種相移相差奇數(shù)倍而干涉相消，從而達到了隔離反向光波的效果。制成的器件在波長1 559 nm處達到最大隔離度21 dB，具有較大的工作帶寬。

2011年，TIEN M. C.等人首次用鍵合磁光石榴石的方法實現(xiàn)了硅光環(huán)形隔離器，結(jié)構(gòu)如圖3所示[8]。該隔離器包括1個環(huán)形諧振器、1條直耦合波導(dǎo)和鍵合的薄膜Ce：YIG。通過給磁光薄膜施加以環(huán)形諧振器為中心的徑向磁場，產(chǎn)生的非互易效應(yīng)打破了環(huán)形諧振器的對稱性，使光波在順時針（CW）和逆時針（CCW）傳播時具有不同的傳播常數(shù)，因此有不同的諧振波長。如果正向和反向的透射光譜偏移了自由光譜范圍的一半，則可以實現(xiàn)和優(yōu)化光學(xué)隔離。正向光傳輸為CW模式且為非諧振波長，不會耦合進入環(huán)形諧振腔而直接從直波導(dǎo)的另一端輸出;反向光傳輸為CCW模式且為諧振波長下，因此大部分光耦合進入環(huán)形腔內(nèi)產(chǎn)生諧振最終實現(xiàn)光隔離。測得該隔離器的在1 550 nm處具有9 dB的隔離度，并且因為波導(dǎo)結(jié)構(gòu)相對簡單，附加的波導(dǎo)損耗較低。

之后BI L.等人在此基礎(chǔ)上進行了改進，將環(huán)形諧振器改為跑道型環(huán)形諧振器，如圖4所示[9]。相比環(huán)形的方案，跑道型諧振器的優(yōu)點在于增大了直波導(dǎo)與諧振腔波導(dǎo)的耦合長度，讓光更容易在諧振波長耦合進入諧振腔;因此，隔離度得到了提高，在波長1 550 nm附近實現(xiàn)了19.5 dB的隔離效果。

2017年，PINTUS P.等人測出了環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)的磁光隔離器的隔離性能：在波長1 558.35 nm附近達到最大隔離度32 dB，插入損耗為10 dB左右，順時針和逆時針傳播模式之間的帶寬之差為0.2 nm[10]。該器件采用同樣直接鍵合的方法制成，適用于橫磁（TM）模。將制成的隔離器芯片輸入、輸出端口分別與可調(diào)諧激光器以及光功率計相接，TM模的光利用帶有透鏡的保偏光纖接入芯片，光斑大小為2.5 μm。還測出了MZI結(jié)構(gòu)的磁光隔離器的參數(shù)：最大隔離度大于10 dB，插入損耗小于4 dB，工作帶寬為20 nm左右。

對比2種結(jié)構(gòu)的隔離器的性能可以發(fā)現(xiàn)，MZI結(jié)構(gòu)的隔離器的最大隔離度較低，但是具有較大的工作帶寬。2種隔離器結(jié)構(gòu)的插入損耗都較大（插入損耗主要由Ce：YIG薄膜的吸收引起），而且在環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)中的吸收要更大一些，因為這種結(jié)構(gòu)鍵合的芯片尺寸要更長。額外損耗可以通過縮短被覆蓋的直波導(dǎo)的長度，或改變波導(dǎo)寬度以減少光學(xué)模式與Ce：YIG之間的重疊來減小。在應(yīng)用方面，由于環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)的隔離器2種傳播模式之間的帶寬很窄，因此可以應(yīng)用于對單波長激光器的隔離中;MZI結(jié)構(gòu)的隔離器工作帶寬較大，更適用于波分復(fù)用系統(tǒng)和高速數(shù)字信號的傳輸系統(tǒng)中。

2.2 帶有閉鎖性磁光薄膜的法拉第旋光型光隔離器

在以往關(guān)于片上集成的磁光隔離器研究工作中，人們大多在改進波導(dǎo)結(jié)構(gòu)等方面做出努力，例如采用法拉第旋光器結(jié)構(gòu)、MZI結(jié)構(gòu)、環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)等等;但是關(guān)于減小器件尺寸以及去除磁化元件（如永磁鐵或電磁鐵）的問題還沒有得到廣泛關(guān)注。DOLENDRA K.等人采用晶體離子切片技術(shù)（如圖5所示），制成了高隔離度、低插入損耗的集成磁光隔離器[11]。通過這種技術(shù)制成的3種厚度（300 μm、50 μm和11 μm）的薄膜材料，測試出隔離度消光比均大于20 dB，插入損耗均小于0.1 dB。先利用LPE生長出高質(zhì)量的塊狀材料，再利用基于離子注入的晶體離子切片技術(shù)，從高質(zhì)量的塊狀材料中獲得微米級厚度的磁光薄膜樣品。這樣制造磁光材料的好處在于成功避免了在光波導(dǎo)上進行晶格外延生長的需要。此外，能夠?qū)⑵骷叽鐪p小的重點在于這種磁光材料，不需要在器件內(nèi)部放置磁體來產(chǎn)生磁場，即實現(xiàn)無磁體器件的制造。要達到這種效果，關(guān)鍵在于設(shè)計石榴石的組成成分。通過最大限度地引入銪（Eu）來實現(xiàn)沒有偏置磁體的飽和磁性狀態(tài)，以便在不產(chǎn)生補償點的情況下減小石榴石的飽和磁化強度。制成的這種磁光材料被稱為閉鎖型法拉第旋光鐵石榴石材料，材料內(nèi)部存在預(yù)先鎖住的磁化場;因此，在應(yīng)用時不需要加偏磁磁鐵，這樣可以大大縮小器件的尺寸。

2.3 基于馬赫-曾德爾行波調(diào)制器實現(xiàn)的光隔離器

2017年，SONG B. H.等人在對一種商用的馬赫-曾德爾調(diào)制器（MZM）加載射頻（RF）調(diào)制信號時，調(diào)制器能夠呈現(xiàn)出“時間門”的效果，即能夠阻擋任何反向傳輸?shù)墓獠?，但同時允許正向傳輸?shù)闹芷谛悦}沖信號通過，結(jié)構(gòu)及原理圖如圖6所示[12]。這個特定的功能是利用光波、電信號的共同傳播和逆向傳播在調(diào)制器中光信號、電信號的相互作用。反向傳播產(chǎn)生的調(diào)制器輸出等于輸入電信號的時間積分形式，積分窗口長度是調(diào)制器傳播延遲的2倍。當輸入電信號是周期性的RF頻率并且積分窗口是其周期的整數(shù)倍時，積分結(jié)果是恒定的零，輸入RF信號對于調(diào)制器反向傳輸光的輸出沒有影響。因此，當調(diào)制器偏置為零傳輸時，只要仔細選擇調(diào)制頻率，就可以阻擋與調(diào)制波相位無關(guān)的反向傳輸光波。正向傳輸光受RF驅(qū)動信號的常規(guī)調(diào)制。這樣，正弦周期中的每個RF信號峰值驅(qū)動調(diào)制器遠離零傳輸狀態(tài)，并且打開了前向光波的傳輸時間門。

2.4 實現(xiàn)光隔離的其他方法

除上述方法之外，人們還進行了其他無磁方法的探索。例如，利用帶有半疇結(jié)構(gòu)的奇數(shù)個電疇的周期性極化鈮酸鋰晶體（O&HPPLN）構(gòu)成一種新的非磁光隔離器[13];利用二維光子晶體結(jié)構(gòu)實現(xiàn)非線性光子晶體隔離器[14];利用波導(dǎo)中的光子轉(zhuǎn)化能夠在相反的傳播模式中產(chǎn)生非互易相位響應(yīng)的特點，提出了一種MZI結(jié)構(gòu)來構(gòu)成光隔離器[15];采用硅基集成的納米光子環(huán)諧振器利用角動量誘導(dǎo)來實現(xiàn)非互易性傳播[16];利用四波混頻（FWM）效應(yīng)，采用具有級聯(lián)濾波器的硅基集成光學(xué)隔離[17]等。這些方法都從非磁光材料的角度來實現(xiàn)光隔離，但普遍處于理論驗證階段。同時，方法中采用的光學(xué)調(diào)制、非線性效應(yīng)等均需要較大功率的輸入光，普遍存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜、正向光透過率低、損耗較大、實用性不強等弊端，但為實現(xiàn)集成光隔離的探索開辟了新的思路。

3 結(jié)束語

實現(xiàn)光隔離的基本方法是實現(xiàn)光在介質(zhì)中的非互易性傳輸，可以借助磁光方法和非磁光方法來完成。磁光方法主要依靠磁光材料介電常數(shù)的不對稱性，通過法拉第旋光、非互易相移等具體方式來實現(xiàn);而非磁光方法主要利用特殊的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，改變介質(zhì)折射率的分布或系統(tǒng)的非時變性來實現(xiàn)?？傮w來講，磁光方法較為成熟并具有良好的隔離性能，但磁光材料和磁化元件的集成較為困難，損耗較高;非磁光方法雖然無需利用磁光材料，容易集成，但是隔離性能較差，大多數(shù)方法仍處于理論研究階段。

對SOI波導(dǎo)器件的結(jié)構(gòu)進行設(shè)計，產(chǎn)生了各類磁光以及非磁光隔離器件，且具有較高的集成度。磁光隔離器采用直接鍵合的方法將磁光薄膜材料貼合在SOI波導(dǎo)上;非磁光隔離器則利用光子躍遷、行波調(diào)制等方法。而馬赫-曾德爾結(jié)構(gòu)和環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)的集成光隔離器在2種方法中均較為常見。2種結(jié)構(gòu)相比，馬赫-曾德爾結(jié)構(gòu)具有較大的工作帶寬，更適用于多波長傳輸;但結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜，不僅帶來較高的彎曲波導(dǎo)損耗，更要求工藝容差小，需要較高的工藝精度。微環(huán)結(jié)構(gòu)隔離度較大，結(jié)構(gòu)簡單，損耗較低;但工作帶寬窄，實用性偏低。其他方法如具有行波調(diào)制的方法，也為隔離器的發(fā)展提供了新的思路。隨著工藝的不斷進步，隔離器會逐漸突破結(jié)構(gòu)和材料的限制，實現(xiàn)高隔離度、低插入損耗、大工作帶寬、小尺寸、超緊湊的硅基光隔離器的集成。