蔡建榮 羅俊 邱忠文 趙茂霖
(中國電子科技集團公司第二十四研究所 重慶市 400060)
MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)是金屬-氧化層-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管的簡稱,中文簡稱MOS 器件,是一種典型的半導(dǎo)體功率器件。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進步,MOS器件性能提升明顯,應(yīng)用日益廣泛。電源控制和電源轉(zhuǎn)換是MOS器件大量使用的一個重要領(lǐng)域,在這類應(yīng)用中,MOS 器件通常作為開關(guān)使用,而其動態(tài)參數(shù)是非常關(guān)鍵的參數(shù),直接影響到應(yīng)用電路的可靠性。因此,動態(tài)參數(shù)準確測量成為MOS 器件參數(shù)測試的重點。
但以往的測試大多受于認識層面和測試儀器設(shè)備的限制,往往對這些器件只進行了擊穿電壓、開啟電壓、漏電流等靜態(tài)參數(shù)的測試。另外由于測試方法也不統(tǒng)一,所以在動態(tài)測試方面往往成為了空白。本課題針對MOS 器件的動態(tài)參數(shù),采用美國ITC 公司制造的57300 動態(tài)參數(shù)測試儀進測試分析,以期待對MOS 器件的動態(tài)參數(shù)測試有一個較為全面的認識。
對大量國外的MOS 器件的PDF 進行分析,我們將MOS 器件的動態(tài)參數(shù)歸類如下:
時間參數(shù):
(1)td(on):導(dǎo)通延遲時間(Turn on delay time)。
(2)tr:電流上升時間(Current Rise Time)。
(3)Ton:導(dǎo)通時間(Turn-on Time)ton 是定義為導(dǎo)通延遲時間td(on)和上升時間tr 之總和。
(4)Td(off):截止延遲時間(Turn-off delay time tdoff)。
(5)Tf:下降時間(Fall Time tf)。
(6)Toff:截止時間,toff 是定義為截止延遲時間與下降時間tf 之總和。
柵電荷參數(shù):
(7)Qg:柵極電荷,Qgs:柵源充電電量,Qgd:柵漏充電電量。
反向二極管參數(shù):
(8)Trr:二極管反向恢復(fù)時間。
(9)Qrr:二極管反向恢復(fù)充電電量。
(10)di/dt:二極管反向恢復(fù)時電流變化率。
dv/dt:二極管反向恢復(fù)時電壓變化率。
MOS 器件一般為單極型器件,靠多數(shù)載流子導(dǎo)電,因此開關(guān)速度較快,一般都在納秒數(shù)量級。MOS 器件的時間參數(shù)主要用來反映輸出信號與變化的輸入信號之間的關(guān)系,它影響器件開關(guān)的整個過程。
開關(guān)時間參數(shù)測試時,延遲時間是一個主要的因素,延遲時間通常是由柵電容的充放電效應(yīng)造成的。
MOSFET 器件的開關(guān)時間一般包括四個主要延遲時間,每個時間的定義如下:
圖1:開關(guān)時間測試電路
圖2:開關(guān)時間波形響應(yīng)
圖3:實測響應(yīng)波形
圖4:開關(guān)時間波形響應(yīng)
圖5:柵電荷測試線路圖
Td(on)導(dǎo)通延遲時間:是指輸入電壓上升到其幅值10% 到VDS(器件源漏兩端的壓降)下降到其幅值 10% 的時間。
Tr 上升時間:是指VDS 從下降10% 到下降到其其幅值 90%的時間。
而導(dǎo)通時間(開啟時間)為:Ton= Td(on)+Tr
Td(off)關(guān)斷延遲時間:是指輸入電壓下降到其幅值10% 開始到 VDS上升到其關(guān)斷電壓10%的時間。
Tf 下降時間:是指輸出電壓VDS從導(dǎo)通壓降10%到其幅值關(guān)斷電壓90% 的時間。
關(guān)斷時間為:Toff=Td(off)+Tf
功率MOSFET 的開關(guān)時間測試電路如圖1所示。
圖6:二極管Trr/Qrr 的測試電路
圖7:二極管Trr/Qrr 的測試電路與波形
其中,Vp 為產(chǎn)生驅(qū)動信號方波的脈沖信號源;RGEN為信號源內(nèi)阻;RGS為柵極電阻,RL為漏極負載電阻。LDST為輸出回路的寄生電感。
當信號源產(chǎn)生的脈沖電壓Vp 的上升沿到來時,由于MOSFET有輸入電容,而輸入電容會有一個充電過程,使得器件的柵極電壓VGS按指數(shù)曲線上升。當VGS上升到開啟電壓Vth 時,MOS 電路形成導(dǎo)電溝道,出現(xiàn)漏極電流ID。
從Vp 前沿時刻到VGS=Vth,且開始出現(xiàn)ID的時刻,這段時間稱為導(dǎo)通延時時間td(on)。此后,ID隨VGS的上升而增大,VGS從開啟電壓Vth上升到 MOSFET 器件臨近柵極飽和區(qū)電壓VGSP這段時間,稱為上升時間tr。而MOSFET 的導(dǎo)通時間為這兩個時間的總和:
ton=td(on)+tr
如圖2所示,當Vp 信號源電壓開始下降時,柵極輸入電容上儲存的電荷通過電阻RGEN和RGS放電,使柵極電壓按指數(shù)曲線下降,當下降到VGSP時繼續(xù)下降,ID才開始減小,這段時間稱為關(guān)斷延時時間td(off)。此后,輸入電容繼續(xù)放電,VGS電壓繼續(xù)下降,ID也繼續(xù)下降到VGST時,導(dǎo)電溝道消失,這是器件的ID變?yōu)?,這段時間稱為下降時間tf。而MOSFET 的關(guān)斷時間為這兩段時間之和:
toff=td(off)+tf
圖3 為實測中用示波器捕獲的時間響應(yīng)波形。
說明:
CH1 曲線為柵極VG 電壓驅(qū)動波形。
CH2 曲線為漏極/集電極VD/VC 電壓響應(yīng)波形,有延時。
柵電荷也是MOSFET 的重要動態(tài)參數(shù)之一。由于MOSFET 是電壓驅(qū)動型器件,驅(qū)動的過程就是柵極電壓的建立過程,而這是通過對柵源及柵漏之間的寄生電容充電來實現(xiàn)的。如圖4所示。
Qg:柵極電荷。
Qgs:柵源充電電量。
Qgd:柵漏充電電量。
以下是各時間段的分析:
t0-t1:柵壓從0 上升到Vg(th),此時漏極電流開始上升,此點的電荷為qgth。t1-t2:ID 從0 達到飽和,器件完全導(dǎo)通,漏極電壓開始下降,從t0 到t2 時間段也就是從電荷開始到第一個拐點處為Qgs,此點的輸入電壓為VGp。
t2-t3:漏極電壓從VDD下降到接近于0V 也就是從第一個拐點到第二個拐點之間部分,此段為 Qgd,也稱為“米勒”電荷。
輸入電壓從0 點到Vgs 等于一個特定的峰值驅(qū)動電壓時的電荷量 Qg。如圖5所示。
如圖6所示,反向恢復(fù)參數(shù)trr/Qrr 主要是由于寄生的續(xù)流二極管產(chǎn)生的,測試電路主要由驅(qū)動管1 和待測管2 組成。測試電路的外加電壓是驅(qū)動管耐壓的80%。在外加電壓的情況下,信號輸送部分發(fā)出的雙脈沖經(jīng)過驅(qū)動電路放大驅(qū)動功率送到驅(qū)動管1,當?shù)谝粋€脈沖到驅(qū)動管時,管1 導(dǎo)通,電感開始充電。第一個脈沖過去后,管1 關(guān)斷,電感放電,電流由管2 的射極流向集電極,與電感形成回路。此段時間為第二個脈沖和第一個脈沖之間的延時時間。根據(jù)不同的測試器件,該延時時間可調(diào)。當?shù)诙€脈沖到來時,管1 導(dǎo)通,電感重新開始充電。管2 內(nèi)的二極管兩端由正向偏置轉(zhuǎn)換為反向偏置,該二極管不能立即關(guān)斷,需要經(jīng)過一段暫短的時間才能獲得反向阻斷能力,進入截止狀態(tài)。并在關(guān)斷前有較大的反向電流出現(xiàn),并伴隨有明顯的反向電壓過沖。這是因為正向?qū)〞r在PN 結(jié)兩側(cè)儲存的大量少子需要被清除掉以達到反向偏置穩(wěn)態(tài)的緣故。
下面為IR 公司某器件的規(guī)格書給出的Trr/Qrr 即反向恢復(fù)參數(shù)的測試電路及波形,如圖7所示。
本課題主要探討了MOS 器件在測試動態(tài)參數(shù)的一點心得和測試結(jié)果,改進現(xiàn)有的MOS器件動態(tài)參數(shù)檢測技術(shù),增加和優(yōu)化相應(yīng)的器件封裝測試模塊,從而達到提高MOS 器件測試質(zhì)量,減少測試造成的質(zhì)量隱患,同時提高器件的測試效率。