樊靜靜 周正元 李燕梅 程昊
摘要:利用有序介孔碳具有巨大的比表面積、均一可調(diào)的介孔孔徑以及良好的穩(wěn)定性和導(dǎo)電性等優(yōu)良性能,制備有序介孔碳修飾電極,并研究鹽酸賽庚啶在有序介孔碳修飾電極上的電化學(xué)行為及其測定方法。采用滴涂法制備的有序介孔碳修飾玻碳電極作為工作電極,用循環(huán)伏安法測定鹽酸賽庚啶。優(yōu)化后的試驗(yàn)條件為:pH=6.0的磷酸鹽緩沖液,分散液的修飾量為4uL,掃描速率為0.19V/s。在優(yōu)化條件下,鹽酸賽庚啶的濃度在4.0×10-6~1.0×10-4mol/L內(nèi)與對(duì)應(yīng)的峰電流呈線性關(guān)系,檢出限為1.2×10+=-6mol/L。修飾電極用于鹽酸賽庚啶片中鹽酸賽庚啶的測定,回收率為98.9%~100.5%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:有序介孔碳修飾玻碳電極對(duì)鹽酸賽庚啶有較好的電催化活性,與玻碳電極相比電流響應(yīng)增強(qiáng);該修飾電極易再生,穩(wěn)定性和重現(xiàn)性較好,易操作、靈敏高;有序介孔碳修飾電極循環(huán)伏安法是一種簡單快速檢測賽庚啶的方法。
關(guān)鍵詞:有寧介孔碳;鹽酸賽庚啶;循環(huán)伏安法;玻碳電極
中圖分類號(hào):TB383;O657.13DOI:10.16375/j.cnki.cn45-1395/t.2020.01.015
0引言
鹽酸賽庚啶(Cyproheptadine hydrochloride,CH)是一種強(qiáng)抗組織胺,可用于蕁麻疹、濕疹、過敏性和接觸性皮炎、皮膚瘙癢等過敏反應(yīng),也可用于柯興病和肢端肥大癥??菇M胺作用較氯苯那敏、異丙嗪強(qiáng),并有中度抗5-羥色胺作用和抗膽堿作用。另外,臨床發(fā)現(xiàn),賽庚啶還有治療流行性腮腺炎等多種新用途,研究表明CH的H1拈抗作用比撲爾敏強(qiáng)5倍以上。
碳納米材料是目前研究最為廣泛的一種碳材料,一般具有發(fā)達(dá)的孔隙、高的比表面積、優(yōu)良的耐熱性質(zhì)及獨(dú)特的電子傳導(dǎo)性質(zhì)。碳納米材料有石墨烯、碳納米管、介孔碳等,例如蒙坤林等用氧化石墨烯改善了高貝利特水泥的性能,黃小青等用氧化石墨烯改善了水泥的抗蝕性。而有序介孔碳是新型的非硅基介孔材料,是在介孔硅的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。有序介孔碳的硬模板法制備主要以介孔硅為模板,填充碳源前驅(qū)體至其孔道中,然后高溫碳化、去除硅模板得到。介孔碳材料具有巨高的比表面積,高孔隙率、孔徑尺寸在一定范圍內(nèi)可調(diào),以及良好的穩(wěn)定性和導(dǎo)電性,在吸附與分離、催化、氣體儲(chǔ)存、電化學(xué)能量儲(chǔ)存與轉(zhuǎn)化、電分析修飾電極乃至生物醫(yī)藥等眾多領(lǐng)域均具有廣闊的應(yīng)用前景。目前對(duì)于CH的檢測方法有紫外-分光光度法,高效液相色譜法,核黃素化學(xué)發(fā)光體系檢測法,高效毛細(xì)管電泳法,選擇性膜電極法,超高效液相色譜-串聯(lián)質(zhì)譜(UPLC/MS/MS),熒光分光光度法,滴定法。這些方法都具有耗時(shí)、昂貴、操作麻煩等缺點(diǎn)。近年來,電化學(xué)法測定CH因其成本低、制備容易、靈敏度高、反應(yīng)速度快等特點(diǎn)而被廣泛關(guān)注。
1實(shí)驗(yàn)部分
1.1儀器與試劑
RST系列電化學(xué)工作站(鄭州世瑞思儀器科技有限公司),飽和氯化銀電極(參比電極),鉑絲電極(對(duì)電極),玻碳電極(工作電極)組成三電極系統(tǒng);超聲波清洗機(jī)(寧波新芝生物科技股份有限公司)。
CH片(廣東九連山藥業(yè)有限公司),Nafion(上海河森電氣有限公司),磷酸二氫鈉(臺(tái)山市粵僑試劑塑料有限公司),十二水合磷酸氫二鈉(西隴化工股份有限公司)。異丙醇(西隴科學(xué)股份有限公司),玻碳電極(天津艾達(dá)恒晟科技發(fā)展有限公司),氯化鉀(西隴科學(xué)股份有限公司),鐵氰化鉀(成都市科隆化學(xué)品有限公司),亞鐵氰化鉀,三水合物(上海麥克林生化科技有限公司),介孔硅(SBA-15),實(shí)驗(yàn)所用試劑均為分析純,實(shí)驗(yàn)用水均為超純水。
1.2實(shí)驗(yàn)步驟
1.2.1玻碳電極的預(yù)處理
玻碳電極依次在l um、0.3um、50nm的氧化鋁粉末拋光打磨,按超純水、乙醇、超純水的順序各超聲10s,用玻碳電極、飽和氯化銀電極、鉑電極組成三電極系統(tǒng),放于鐵氰化鉀溶液中用電化學(xué)工作站循環(huán)伏安法測得電極的電位差在64mV~80mV范圍內(nèi),靜置晾干,即裸玻碳電極。
1.2.2材料制備
介孔碳材料的制備:①初步碳化:以蔗糖為碳源,SBA-15為模板,加入硫酸,保持蔗糖的質(zhì)量是硫酸質(zhì)量的10倍,在90℃左右的條件下,將水分蒸發(fā),然后放置6h在160℃的烘箱中,完成初步碳化。②二次碳化:將①中所得到的產(chǎn)物溶于水中,然后加入碳源和硫酸,重復(fù)①中的操作,完成二次碳化。③最后在惰性氣體的保護(hù)下,900℃保持4h,完成整個(gè)碳化過程。得到的二氧化硅/碳復(fù)合產(chǎn)物用5%的HF溶液除去二氧化硅,得到介孔碳(CMK-3)。
1.2.3修飾電極制備
分散液的制備:將2.5mg的CMK-3粉末分散1mL在含有0.5%Nafion的水和異丙醇(4:1)混合液中,用超聲儀超聲混合30min得到2.5mg/mL的CMK-3分散液。
取上述制得的分散液4uL滴于玻碳電極上,靜置,自然晾干后得到CMK-3修飾的玻碳電極(CMK-3/GCE)。
1.2.4CH標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備
1.0×10-5mol/LCH標(biāo)準(zhǔn)溶液:準(zhǔn)確稱取0.0032g的CH,定容于100mL的棕色容量瓶中,超聲波除氣后得到1.0×10-4mol/L的CH標(biāo)準(zhǔn)溶液。取10mL 1.0×10-4mol/L的CH標(biāo)準(zhǔn)溶液,定容于100mL的容量瓶中,得到1.0×10-5mol/L的CH標(biāo)準(zhǔn)溶液,兩瓶溶液均放置在冰箱備用。
1.2.5 電化學(xué)方法
CMK-3/GCE為工作電極,鉑絲為對(duì)電極,飽和氯化銀電極為參比電極,磷酸鹽緩沖液作為底液,加入1.0×10-5mol/L的CH標(biāo)準(zhǔn)溶液,攪拌后靜置,以0.05V/s的掃描速率進(jìn)行循環(huán)伏安掃描,記錄電流值,繪制電壓和電流值的循環(huán)伏安圖。
2結(jié)果與討論
2.1CMK-3的表征
實(shí)驗(yàn)對(duì)CMK-3進(jìn)行SEM表征,如圖1(a)、圖1(b)所示,可以觀察到表面有規(guī)則的螺旋狀條紋且緊密地聚集在一起的尺寸均勻的CMK-3,還可以看出CMK-3結(jié)構(gòu)特殊,具有高度排列有序、孔徑大小在納米尺寸上連續(xù)可調(diào)的孔道結(jié)構(gòu),并具有比表面積和孔容大,吸附能力強(qiáng)等特性。
2.2CH在CMK-3/GCE上的電化學(xué)行為
如圖2所示電解質(zhì)為pH 6.0的磷酸鹽緩沖液(PBS),裸玻碳電極對(duì)CH沒有響應(yīng);在CMK-3/GCE上,在-0.5v左右出現(xiàn)CH的氧化峰,在-0.15v左右出現(xiàn)其還原峰。由圖2可知:CMK-3修飾玻碳電極比裸玻碳電極具有更好的電化學(xué)活性,吸附成膜于電極表面的CMK-3利于電子之間的傳遞,且在修飾電極上反應(yīng)具有可逆性。
2.3分散液的修飾量對(duì)CH峰電流值的影響
玻碳電極上分散液(2.5mg/mL的CMK-3分散液)的修飾量可能影響電化學(xué)的響應(yīng),因此有必要選擇合適的修飾量。圖3顯示了用循環(huán)伏安法在10mLpH=6.0的PBS中,修飾量在1uL~6uL范圍內(nèi)氧化峰電流的變化。修飾量在1uL~4uL范圍內(nèi),CH的氧化峰電流隨修飾量的增大而增大,修飾量為4uL時(shí)達(dá)到最大,隨后隨著修飾量的增大而減小,直至6uL。因此,選擇4uL作為玻碳電極的最佳修飾量。
2.4掃描速率對(duì)CH氧化峰電流的影響
掃描速率可能影響電化學(xué)的響應(yīng),因此有必要選擇合適的掃描速率。圖4和圖5顯示了用循環(huán)伏安法在10mL pH=6.0的PBS中,掃描速率在0.03~0.21V/s范圍內(nèi)氧化峰電流的變化,CH的氧化峰電流與掃速呈線性關(guān)系,線性方程為:I=9.4196v-0.0798,線性相關(guān)系數(shù)R2=0.9874.說明CH在CMK-3/GCE電極表面的氧化是受吸附控制過程。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,提高掃速有利于提高CH的氧化峰電流。綜合靈敏度與峰形等因素的影響,在本實(shí)驗(yàn)中,選擇0.19V/s為最佳掃描速度。
2.5緩沖液對(duì)CH的電化學(xué)行為的影響
緩沖溶液可能影響電化學(xué)的響應(yīng),因此有必要選擇合適的緩沖溶液。圖6顯示100uL的濃度為1.0×10-5~mol/L的CH分別在10mL磷酸緩沖液(PBS:pH=6.5)和10mL硼酸緩沖液(BBS:pH=6.5)的電化學(xué)行為,發(fā)現(xiàn)磷酸緩沖液峰形較硼酸緩沖液好,峰電流最大,因此,選擇磷酸緩沖液作為測定底液。
2.6緩沖液pH對(duì)CH氧化峰電流的影響
緩沖溶液的pH值可能影響電化學(xué)的響應(yīng),因此有必要選擇合適的pH值。圖7顯示了在0.1mol/L緩沖液中,pH值在4.5~7.0范圍內(nèi)氧化峰電流的變化。pH值在4.5~6.0范圍內(nèi),CH的氧化峰電流隨pH值的增大而增大,pH為6.0時(shí)達(dá)到最大,隨后隨著pH值的增大而減小,直至7.0.因此,選擇6.0作為緩沖溶液的最佳pH。
2.7介孔碳修飾電極的重現(xiàn)性和穩(wěn)定性
為研究修飾電極的重現(xiàn)性,同時(shí)制備了10根不同的CMK-3修飾的玻碳電極,并在磷酸鹽緩沖液(DH=6)加入1.0×10-5mol/LCH溶液進(jìn)行檢測比較,其相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差為4.60%。結(jié)果表明,該修飾電極重復(fù)性較好。修飾電極的重復(fù)性是通過用1根修飾電極在上述溶液中進(jìn)行10次重復(fù)檢測,RSD為4.68%,表明修飾電極也具有良好的重復(fù)性。
2.8標(biāo)準(zhǔn)曲線和檢出限
圖8所示,在實(shí)驗(yàn)優(yōu)化的條件下,對(duì)CH標(biāo)準(zhǔn)溶液系列進(jìn)行測定,結(jié)果表明:CH的濃度在4.0×10-6~1.0×10-4mol/L范圍內(nèi)與氧化峰電流呈線性關(guān)系,線性回歸方程ip=0.1275c+4.0124,相關(guān)系數(shù)為R2=0.9952.檢出限(S/N=3)為1.2×10-6mol/L。
2.9回收試驗(yàn)
CMK-3/GCE用循環(huán)伏安法進(jìn)行加標(biāo)回收實(shí)驗(yàn)測定CH的含量。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表1所示,CH的回收率在98.9%~100.5%之間,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差<5.0%,說明CMK-3/GCE可用于實(shí)際樣品中CH的測定。
2.10干擾實(shí)驗(yàn)
如圖9所示,實(shí)驗(yàn)在己選定的條件下,考察一些水中常見離子對(duì)1.0×10-5mol/L CH測定的影響,結(jié)果表明:相對(duì)誤差在±5%以內(nèi)時(shí),20倍的Ca2+、k+、Na+、Al3+,10倍的葡萄糖、β-環(huán)糊精、抗壞血酸不干擾測定。
3 結(jié)論
研究了一種用CMK-3材料修飾玻碳電極的電化學(xué)傳感器。通過對(duì)可能影響峰電流的條件的優(yōu)化,包括分散液的修飾量、掃描速率、緩沖液、緩沖液pH,傳感器顯示出良好的信號(hào)響應(yīng)、較高的穩(wěn)定性和選擇性以及較低的檢出限。分析原因可能是因?yàn)樵摬牧峡梢栽黾与姌O表面的活性位點(diǎn)并且能提高CH的傳遞速率。另外,在實(shí)際樣品檢測中也得到了良好的回收率,說明該材料具有潛在的應(yīng)用價(jià)值。