王 強
(中國大唐集團科學技術(shù)研究院有限公司華中電力試驗研究院,河南 鄭州 450000)
石灰石—石膏濕法脫硫技術(shù)因其處理煙氣量大、效率高、技術(shù)成熟、使用壽命長等優(yōu)點被火電廠廣泛采用。采用石灰石-石膏濕法脫硫火電廠為了增加經(jīng)濟效益,脫硫石膏(主要成分CaSO4·2H2O 與天然石膏相似,所以可替代天然石膏生產(chǎn)不同用途的石膏制品)都作為一種商品對外進行銷售[1]。然而,在現(xiàn)運行的燃煤機組中脫硫系統(tǒng)普遍存在石膏含水率高、石膏品質(zhì)差的狀況[2]。若石膏含水率過高,造成石膏無法正常脫出,不但影響機組脫硫系統(tǒng)的安全穩(wěn)定運行,還對石膏的銷售有一定影響。
某電廠3 號機組為670 MW 燃煤機組,2019 年7 月對機組脫硫系統(tǒng)進行了超低排放改造,改造后脫硫系統(tǒng)為液柱塔+噴淋塔串聯(lián)模式運行,設(shè)計參數(shù): 脫硫系統(tǒng)入口SO2質(zhì)量濃度為9 397 mg/m3(標態(tài)、干基、6%O2) 時,煙囪入口SO2質(zhì)量濃度≤25.4 mg/m3,滿足超低排放限制值35 mg/m3要求。2020 年3 月22 日,機組脫硫系統(tǒng)出現(xiàn)石膏脫水困難現(xiàn)象,石膏成稀泥狀從石膏庫淌出,嚴重影響了脫硫裝置的穩(wěn)定運行。
在石灰石-石膏濕法脫硫裝置的實際運行過程中,影響石膏脫水效果的主要因素有:煤質(zhì)、入口煙塵質(zhì)量濃度、漿液pH 值、漿液中亞硫酸鈣質(zhì)量濃度、石灰石品質(zhì)、氧化風量、工藝水質(zhì)等多個方面[3-4]。結(jié)合電廠石膏脫水困難的實際情況通過對石灰石、石膏品質(zhì)原因、煙氣原因、設(shè)備原因等多方面逐一排查,找出石膏含水率高的原因。
考慮到電廠石膏脫水困難的實際情況,化驗人員首先對石灰石、石膏進行取樣分析,化驗結(jié)果如表1 和表2 所示。
表1 石灰石品質(zhì)化驗結(jié)果 %
表2 脫硫石膏品質(zhì)化驗結(jié)果 %
由表1 可以得出:該電廠石灰石品質(zhì)合格,對石膏含水率無不良影響。從表2 可以得出:石膏中亞硫酸鈣(CaSO3·0.5H2O) 含量明顯偏高。因CaSO4·2H2O 晶體呈短柱狀顆粒,易于在漿液中長大,容易脫除水分。而CaSO3·0.5H2O 易碎、難長大、粒徑較小,粘性大,不易過濾[5]。因而石膏中CaSO3·0.5H2O含量高易造成石膏脫水困難,石膏含水率偏大。造成3 號機組石膏中CaSO3·0.5H2O 含量高的原因分析如下。
1)吸收塔漿液強制氧化效果較差。
機組吸收塔氧化空氣管布置在攪拌器葉片前端,鼓入吸收塔的氧化空氣主要通過攪拌器的 “攪拌”作用將氧化空氣均勻分散到吸收塔中,2020 年3月以來,3 號機組負荷率較高,進入一級塔的氧化風量偏低(氧化風機啟動臺數(shù)偏少、一部分氧化風進入二級塔),且有一臺漿液攪拌器發(fā)生故障無法投運,造成一級塔漿液強制氧化效果偏差,是造成石膏中CaSO3·0.5H2O 含量高的一個原因。
2)二級塔漿液亞硫酸根高。
因機組二級塔除霧器壓差大,導(dǎo)致二級塔無法正常運行,幾乎不對二級塔進行補漿,相當于二級塔只是通過水來脫除部分煙氣中的SO2,造成漿液里亞硫酸根(SO2-3)質(zhì)量濃度高,化驗結(jié)果為1 800 mg/L;同時二級塔里面漿液又循環(huán)打到一級塔中,從而使一級塔漿液里SO2-3質(zhì)量濃度遠超過正常控制值(350 mg/L),由于漿液中的與石灰石溶解的Ca2+容易結(jié)合生成難溶于水的CaSO3,因此造成石膏中CaSO3·0.5H2O含量偏高。
3)漿液pH 值控制偏高。
2020 年3 月25 日—3 月31 日 (09∶00—24∶00)期間,機組保持在較高負荷(650 MW 左右)下運行,為控制煙囪入口SO2質(zhì)量濃度小于100 mg/m3,運行人員對一級塔進行連續(xù)大量補漿,導(dǎo)致塔內(nèi)漿液pH 值偏高(5.7~5.9),造成石膏中CaSO3·0.5H2O 含量偏高。
吸收塔漿液中SO2溶入水后產(chǎn)生等不同形態(tài)的亞硫酸鹽,圖1 為SO2進入液相后產(chǎn)生的與溶液pH 值的關(guān)系[5]。當pH>8 時,SO2在水中主要以的形式存在;當pH<6 時,SO2在水中主要以的形式存在,pH 在3.5~5.4 之間時,溶液中幾乎全部為;當pH<3.5后,溶入水中的SO2有一部分與水分子結(jié)合為SO2·H2O。因此,溶液的pH 值不同,SO2在水中的化學吸收反應(yīng)是不相同的。
圖1 亞硫酸平衡曲線
4)漿液的密度偏高。
通過查閱脫硫系統(tǒng)DCS 歷史數(shù)據(jù),2020 年3 月25 日—3 月31 日期間,機組脫硫一級塔漿液的密度長期保持在1 220~1 300 kg/m3范圍內(nèi),石膏漿液的過飽和度偏大,造成攪拌器和循環(huán)泵的電機超電流運行;吸收塔漿液的密度高不僅加劇了設(shè)備的磨損,還不利于氧化空氣在吸收塔內(nèi)擴散,導(dǎo)致塔內(nèi)漿液和石膏中的CaSO3含量偏高。
綜上分析,因脫硫運行控制不當,造成了3 號機組石膏中CaSO3·0.5H2O 含量偏高,進而引起石膏脫水困難。
現(xiàn)場檢查發(fā)現(xiàn),當皮帶機啟動前皮帶機兩側(cè)匯集管上的鋼絲管出現(xiàn)大面積的塌陷,同時鋼絲管與匯集管的接口處存在滲水,初步判斷接口處應(yīng)該存在漏氣。
當運行人員啟動一臺真空泵后,氣液分離罐真空度為-35 kPa,遠小于石膏正常脫除時的真空度(-50~-45 kPa)[6],塌陷鋼絲管未有明顯變化,此時皮帶上的石膏成稀泥狀從皮帶上落入石膏。當啟動兩臺真空泵時,氣液分離罐真空度顯示值為-60 kPa 左右,大于正常脫石膏時的真空度,理論上當石膏漿液品質(zhì)正常時石膏可以正常脫除,石膏含水率應(yīng)維持在10%左右,然而因為皮帶機上的抽氣管出現(xiàn)漏氣現(xiàn)象和伸縮管路氣路不暢,導(dǎo)致氣液分離罐真空度的數(shù)值不能反映實際狀態(tài)下的真空度,實際運行真空度偏低,不能滿足石膏正常脫水。
在石膏脫水過程中發(fā)現(xiàn)真空皮帶脫水機上的濾布表面水平度偏差較大,運行皮帶上的石膏存在大量裂紋,且皮帶上石膏厚度差別較大,詳細檢查情況如圖2 和圖3 所示。
圖2 皮帶上石膏出現(xiàn)大量裂紋
圖3 皮帶上石膏厚度差別大
因此,認為皮帶脫水機上的石膏裂紋及厚度不均勻也會造成氣液分離罐真空度偏低[6],進而造成脫硫石膏的含水率偏高;脫硫系統(tǒng)設(shè)備存在缺陷,也是造成脫硫石膏含水率偏高的另一個原因。
2020 年3 月以來,機組脫硫系統(tǒng)因二級塔除霧器坍塌嚴重,脫硫系統(tǒng)無法正常運行。為保證SO2質(zhì)量濃度達標排放,實際運行中脫硫系統(tǒng)入口SO2質(zhì)量濃度控制在4 500~5 000 mg/m3(設(shè)計值入口SO2質(zhì)量濃度9 397mg/m3)。因入口SO2質(zhì)量濃度超出脫硫裝置設(shè)計值較多,影響漿液氧化,造成石膏脫水困難的原因可以排除。
機組脫硫工藝水取自紅河水,河水水質(zhì)較好,河水中氯離子質(zhì)量濃度基本在20~40 mg/L 之間,不存在因氯離子富集[7],生成大量氯化鈣(吸濕性極強),造成石膏脫水困難。
綜合以上情況分析,此次石膏脫水困難主要原因是石膏漿液中CaSO3·0.5H2O 含量高及脫硫設(shè)備缺陷造成的。
結(jié)合電廠實際情況(設(shè)備配件近期無法采購),現(xiàn)階段只能通過調(diào)節(jié)漿液品質(zhì)來降低石膏的含水率。
1)因二級塔無法正常運行,控制一級塔漿液pH,當機組高負荷時漿液pH 控制在5.0~5.5,當機組低負荷時漿液pH 控制在4.8~5.0;有利于亞硫酸鈣的氧化。
2)為了保證生成粒徑較大的石膏晶粒,在脫硫裝置實際運行中要求石膏漿液的過飽和度小于1.4,優(yōu)化控制在1.2~1.3;同時控制吸收塔漿液的密度(1 080~1 130 kg/m3)。
3)加大3 號機組脫硫系統(tǒng)的氧化風量,確保亞硫酸鈣能充分氧化成硫酸鈣。
4)運行中監(jiān)督脫水機的運行負壓,石膏濾餅厚度和石膏旋流器的進口壓力,控制在合理范圍內(nèi)。
通過以上措施對機組脫硫系統(tǒng)進行了優(yōu)化調(diào)整,逐步改善了石膏漿液品質(zhì),促使了石膏中CaSO3·0.5H2O 的含量降低,脫硫石膏含水率也隨之下降,目前石膏品質(zhì)化驗結(jié)果如表3。
表3 脫硫石膏化驗結(jié)果(質(zhì)量分數(shù)) %
石膏含水率偏高是濕法脫硫裝置普遍存在的問題,影響石膏含水率的因素較多,單一的方面可能不會造成石膏脫水困難,但多個因素疊加到一起,對石膏的脫水影響還是較大的。
針對此次機組石膏脫水困難的問題,運行人員采取有效措施,將含水率降低到合適的范圍內(nèi),為能使石膏含水率長期達標,運行人員可從以下幾個方面入手:運行中要控制好漿液密度和pH 值,同時注意監(jiān)視脫水機的運行負壓、石膏濾餅厚度,石膏旋流器的工作壓力是否在合理范圍內(nèi);定期對有缺陷的設(shè)備進行檢修或更換;加強對石膏品質(zhì)的化學監(jiān)督,及時發(fā)現(xiàn)問題予以糾正。