孫春心,郝圣圳,王墨涵,張士元,李聰聰,蘭 天,彭 琪,徐 芹
(河北工業(yè)大學(xué) 應(yīng)用物理系,天津300401)
染料產(chǎn)生顏色是由于其選擇性的吸收和反射某些波長(zhǎng)的可見光,但這些色素會(huì)隨之帶來大量的污染問題。相比于傳統(tǒng)染料,結(jié)構(gòu)色憑借其不褪色、色域廣等優(yōu)點(diǎn)受到人們的廣泛關(guān)注。結(jié)構(gòu)色的產(chǎn)生完全取決于物體的微觀結(jié)構(gòu),如在自然界中孔雀的羽毛,蝴蝶翅膀以及甲蟲的外殼等都有著絢麗的色彩,這都是由于光與生物微觀結(jié)構(gòu)之間發(fā)生干涉、衍射或散射等現(xiàn)象的結(jié)果[1-4]。目前對(duì)于人工仿生結(jié)構(gòu)色材料,通過改變氧化條件[5-6]以及復(fù)合金屬[7-8]等手段來調(diào)控樣品的微觀結(jié)構(gòu)可獲得不同的結(jié)構(gòu)色。早在1969年,Diggle等[9]報(bào)道了在可見光范圍內(nèi),有鋁基支撐的氧化鋁薄膜,在厚度小于1 μm時(shí)由于光的干涉作用會(huì)產(chǎn)生明亮的顏色。然而,這種結(jié)構(gòu)色的色彩飽和度很低,不利于實(shí)際應(yīng)用。為進(jìn)一步提高氧化鋁薄膜的色彩飽和度,2007年,Wang等[10]利用化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)在氧化鋁薄膜上沉積碳納米管后,研究結(jié)果顯示氧化鋁薄膜的色彩飽和度明顯提高。而后,2010年趙相龍[11]在碳管@PAA復(fù)合薄膜顏色調(diào)控研究方面取得了重要的進(jìn)展,實(shí)現(xiàn)了對(duì)碳管@PAA復(fù)合薄膜顏色的精細(xì)調(diào)控。2011年,Xu等[12]在同一氧化鋁薄膜上重復(fù)利用無色油墨(白色指甲油)作為保護(hù)層進(jìn)行多次陽(yáng)極氧化,在同一氧化鋁薄膜上得到不同結(jié)構(gòu)色。前述文獻(xiàn)報(bào)道均是在單層薄膜基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)可調(diào)結(jié)構(gòu)色,但薄膜易碎,不易長(zhǎng)期儲(chǔ)存,且需要重復(fù)試驗(yàn),操作復(fù)雜,成本較高。
近年來,光子晶體因其高度有序可調(diào)微結(jié)構(gòu)、耐腐蝕、耐高壓等優(yōu)點(diǎn)受到研究人員的廣泛關(guān)注。光子晶體是具有光子帶隙的周期性介電結(jié)構(gòu),可以阻止某個(gè)波段范圍的光通過。換言之,光子晶體對(duì)光的波長(zhǎng)具有選擇性,其自身結(jié)構(gòu)存在“禁帶”。光子禁帶的存在也正是光子晶體結(jié)構(gòu)色產(chǎn)生的原因[13-14]。同樣,Zheng等分別通過控制氧化溫度[15]、電解液種類[16]以及電解液的粘稠系數(shù)[17]等氧化條件來調(diào)控氧化鋁薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。目前,多數(shù)研究報(bào)導(dǎo)均是通過改變不同的氧化條件,進(jìn)而改變不同氧化鋁薄膜的微觀結(jié)構(gòu)得到不同的結(jié)構(gòu)色,其過程操作復(fù)雜,且需要多次實(shí)驗(yàn)。本文在高壓條件下,通過改變同一氧化鋁薄膜不同位置的微觀結(jié)構(gòu),制得多種環(huán)形結(jié)構(gòu)色的陽(yáng)極氧化鋁薄膜,并進(jìn)行了理論分析。此外,在光子晶體的基礎(chǔ)上,利用棒狀碳電極在高壓條件下同樣成功制備出具有多種環(huán)形結(jié)構(gòu)色的光子晶體。并且,通過簡(jiǎn)化實(shí)驗(yàn)過程,分別在同一普通陽(yáng)極氧化鋁薄膜(單層薄膜)和同一光子晶體(多層薄膜)上得到不同的環(huán)形結(jié)構(gòu)色,降低了實(shí)驗(yàn)難度和成本,在裝飾、防偽、檢測(cè)等方面將有極大的應(yīng)用空間。
首先進(jìn)行鋁片預(yù)處理,將純度為99.999%的高純鋁箔在通入氬氣的高溫(400 ℃)環(huán)境下退火2 h,裁剪成直徑約為2 cm的圓形鋁片,而后在高氯酸與無水乙醇(體積比為1∶4)的混合溶液中電解拋光5 min,以清除鋁片表面油污和輕微劃痕。然后,利用丙酮和無水乙醇進(jìn)行超聲波震蕩清洗鋁片并晾干。在氧化電壓(陽(yáng)極為鋁片,陰極為直徑0.8 cm的棒狀碳電極,兩電極之間的距離為12.5 cm)分別為130、140 V條件下,將經(jīng)預(yù)處理的鋁片利用0.6 mol/L的磷酸溶液直流電解1 min,得到樣品1和樣品2。將陰極棒狀碳電極改為板狀碳電極(5.8 cm×7.6 cm),在上述條件下制備得到樣品3和樣品4。光子晶體環(huán)形結(jié)構(gòu)色薄膜是在0.3 mol/L的草酸溶液中,利用周期性正弦波(周期為200 s,電壓范圍5~45 V)陽(yáng)極氧化12 h,而后在200 V的電壓下利用草酸溶液直流電解1 min得到,標(biāo)記為樣品5。將上述制備的樣品使用數(shù)碼相機(jī)拍攝光學(xué)照片。
在高壓下,利用棒狀碳電極制得氧化鋁薄膜,其不同角度的光學(xué)照片如圖1所示,可以看出,其具有環(huán)形結(jié)構(gòu)色,且電壓越高,出現(xiàn)的色環(huán)的數(shù)量越多。圖1(a)是在130 V下制得的氧化鋁薄膜,其具有3層結(jié)構(gòu)色,從垂直角度看,由中心向邊緣結(jié)構(gòu)色逐漸藍(lán)移,分別為紅色、黃色和綠色,邊緣部分較模糊。圖1(b)是在140 V下制得的氧化鋁薄膜,具有6層結(jié)構(gòu)色,從垂直角度看,由中心向邊緣分別為紅色(不明顯)、綠色、紅色、綠色、紅色、綠色,邊界部分相對(duì)清晰,且滿足布拉格公式。
(1)
式中:n為薄膜的有效折射率;d為薄膜厚度;θ為折射角;m為干涉級(jí)次;λ為反射波長(zhǎng)。
圖1 130 V (a) 和140 V(b)高壓下,利用棒狀電極制備的環(huán)形氧化膜樣品的光學(xué)照片
對(duì)比圖1(a)和(b)中垂直拍攝角度的圖片可以發(fā)現(xiàn),圖1(b)中的結(jié)構(gòu)色不僅環(huán)數(shù)增多且黃色基本消失。假設(shè)光源垂直入射,根據(jù)式(1)可知,隨著電壓升高樣品厚度(d)增加,干涉級(jí)次(m)會(huì)增多,導(dǎo)致出現(xiàn)能級(jí)跳躍,因此,140 V下制備樣品環(huán)數(shù)增多且無黃色出現(xiàn)。隨著電壓的升高,在相同氧化時(shí)間下,同一位置的薄膜厚度增加,孔徑相應(yīng)變大。由式(1)可知,干涉級(jí)次m增多,結(jié)構(gòu)色環(huán)數(shù)增多與其光學(xué)照片一致。
前述實(shí)驗(yàn)所用的棒狀碳電極與鋁片之間相互平行,理論上碳棒電極可以抽象成線狀電極,電流線密度也應(yīng)是在一維方向上由中心向兩邊遞減,相應(yīng)的形成陽(yáng)極氧化鋁薄膜也應(yīng)是平行于碳棒的條紋狀結(jié)構(gòu)色。這顯然與圖1中實(shí)驗(yàn)結(jié)果(環(huán)形結(jié)構(gòu)色)不符。為此,本文利用板狀碳電極進(jìn)行了相同的實(shí)驗(yàn),結(jié)果如圖2所示。
圖2 130 V (a) 和140 V(b)高壓下,利用板狀電極制備的環(huán)形氧化膜樣品的光學(xué)照片
由此可見,利用板狀碳電極制得的樣品也是環(huán)形結(jié)構(gòu)色,而不是條紋狀結(jié)構(gòu)色。Yang等[18]的研究認(rèn)為,當(dāng)反應(yīng)電壓小于臨界電壓時(shí),兩電極間的電流密度是均勻的,因而得到氧化鋁薄膜的孔徑和結(jié)構(gòu)色也都是均勻的。然而,當(dāng)反應(yīng)電壓大于臨界電壓時(shí),則將陰極碳棒的電流線類似于點(diǎn)電極輻射狀的電流線,到達(dá)鋁片表面電流密度不均勻,由鋁片的中心向邊緣逐漸下降,導(dǎo)致氧化鋁膜的厚度和孔徑大小由中心向邊緣位置對(duì)稱遞減。因此,本文認(rèn)為在高電場(chǎng)作用下,溶液中的帶電離子應(yīng)集中在陽(yáng)極鋁片所對(duì)應(yīng)的板狀電極(陰極)表面區(qū)域,且電荷呈由電極板中心向四周連續(xù)遞減分布。同樣,將板狀電極類似成點(diǎn)電極,電場(chǎng)線由電極中心向四周呈發(fā)射狀分散。假定電荷是正態(tài)分布,用Matlab進(jìn)行理論模擬計(jì)算得圖3。此時(shí),陽(yáng)極鋁片表面的電流線密度由中心向四周遞減,鋁片表面的電勢(shì)分布不均勻,因此,在高壓下通過改變氧化鋁的厚度形成多種環(huán)形結(jié)構(gòu)色。
在本實(shí)驗(yàn)中,將碳狀電極類似成點(diǎn)電極,鋁基和薄膜表面為等勢(shì)面,阻擋層處的電壓均相等,為U1,薄膜表面與點(diǎn)電極之間的電壓是U2。則根據(jù)電磁場(chǎng)理論和高場(chǎng)導(dǎo)電理論可知,薄膜表面上各處的電流密度公式如下[19]。
(2)
式中:K為與溫度相關(guān)的常數(shù);r為半徑,即薄膜表面上某處到圓心的距離;h為陰極碳電極到陽(yáng)極的距離(本實(shí)驗(yàn)為12.5 cm)。由式(2)可知,在實(shí)驗(yàn)過程中,不論改變氧化電壓、氧化溫度、電極間距、鋁箔半徑,均會(huì)對(duì)到達(dá)鋁箔表面上某處的電流密度產(chǎn)生影響,從而影響氧化鋁薄膜的厚度分布。
圖3 電極板表面電荷面密度分布示意圖
圖4所示為樣品1中心和邊緣位置的SEM形貌,表明中心位置的厚度約為1 μm,邊緣位置的厚度約為800 nm。結(jié)合理論分析作出了普通氧化鋁薄膜微觀結(jié)構(gòu)模型,如圖5所示。由式(1)可知,當(dāng)薄膜厚度d逐漸減少時(shí),相應(yīng)的波長(zhǎng)λ逐漸減小,結(jié)構(gòu)色逐漸藍(lán)移。因此,高壓下制備的普通陽(yáng)極氧化鋁薄膜環(huán)形結(jié)構(gòu)色從中心到邊緣逐漸藍(lán)移。
圖4 氧化鋁薄膜中心位置(a)和邊緣位置(b)的截面圖
圖5 氧化鋁薄膜的模型圖
近年來,大量的研究發(fā)現(xiàn),光子晶體結(jié)構(gòu)色主要是通過對(duì)光子晶體微觀結(jié)構(gòu)的調(diào)控來實(shí)現(xiàn)的[20-21]。由普通陽(yáng)極氧化鋁的環(huán)形結(jié)構(gòu)色,本文考慮,是否可以通過對(duì)光子晶體微觀結(jié)構(gòu)(孔徑)的調(diào)控產(chǎn)生環(huán)形結(jié)構(gòu)色。為此,本文通過實(shí)驗(yàn)制得了樣品5,其光學(xué)照片如圖6所示。
圖6 環(huán)形結(jié)構(gòu)色光子晶體(樣品5)在90°(a)和30°(b)的光學(xué)照片
圖6所示為在200 V的高電壓下持續(xù)生長(zhǎng)1 min所得的樣品。在垂直角度看,結(jié)構(gòu)色從中心向邊緣依次呈現(xiàn)為紫色、黃綠色、橙紅色,如圖6(a)所示,可見從陽(yáng)極氧化鋁光子晶體中心到邊緣結(jié)構(gòu)色逐漸紅移。圖6(b)是傾斜30°角的光學(xué)照片。根據(jù)公式(1),隨著角度θ的變換,結(jié)構(gòu)色也會(huì)發(fā)生相應(yīng)的改變,結(jié)構(gòu)色始終滿足從薄膜中心到邊緣逐漸紅移,這與圖1中的藍(lán)移完全不同。
圖7(a)和(b)為薄膜中心以及邊緣位置的背面掃描電鏡照片,其孔徑相差約10 nm。圖7(c)是出現(xiàn)環(huán)形結(jié)構(gòu)色光子晶體薄膜某部分靠近底部的截面圖,在200 V高壓下生長(zhǎng)厚度約為3.1 μm。在劇烈陽(yáng)極氧化過程中,高電壓和酸性溶液腐蝕的作用,導(dǎo)致薄膜中心的孔徑變大。環(huán)形光子晶體生長(zhǎng)截面模型如圖8所示,可以看到,竹節(jié)狀部分是在溫和陽(yáng)極氧化過程中生長(zhǎng)的光子晶體,直孔處是在劇烈陽(yáng)極氧化過程中形成的,黑色部分為背部鋁基。根據(jù)文獻(xiàn)[22-24]報(bào)道,光子晶體滿足Fabry-Pérot關(guān)系。
λNAA=2neff-NAALTPcosθ
(3)
式中:λNAA表示反射波長(zhǎng);neff-NAA表示光子晶體有效折射率;LTP表示光子晶體每個(gè)周期的長(zhǎng)度;θ為光入射角度。
假設(shè)光源垂直入射,光子晶體的周期長(zhǎng)度LTp恒定,根據(jù)式(3)可知,薄膜中心的孔徑變大,孔隙率增大,有效折射率n降低,反射波長(zhǎng)λ會(huì)相應(yīng)減小,因此,光子晶體從中心到邊緣結(jié)構(gòu)色逐漸紅移。這與圖6觀察到的結(jié)果一致。
圖7 環(huán)形結(jié)構(gòu)色光子晶體的背面掃描電鏡照片:(a)中心位置;(b)邊緣位置;(c)某部分的底部截面圖
圖8 環(huán)形結(jié)構(gòu)色的光子晶體截面模型圖
1)在一次陽(yáng)極氧化過程中,利用棒狀碳電極和板狀碳電極制備出具有環(huán)形結(jié)構(gòu)色的單層陽(yáng)極氧化鋁薄膜,高壓條件下氧化鋁的厚度從中心到邊緣逐漸減小,因此,形成從中心到邊緣逐漸藍(lán)移的環(huán)形結(jié)構(gòu)色。
2)在草酸溶液中利用棒狀碳電極在高壓條件下成功制備出環(huán)形光子晶體,環(huán)形結(jié)構(gòu)色從中心到邊緣逐漸紅移。
3)結(jié)合理論分析和掃描電鏡圖分別對(duì)兩種環(huán)形氧化鋁薄膜建立了微觀結(jié)構(gòu)模型圖。