王豐璞，李新南，徐 晨，黃 亞

（1.中國科學(xué)院國家天文臺南京天文光學(xué)技術(shù)研究所，江蘇南京210042；2.中國科學(xué)院天文光學(xué)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(南京天文光學(xué)技術(shù)研究所)，江蘇南京210042；3.中國科學(xué)院大學(xué)，北京100049）

1 引 言

大型反射式天文光學(xué)望遠(yuǎn)鏡為由兩個非球面反射鏡組成的兩鏡系統(tǒng)，或在此基礎(chǔ)上增加一個非球面反射鏡以改善成像質(zhì)量的三鏡系統(tǒng)[1]，其中主鏡通常為焦比較小的凹非球面，其口徑大小表征望遠(yuǎn)鏡的集光能力。受限于鏡面材料制造能力，口徑超過8米的主鏡大都采用拼接鏡面的形式，美國三十米望遠(yuǎn)鏡(Thirty Meter Telescope,TMT)，歐洲極大望遠(yuǎn)鏡(Extremely Large Telescope,ELT)，以及我國正在爭取立項(xiàng)建造的12米光學(xué)紅外望遠(yuǎn)鏡(Large Optical Telescope,LOT)，口徑分別為30 m、39.2 m、12 m，都由對角徑為1.44 m的六角形子鏡拼接而成[2-4]。

非球面反射鏡的加工精度決定了望遠(yuǎn)鏡的成像質(zhì)量，而鏡面檢測方法又是實(shí)現(xiàn)高精度表面加工的重要保障。

對于小口徑離軸非球面零位檢測，可以將子鏡繞其中心點(diǎn)旋轉(zhuǎn)平移，作為軸上的自由曲面，設(shè)計(jì)計(jì)算全息檢測光路進(jìn)行面形高精度檢驗(yàn)[5]。然而對于更大口徑的離軸非球面，子午曲率和弧矢曲率相差較大，光線沿非球面法線映射到計(jì)算全息將出現(xiàn)較大的投影變形，干涉儀采集到的圖像成像畸變也較為嚴(yán)重[6-8]。以單塊計(jì)算全息對LOT離軸子鏡進(jìn)行零位檢驗(yàn)，檢測光路長達(dá)38 m，除了實(shí)驗(yàn)室場地有限光路難以搭建外，受氣流擾動、環(huán)境振動、溫度變化、元件失調(diào)等因素的影響，待測鏡面形測量不確定度較大，因此希望設(shè)計(jì)較短的檢測光路完成鏡面面形測量。

針對此類大口徑、長曲率半徑、多類型的離軸鏡面，實(shí)驗(yàn)室提出一種折衍補(bǔ)償零位檢測方案[9]，采用一塊口徑與待測鏡相同的消球差單透鏡縮短檢測光路長度并補(bǔ)償離軸鏡面大部分像差，檢測光路殘余波像差由計(jì)算全息(Computer Generated Hologram,CGH)承擔(dān)。該檢測方案同樣可以用于LOT離軸子鏡面形的高精度檢驗(yàn)。但消球差透鏡兩個表面都需要進(jìn)行加工，且其中一個表面為偶次非球面，精度要求較為嚴(yán)苛。

對于TMT和ELT離軸子鏡面形的批量化檢測，亞利桑那大學(xué)光學(xué)中心提出一種斐索型干涉檢測方案，采用透鏡樣板縮短檢測光路，計(jì)算全息用于補(bǔ)償離軸子鏡與樣板標(biāo)準(zhǔn)凸參考球面的非球面偏差[10]。光路裝校完成后，僅需更換相應(yīng)計(jì)算全息，即可用于不同離軸子鏡的面形測量。但該檢測方案光學(xué)元件眾多，面形結(jié)果誤差來源難以確定。對新太陽望遠(yuǎn)鏡(New Solar Telescope, NST)Φ1.7 m離軸非球面的主鏡檢驗(yàn)，該實(shí)驗(yàn)室結(jié)合商用干涉儀，以一塊球面反射鏡折轉(zhuǎn)檢測光路、補(bǔ)償離軸主鏡大部分像差，光路殘余像差由計(jì)算全息進(jìn)行校正[11-12]，結(jié)構(gòu)緊湊，檢測成本更為經(jīng)濟(jì)。

為了實(shí)現(xiàn)LOT主鏡拼接子鏡的高精度面形檢驗(yàn)，作為折衍補(bǔ)償檢測方案的補(bǔ)充對照，本文設(shè)計(jì)了一種采用球面反射鏡和計(jì)算全息共同補(bǔ)償非球面法向像差的零位檢測方案。不同離軸量鏡面全息片的設(shè)計(jì)，除主全息加工區(qū)域、相位函數(shù)不同外，對準(zhǔn)全息加工區(qū)域、相位函數(shù)完全一致。研制不同類型離軸子鏡，采用同一檢測光路，干涉儀、球面反射鏡空間姿態(tài)不變，僅更換調(diào)整光路相應(yīng)位置CGH、重新調(diào)節(jié)待測鏡姿態(tài)，即可實(shí)現(xiàn)大口徑離軸鏡面的零位檢驗(yàn)。光路設(shè)計(jì)均達(dá)理論衍射極限，波像差殘差峰谷值(PV)、均方根值(RMS)接近于零，檢測光路結(jié)構(gòu)簡單，最大程度上降低了檢測成本。

2 檢測方案

LOT主鏡為二次曲面，由84塊六邊形子鏡拼接而成，按對稱性質(zhì)分為6個扇區(qū)，每個扇區(qū)包含14種類型的非球面，將14類離軸子鏡按序列編號，如圖1所示。主鏡光學(xué)參數(shù)如表1，非球面表達(dá)式為：

圖1 LOT拼接主鏡Fig.1 Splicing primary mirror of LOT

六邊形子鏡對角徑為1.44 m，為計(jì)算方便，將子鏡孔徑簡化為六邊形外接圓進(jìn)行設(shè)計(jì)。編號1、6、14號離軸子鏡為主鏡3個不同類型的離軸鏡面，代表了拼接子鏡最內(nèi)環(huán)、中間、最外環(huán)的離軸鏡面。離軸量越大，鏡面的非球面偏離量和非球面偏離量陡度越大，相應(yīng)檢測光路的波像差補(bǔ)償更為困難，以最內(nèi)環(huán)、中間、最外環(huán)離軸量鏡面為代表，設(shè)計(jì)鏡面面形檢測光路，各子鏡工藝參數(shù)如表2所示。其中，離軸鏡面的最佳比較球面曲率半徑，由非球面偏離量均方根最小值計(jì)算獲得。

表 1主鏡光學(xué)參數(shù)Tab.1 Optical parameters of the primary mirror

表2 六邊形子鏡技術(shù)參數(shù)Tab.2 Technical parameters of hexagonal sub-mirror

14號離軸量子鏡非球面偏離量分布如圖2所示，最大偏離量為152.4μm。

圖2 編號14離軸子鏡非球面偏離量分布Fig.2 Aspheric deviation of No.14 off-axis segment

2.1 檢測光路設(shè)計(jì)

使用計(jì)算全息和球面反射鏡作為零位補(bǔ)償元件檢測離軸非球面，原理如圖3所示。干涉儀出射的測試球面波光線，經(jīng)過CGH衍射及球面鏡反射后，垂直入射到離軸鏡面，光線再次經(jīng)球面反射鏡、CGH，匯聚到測試點(diǎn)進(jìn)入干涉儀，與參考波面干涉形成干涉條紋。若待測鏡面與理想鏡面完全相符，沒有任何缺陷，將出現(xiàn)“零條紋”，而實(shí)際加工的光學(xué)表面往往與理想表面存在一定偏差，且檢測光路存在一定裝調(diào)誤差，因此會出現(xiàn)包含波前變形信息的干涉條紋，通過干涉儀采集分析干涉條紋即可得出待測非球面的面形誤差。

圖3 計(jì)算全息和球面反射鏡零位檢測離軸非球面原理Fig.3 Principle of off-axis aspheric surface detection by combining the CGH and a spherical mirror

采用光學(xué)軟件Zemax對檢測光路進(jìn)行光線追跡[13]，最外環(huán)離軸子鏡自準(zhǔn)直雙通光路的像質(zhì)評價結(jié)果見圖4。點(diǎn)列圖幾何半徑為0.004μm，波像差殘差PV、RMS接近于零，檢測光路設(shè)計(jì)達(dá)理論衍射極限。

圖4 離軸子鏡檢測光路的像質(zhì)評價結(jié)果。(a)點(diǎn)列圖；(b)波像差Fig.4 Image quality of off-axis mirror testing system.(a)Spot diagram;(b)wavefront map

計(jì)算全息作為一種衍射光學(xué)元件，除工作衍射級次(1,1)外，其他衍射級次組合光線進(jìn)入干涉儀均會對面形檢測結(jié)果造成干擾?？紤]相位全息制造誤差的存在，零級、偶數(shù)級次衍射效率幾乎為零，5級以上衍射效率較小，雜散光主要分析(?1,3)、(3,?1)、(0,2)、(2,0)級次組合對檢測造成的干擾[14-16]。為了排除雜散光線的影響，CGH增加了傾斜載頻，在干涉儀焦點(diǎn)設(shè)置1 mm孔徑光闌用以濾除非工作衍射級次光線。圖5給出了14號離軸子鏡檢測光路焦點(diǎn)平面的雜散光分布，圖6給出了增加傾斜載頻后CGH的相位函數(shù)分布。

圖5 編號14離軸子鏡檢測光路焦點(diǎn)平面雜散光分布Fig.5 Stray light distribution in focal plane of No.14 offaxis segment testing optical path

圖6 CGH相位分布Fig.6 CGH phase distribution

2.2 不同離軸量子鏡檢測光路

LOT主鏡的不同類型拼接鏡面為母鏡不同離軸量子鏡，具有相同的頂點(diǎn)曲率半徑和非球面系數(shù)，最接近球面曲率且半徑相差較小。采用同一塊球面反射鏡補(bǔ)償離軸鏡面主要像差，反衍補(bǔ)償檢測光路主光線光程最大相差50 mm。加工不同離軸鏡面，更換待測鏡并依次重新調(diào)整光路中各光學(xué)元件姿態(tài)，無疑耗時且費(fèi)力。為避免檢測光路光學(xué)元件的大范圍調(diào)整，考慮進(jìn)一步優(yōu)化檢測光路設(shè)計(jì)，僅更換光路CGH完成不同離軸量子鏡面形的零位測量。

簡化不同離軸量子鏡檢測光路時，要求：(1)球面反射鏡在光路中位置、傾角相同；(2)CGH在檢測光路中位置固定；(3)干涉儀出射球面波焦點(diǎn)相對計(jì)算全息片的位置不變。根據(jù)計(jì)算全息的波前校正能力，補(bǔ)償不同離軸鏡面檢測光路主光線光程差異及各光路像面波前誤差。最終光路設(shè)計(jì)要保證干涉儀焦點(diǎn)、全息片、球面反射鏡、待測鏡空間相對位置完全一致。詳細(xì)參數(shù)如下：球面反射鏡曲率半徑為16 m，到待檢鏡面中心距離為15 m，不同鏡面檢測光路球面反射鏡中心點(diǎn)法線與子鏡中心點(diǎn)法線夾角相同，均為5°，CGH到球面反射鏡的距離為5.51 m，干涉儀焦點(diǎn)到CGH的距離為0.54 m，不同離軸鏡面檢測光路均以計(jì)算全息沿y軸15 mm的平移量作為CGH傾斜載頻。

分離衍射級次后，不同離軸量子鏡檢測光路各元件空間位置參數(shù)完全相同。除衍射光學(xué)元件主全息口徑及相位分布不同外，對準(zhǔn)全息各區(qū)域范圍、相位函數(shù)完全相同。CGH補(bǔ)償相位采用澤尼克條紋相位面進(jìn)行模擬，相位表達(dá)式定義如下：

其中，M是衍射級次，N是澤尼克多項(xiàng)式項(xiàng)數(shù)，Ai是澤尼克多項(xiàng)式系數(shù)，以波長為單位，一個波長對應(yīng)2π弧度，ρ、θ分別是歸一化后光線徑向坐標(biāo)、角度。不同離軸鏡面主全息加工圖樣如圖7所示。為便于顯示，計(jì)算條紋圖樣時相位函數(shù)除以200，即圖中每個條紋代表實(shí)際的200根刻線。

圖7 不同離軸鏡面主全息條紋圖樣。離軸量分別為：(a)1 247 mm；(b)3 741 mm；(c)5 715 mmFig.7 CGH fringe patterns of different off-axis segments(200 waves/fringe).Off-axis distance:(a)1 247 mm;(b)3 741 mm;(c)5 715 mm

對計(jì)算全息片的相位分布進(jìn)行一階求導(dǎo)可計(jì)算其空間頻率，空間頻率的倒數(shù)即為空間周期。現(xiàn)有加工工藝水平下，CGH激光刻寫系統(tǒng)刻蝕位置誤差為0.1μm，計(jì)算全息最小空間周期大于10 μm/lp時，可以有效減小計(jì)算全息刻蝕位置誤差引起的波前偏離[17]，當(dāng)最小空間周期小于10μm/lp時，需增大計(jì)算全息口徑以提高其刻線空間周期[18]。

不同離軸量子鏡球面反射鏡和CGH組合的補(bǔ)償光路，系統(tǒng)殘余像差較小，檢測光路均達(dá)理論衍射極限。1號、6號、14號子鏡計(jì)算全息主全息加工區(qū)域、空間頻率、空間周期如表3所示，不同CGH空間周期均大于10μm，符合全息加工要求。

表3 不同離軸子鏡檢測光路CGH空間頻率、空間周期Tab.3 CGH spatial frequency and spatial period of different off-axis segment testing systems

2.3 對準(zhǔn)方案

檢測方案為非軸對稱光路，元件對準(zhǔn)精度直接決定鏡面面形的檢測精度。檢測光路使用與主全息加工在同一基片上的對準(zhǔn)全息來實(shí)現(xiàn)光路中各元件的光學(xué)定位。對準(zhǔn)全息區(qū)域規(guī)劃如圖8所示，功能包括計(jì)算全息片對準(zhǔn)、球面反射鏡對準(zhǔn)及待測離軸鏡對準(zhǔn)，各對準(zhǔn)區(qū)域光路如圖9所示。

圖8 對準(zhǔn)區(qū)域條紋圖樣Fig.8 Fringe patterns of alignment CGHs

圖9 對準(zhǔn)光路示意圖Fig.9 Schematic diagram of optical path alignment

計(jì)算全息片對準(zhǔn)：計(jì)算全息片相對干涉儀的距離及傾斜由CGH1完全決定，干涉儀出射的球面波入射到CGH1，光線沿原光路反射，此時，CGH1相當(dāng)于一個球面反射鏡。調(diào)節(jié)CGH基片的位置與傾斜，至干涉儀采集圖像中的離焦、傾斜條紋最少，甚至接近零條紋狀態(tài)，此時，全息基片位置即可認(rèn)為是檢測光路理想位置。通過光學(xué)軟件Zemax仿真，對準(zhǔn)區(qū)域存在5根干涉條紋，且無明顯離焦時，全息片平移位置精度優(yōu)于10 μm，傾角精度優(yōu)于5 arcsec，沿光軸距離精度優(yōu)于50μm。

球面反射鏡對準(zhǔn)：球面反射鏡位置的高精度裝調(diào)，采用激光跟蹤儀及由CGH2、CGH4區(qū)域定位的參考反射球、對準(zhǔn)反射球來實(shí)現(xiàn)[19]。CGH2投射一個匯聚球面波到距離CGH基片0.51 m位置的參考反射球球心，根據(jù)該區(qū)域干涉條紋，可將參考球位置調(diào)至20μm公差范圍內(nèi)。工裝在球面反射鏡邊緣的對準(zhǔn)反射球，由CGH4投射的4個匯聚球面波確定其橫向位置，采用激光跟蹤儀定位參考球、對準(zhǔn)球位置，可將球面反射鏡裝調(diào)至100μm公差范圍。此外，球面反射鏡曲率中心處干涉儀焦點(diǎn)的定位，也可采用激光跟蹤儀輔助進(jìn)行調(diào)節(jié)。

待測鏡對準(zhǔn)：離軸鏡面空間位置的裝調(diào)，由CGH3、基準(zhǔn)全息2及主全息決定。CGH3投射一個匯聚球面波到待測鏡中心，通過調(diào)節(jié)待測鏡到球面反射鏡的距離，至鏡面中心光斑最小，可以實(shí)現(xiàn)待測鏡位置的初步裝調(diào)，離軸子鏡邊緣位置，以基準(zhǔn)全息2投射的4個十字線為基準(zhǔn)進(jìn)行確定。待測鏡面空間姿態(tài)的精確調(diào)整，由干涉儀主全息區(qū)域干涉條紋為依據(jù)進(jìn)行判斷。不同功能區(qū)域的對準(zhǔn)全息，可以實(shí)現(xiàn)光路元件位置的精確控制。

3 誤差分析

3.1 補(bǔ)償元件加工誤差

大口徑望遠(yuǎn)鏡主鏡拼接子鏡常采用微晶玻璃進(jìn)行加工拋光，鍍膜之前，鏡面反射率約為4%，為增大干涉條紋可見度，采用相位型計(jì)算全息+1級衍射光進(jìn)行檢測。CGH占空比為0.5，刻蝕相位深度為0.7π時，全息衍射效率為32%，測試光與參考光光強(qiáng)比值為32%×4%×32%∶4%≈1∶10，干涉儀條紋可見度為0.581，滿足光學(xué)檢測需求（常要求條紋可見度大于0.3）。

組合補(bǔ)償檢測方案中，系統(tǒng)波像差殘差較小，離軸鏡面加工精度取決于補(bǔ)償元件的加工精度及檢測光路裝調(diào)精度。補(bǔ)償元件的加工誤差分為計(jì)算全息制造誤差和球面反射鏡的制造誤差。計(jì)算全息制造誤差主要由全息基底面形誤差引起，CGH基底由高精度的熔融石英平行平板加工制作而成，平板面形誤差為δs，透射光將引入(n?1)δs的波前誤差。基片厚度、折射率偏差會引入一定離焦量，以待測鏡沿檢測光軸距離進(jìn)行補(bǔ)償，光路殘余波像差優(yōu)于1 nm。

計(jì)算全息制造誤差引起波前變形的另一誤差源為刻線加工誤差。刻線加工誤差主要包括編碼誤差、刻線畸變誤差、刻蝕深度誤差、占空比誤差以及振幅誤差。CGH相位計(jì)算完成后，需對刻線圖形進(jìn)行量化編碼及刻蝕加工。量化編碼，即將CGH中一條條連續(xù)平滑變化的全息條紋轉(zhuǎn)變?yōu)榭涛g設(shè)備可以識別的多邊形線段，以當(dāng)前加工現(xiàn)狀而言，編碼誤差造成的條紋位置誤差優(yōu)于0.05μm。掩膜版定位引起的刻線位置誤差，又稱為刻線畸變誤差，代表著條紋實(shí)際位置與理論位置的偏離，刻線位置偏離導(dǎo)致的波前誤差可表示為：

其中，ε為條紋位置誤差，S為該位置的條紋周期。對14號離軸子鏡，CGH最小條紋周期為21.2 μm，由式(3)可知，編碼誤差引起的波前變形為1.492 nm，0.1μm刻線畸變引起的波前變形為2.985 nm。

根據(jù)亞利桑那大學(xué)Ping Zhou的分析可知，由計(jì)算全息刻蝕深度誤差、占空比誤差、振幅誤差引起的RMS波前變化，如表4所示[20-21]。檢測光路球面反射鏡鏡面面形將以一定比例因子轉(zhuǎn)移到待測鏡面形中，波前誤差RMS值約為6.328 nm。球面反射鏡曲率半徑誤差引起的波前變形，由檢測光路待測鏡沿檢測光軸的距離進(jìn)行補(bǔ)償，補(bǔ)償后檢測光路殘余波前誤差為4.632 nm。

表4 補(bǔ)償元件加工誤差及其波像差變化Tab.4 Fabrication errors of compensation elements and corresponding wavefront aberration variations

綜上所述，由CGH基底誤差、刻線加工誤差、球面反射鏡制造誤差引起的光路波像差如表4所示。反衍補(bǔ)償檢測光路元件加工誤差引入的波前變化相互獨(dú)立，綜合RMS波前變化可以采用方和根(Root Sum Square)的計(jì)算方法進(jìn)行誤差合成[22-24]：式中，ui為單項(xiàng)加工誤差引入的RMS波前變化，U1為所有元件加工誤差引起的檢測光路RMS波前變化。

補(bǔ)償元件加工誤差引入的綜合RMS波前變化約為10.360 nm。若計(jì)算全息工裝后透射波前誤差大于0.02λ、球面反射鏡受重力及支撐結(jié)構(gòu)影響面形誤差大于0.01λ，則需對檢測光路CGH透射波前、球面反射鏡鏡面面形進(jìn)行標(biāo)定，將其誤差從檢測光路去除，以提高待測鏡面形測量精度。

3.2 檢測光路裝調(diào)誤差

以檢測光路波像差為評價標(biāo)準(zhǔn)，各補(bǔ)償元件局部坐標(biāo)系為參考，對光學(xué)元件不同自由度進(jìn)行公差模擬，光學(xué)軟件中采用自定義宏編程，輸出波像差37項(xiàng)澤尼克條紋多項(xiàng)式系數(shù)，判斷各自由度裝調(diào)公差對檢測光路的波前影響。各自由度裝調(diào)引入的波前誤差，以待測離軸鏡面繞軸偏轉(zhuǎn)（3個自由度）、沿檢測光軸距離（一個自由度）進(jìn)行補(bǔ)償，檢測光路靈敏度分析結(jié)果如表5所示。

表5 檢測光路元件裝調(diào)公差及波像差變化Tab.5 Element adjustment tolerance of the testing system and the wavefront aberration variation

公差結(jié)果表明，檢測光路元件失調(diào)引入的RMS波前誤差U2小于7.0 nm，離軸子鏡面形檢測光路裝調(diào)引入的誤差相對較小。元件失調(diào)引入的波前誤差主要是低階像差的形式，其中離焦、像散項(xiàng)較小，彗差項(xiàng)較大。CGH軸向位置偏差、球面反射鏡沿中心軸線位置偏差、繞x軸旋轉(zhuǎn)偏差對檢測結(jié)果影響較大，且此時待測離軸鏡面偏轉(zhuǎn)補(bǔ)償效果并不明顯，檢測光路出現(xiàn)較大彗差時，考慮對這3項(xiàng)自由度進(jìn)行逐一校準(zhǔn)。

同理，對1號、6號子鏡檢測光路進(jìn)行公差分析，元件失調(diào)引入的RMS波前誤差分別為2.7 nm、3.2 nm，不同鏡面檢測光路失調(diào)引入的低階像差類型基本一致。

3.3 檢測光路綜合誤差

鏡面面形測量結(jié)果除元件制造誤差、檢測光路元件失調(diào)引入的面形誤差外，還包含由激光光源、探測器噪聲、氣流擾動、溫度變化、振動等因素引起的干涉儀面形測量重復(fù)性誤差U3（取100幅干涉圖做平均，測量重復(fù)性優(yōu)于5 nm），以及干涉儀標(biāo)準(zhǔn)球面波偏差引入的面形誤差U4（約為1 nm）。檢測光路綜合RMS波前誤差同樣可以采用方和根的計(jì)算方法對U1~U4進(jìn)行誤差合成，14號離軸鏡面檢測光路的綜合RMS波前誤差最大，為13.474 nm，檢測光路面形測量誤差RMS值小于λ/40（測試光波長為632.8 nm）。

4 結(jié) 論

本文針對大口徑地基望遠(yuǎn)鏡主鏡拼接子鏡的共基準(zhǔn)、多種類批量研制需求，以12米大型光學(xué)紅外望遠(yuǎn)鏡為例，設(shè)計(jì)了一種采用計(jì)算全息和球面反射鏡共同補(bǔ)償光路像差的零位檢測方案，并提出相應(yīng)的光路對準(zhǔn)方案以保證檢測光路裝調(diào)切實(shí)可行。相比單純用CGH補(bǔ)償?shù)臋z測方案，檢測光路長度由38 m縮短為15 m，對不同子鏡檢測光路進(jìn)行公差分析，鏡面面形測量誤差小于λ/40。與折衍補(bǔ)償檢測方案相比，補(bǔ)償元件由口徑為Φ 1.5 m的消球差單透鏡（兩個表面面形均需加工至較高精度），更換為口徑為Φ 1 m的球面反射鏡，標(biāo)準(zhǔn)鏡口徑變小，面形由非球面改成球面，鏡坯材料選擇范圍更廣，且僅需加工一個表面，補(bǔ)償元件研制成本更低。

此外，可采用相同的檢測光路結(jié)構(gòu)制備不同離軸量鏡面，僅通過更換光路相應(yīng)位置CGH、調(diào)整待測鏡空間姿態(tài)，即可實(shí)現(xiàn)拼接鏡所有種類離軸子鏡的補(bǔ)償檢驗(yàn)，該檢測方法不僅能有效保證不同子鏡中心點(diǎn)曲率半徑與設(shè)計(jì)指標(biāo)的一致性，而且降低了檢測光路的裝調(diào)難度，提升了光路調(diào)試效率，為大口徑望遠(yuǎn)鏡主鏡拼接子鏡的批量研制提供了新的思路。