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經(jīng)濟(jì)型ZAO薄膜制備及其近紅外光電性能

2024-12-09 00:00:00王偉徐俊章彬鄭文興倪帥
關(guān)鍵詞:經(jīng)濟(jì)型

摘 要:本文采用射頻磁控濺射技術(shù)制備了ZnO:Al(ZAO)薄膜態(tài)透明電極,并配合WO3電致變色薄膜、固態(tài)Li+聚合物電解質(zhì)和TiO2對(duì)電極薄膜,封裝成一種經(jīng)濟(jì)型電致變色器件。采用XRD、AFM、分光光度計(jì)和四探針測(cè)試儀表征ZAO薄膜的結(jié)構(gòu)、形貌和光電性能,并采用直流穩(wěn)壓電源、分光光度計(jì)測(cè)試電致變色器件的變色性能。結(jié)果表明,所制ZAO薄膜沿(002)晶面擇優(yōu)取向,表面組織致密,當(dāng)氣壓為1.0 Pa時(shí),薄膜光電性能最佳,以此為透明導(dǎo)電層的電致變色器件可以循環(huán)著/褪色,近紅外區(qū)的調(diào)制幅度大于可見(jiàn)光區(qū),適用于節(jié)能窗。

關(guān)鍵詞:ZAO;透明導(dǎo)電薄膜;電致變色器件;經(jīng)濟(jì)型;近紅外

中圖分類(lèi)號(hào):TB 43 " " " " " " 文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A

電致變色器件是利用電致變色材料并結(jié)合其他功能層封裝成的器件單元。目前,最具實(shí)用價(jià)值的無(wú)機(jī)電致變色材料是WO3薄膜[1]。典型的結(jié)構(gòu)是玻璃基底/透明導(dǎo)電層/對(duì)電極層/離子導(dǎo)體(電解質(zhì))層/電致變色層/透明導(dǎo)電層/玻璃基底[2]。電極(透明導(dǎo)電層)是器件連接外部電源的介質(zhì),其光電性能將決定整個(gè)器件的變色效果。某些摻雜氧化物薄膜,例如ITO(In2O3:Sn)、FTO(Sn2O3:F)和ZAO(ZnO:Al)均有較好的透光率和導(dǎo)電性[3],這些材料在電子裝置上得到了一定程度的應(yīng)用[4]。基于高透光率和良好導(dǎo)電性的雙重要求,電致變色器件主要將ITO、FTO薄膜作為透明電極,然而二者原料匱乏、制備工藝復(fù)雜且重復(fù)性較差,與這2種薄膜相比,,ZAO薄膜原料來(lái)源廣、成本低,是這2種材料的最佳替代品[5]?,F(xiàn)有的無(wú)機(jī)電致變色器件在可見(jiàn)光區(qū)調(diào)制性能較好,但是在近紅外區(qū)性能不佳,相關(guān)研究成果也較少。

本文采用射頻磁控濺射技術(shù)制備了光電性能較好的ZAO薄膜,并在其上鍍制WO3層、TiO2對(duì)電極層,進(jìn)而采用一種Li+聚合物電解質(zhì)封裝成經(jīng)濟(jì)型電致變色器件,并研究其光電性能。

1 試驗(yàn)

本文采用FJL560B1型超高真空磁控與離子束聯(lián)合濺射設(shè)備,以摻有2 wt.% Al2O3的ZnO陶瓷為靶材,在載玻片上制備ZAO薄膜。將濺射氣壓作為變量,設(shè)計(jì)3個(gè)水平,具體參數(shù)見(jiàn)表1。測(cè)試3個(gè)樣品的透光率和電阻率,確定光電性能最優(yōu)的工藝水平,并在此工藝樣品上繼續(xù)鍍制WO3、TiO2薄膜(詳細(xì)制備參數(shù)見(jiàn)表1)。Li+電解質(zhì)的制備參考Souza法[6],

即稱(chēng)取10 g檸檬酸并烘去結(jié)晶水,與20 mL無(wú)水乙醇混合15 min,再加入5 mL正硅酸四乙酯、1.25 g Li2CO3攪拌反應(yīng)15 min,最后加入5 mL乙二醇促進(jìn)聚合,充分反應(yīng)后過(guò)濾,并通過(guò)60 ℃水浴加熱1 h,制得溶膠態(tài)聚合物電解質(zhì)。將電解質(zhì)涂覆于WO3、TiO2薄膜間,經(jīng)60 ℃×24 h烘干固化,獲得電致變色器件。

采用日本理學(xué)D/MAX2500VL/PC型X射線(xiàn)衍射儀(Cu-Kα射線(xiàn)源)表征ZAO薄膜的相結(jié)構(gòu),并采用原子力顯微鏡(CSPM5500A)觀(guān)察ZAO薄膜的表面形貌特征。分別采用分光光度計(jì)(CARY5000)、臺(tái)階儀(XP-1)和微控四探針測(cè)試儀(D41-11D/ZM)測(cè)量ZAO薄膜的透過(guò)率、厚度和方塊電阻。

電致變色器件的性能測(cè)試是在WYJC-5型直流穩(wěn)壓電源上完成的。器件的結(jié)構(gòu)和變色性能測(cè)試示意圖如圖1所示。致色電壓選擇±3 V,以秒表記錄著色/褪色響應(yīng)時(shí)間,并以分光光度計(jì)測(cè)試器件的著色/褪色透光譜。

2 結(jié)果與分析

2.1 ZAO薄膜的相結(jié)構(gòu)(XRD)

ZAO薄膜的XRD譜如圖2所示。經(jīng)過(guò)檢索,與六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)的ZnO相(JCSPDF36-1451)較吻合且呈現(xiàn)(002)晶面擇優(yōu)取向;與ZnO相比,3個(gè)試樣的(002)衍射角均左移,說(shuō)明Al已溶入ZnO晶格的間隙,導(dǎo)致點(diǎn)陣膨脹,晶面間距增大[7]。另外,在氣壓為1.0 Pa條件下的衍射強(qiáng)度最高,氣壓為1.3 Pa條件下的次之,氣壓為0.7 Pa條件下的最低,即擇優(yōu)取向性1.0 Pagt;1.3 Pagt;0.7 Pa。

2.2 ZAO薄膜的表面形貌(AFM)

選擇5 000 nm×5 000 nm的掃描區(qū)域,用原子力顯微鏡測(cè)得的ZAO薄膜的表面形貌如圖3所示。由圖3可知,隨著濺射氣壓增加,薄膜表面顆粒先增大、后變小。試驗(yàn)靶材是陶瓷靶,不易濺射,而0.7 Pa的濺射氣壓又過(guò)低,等離子體區(qū)的Ar+較少,導(dǎo)致濺射產(chǎn)額低、粒子能量小,沉積到基底后很難擴(kuò)散遷移,進(jìn)而形成細(xì)小組織[8]。當(dāng)氣壓增至1.0 Pa時(shí),濺射氣氛中的Ar+增多,濺射出的粒子數(shù)目和能量也更多,基底上已形成的小晶粒相互聚集長(zhǎng)大。當(dāng)氣壓進(jìn)一步增至1.3 Pa時(shí),雖然濺射產(chǎn)額和粒子能量增加,但是濺射出的粒子在到達(dá)基底前受濺射氣體碰撞的概率增大,能量損失更多[9],最后沉積在基底上難以充分?jǐn)U散,長(zhǎng)大傾向減弱,表面組織比1.0 Pa的細(xì)小。

2.3 ZAO薄膜的光電性能

在氣壓為0.7 Pa ~1.3 Pa 的條件下制備的ZAO薄膜對(duì)入射光的透過(guò)率T如圖4所示,薄膜電阻率的計(jì)算過(guò)程如公式(1)所示。

ρ=R□d " " "(1)

式中:ρ為薄膜電阻率;R□為薄膜方塊電阻;d為薄膜厚度。

各試樣在可見(jiàn)光區(qū)(390 nm~780 nm)的透過(guò)率平均值和電阻率見(jiàn)表2。

從圖4和表2可看出,在氣壓為1.0 Pa條件下沉積的ZAO薄膜透過(guò)率最高;與氣壓為0.7 Pa條件下的透過(guò)率與其接近,但是稍低;氣壓為1.3 Pa條件下的透過(guò)率較低。由圖3可知,氣壓為1.3 Pa條件下的薄膜表面存在個(gè)別大顆粒,增加了對(duì)入射光的散射效應(yīng),因此透過(guò)率較差。氣壓為1.0 Pa條件下的薄膜表面過(guò)于致密,對(duì)器件在著色階段注入Li+不利,限制了光電調(diào)制性能。氣壓為1.0 Pa條件下的薄膜表面相對(duì)均勻且存在粒子遷移溝道,適合變色調(diào)制。另外,在氣壓為1.0 Pa條件下沉積得到的薄膜電阻率最低,即導(dǎo)電性最優(yōu),氣壓為1.3 Pa條件下的次之, 氣壓為0.7 Pa條件下的最差。這種導(dǎo)電性的順序與XRD的(002)晶面擇優(yōu)取向性相符。ZAO薄膜的載流子為電子,電子在晶界處的遷移率比在晶內(nèi)高,柱狀晶粒間的長(zhǎng)晶界是電子遷移的主要通道。擇優(yōu)取向程度越高的薄膜的柱狀生長(zhǎng)趨勢(shì)越明顯,電子遷移越便利,導(dǎo)電性更好。綜上所述,氣壓為1.0 Pa條件下沉積的ZAO薄膜光電性能最佳。

2.4 Glass/ZAO/TiO2/Li+電解質(zhì)/WO3/ZAO/Glass器件的電致變色性能

根據(jù)第2.3節(jié)的結(jié)果,本文將濺射氣壓為1.0 Pa的ZAO薄膜作為透明導(dǎo)電層,并按照表1工藝鍍制WO3電致變色薄膜和TiO2對(duì)電極薄膜,再以有機(jī)態(tài)Li+電解質(zhì)封裝成固態(tài)電致變色器件。經(jīng)測(cè)試,器件在±3 V外電壓下可以實(shí)現(xiàn)藍(lán)色(著色態(tài))?淡黃色(褪色態(tài))的轉(zhuǎn)變。器件分別在著色、褪色態(tài)的透過(guò)率T和2種狀態(tài)透過(guò)率差值ΔT(ΔT=T褪-T著)

如圖5所示,T褪、T著和ΔT在可見(jiàn)光區(qū)的平均值與變色響應(yīng)時(shí)間見(jiàn)表3。這些定量結(jié)果表明,首先,采用本試驗(yàn)工藝制備的ZAO透明導(dǎo)電薄膜可用于實(shí)現(xiàn)WO3基器件電致變色,響應(yīng)速度滿(mǎn)足變色要求,可以取代ITO、FTO電極材料并降低成本。其次,ZnO:Al材料對(duì)紅外波段有強(qiáng)烈的吸收效應(yīng),在實(shí)際變色調(diào)制譜中,近紅外段的調(diào)制幅度大于可見(jiàn)光段,說(shuō)明這種電致變色器件能更好地調(diào)節(jié)熱量,適合用于節(jié)能窗,可降低能源消耗,具有良好的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

3 結(jié)論

本文采用射頻磁控濺射技術(shù)制備了ZAO薄膜,封裝得到電致變色器件,并得到以下3個(gè)結(jié)論。1)所制ZAO薄膜均呈(002)晶面擇優(yōu)取向,Al溶入ZnO晶格間隙,擇優(yōu)取向程度1.0 Pagt;1.3 Pagt;0.7 Pa,決定了1.0 Pa氣壓下制備的ZAO薄膜導(dǎo)電性最好。2)在氣壓為0.7 Pa下制備的ZAO薄膜表面組織細(xì)小,在氣壓為1.3 Pa下的表面組織較大且有散射粒子團(tuán),在氣壓為1.0 Pa下的表面組織均勻,薄膜透過(guò)率最高,表面顆粒形態(tài)適合電致變色反應(yīng)時(shí)Li+的擴(kuò)散遷移。3)以氣壓為1.0 Pa條件下的ZAO薄膜為透明導(dǎo)電層,封裝成的Glass/ZAO/TiO2/Li+電解質(zhì)/WO3/ZAO/Glass器件具備電致變色功能,可代替ITO、FTO電極材料并降低成本。本文制備的ZAO/WO3基電致變色器件在近紅外區(qū)調(diào)制幅度較大,適用于節(jié)能窗,具有較好的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

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通信作者:王偉(1990-),男,安徽六安人,碩士,助教,研究方向?yàn)榻饘俨牧细男约夹g(shù)。

電子郵箱:sydxwangwei@163.com。

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