、清潔度高的絕緣介質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定持續(xù)的放電加工，確保加工質(zhì)量與加工效率。由于絕緣介質(zhì)在機(jī)床中是不斷循環(huán)使用的，而放電加工后存在許多微粒狀的金屬粉塵脫離工件進(jìn)入絕緣介質(zhì)，如果含有金屬粉塵顆粒的不潔凈絕緣介質(zhì)再次進(jìn)入到放電區(qū)域，絕緣介質(zhì)擊穿放電的電阻值將不穩(wěn)定，影響放電效果和加工效率，另外，放電區(qū)域可能增加許多二次放電，影響加工質(zhì)量[1-5]。如果要求絕緣介質(zhì)系統(tǒng)提供的絕緣介質(zhì)再次進(jìn)入放電區(qū)域時(shí)保持電阻值穩(wěn)定、清潔度高（介質(zhì)中所含金屬等粉塵少），整個(gè)加工過(guò)程

常數(shù)和負(fù)磁導(dǎo)率的介質(zhì)即左手介質(zhì)產(chǎn)生了濃厚的興趣.研究已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，各向異性左手介質(zhì)的電磁特性明顯不同于各向同性左手介質(zhì)的電磁特性[1～3].本文研究電磁波在雙軸各向異性左手介質(zhì)中的傳播特性，首先詳細(xì)推導(dǎo)了在常規(guī)介質(zhì)和雙軸各向異性左手介質(zhì)界面上發(fā)生的Goos-H?nchen位移表達(dá)式，并對(duì)此進(jìn)行了討論；其次，簡(jiǎn)要討論了電磁波通過(guò)雙軸各向異性左手介質(zhì)傳播時(shí)透射波的后向位移.1 電磁波在雙軸各向異性左手介質(zhì)界面處的Goos-H?nchen位移光線從光密介質(zhì)入射到光疏

0)對(duì)于電磁波在介質(zhì)中的傳播，很多專家學(xué)者都進(jìn)行了研究和討論，給出了靜止各向異性介質(zhì)的描述[1-4]。一些研究根據(jù)Lorentz變換，系統(tǒng)討論了運(yùn)動(dòng)各向同性均勻介質(zhì)的電磁波傳播特征[5-7]。另外一些文獻(xiàn)給出了單軸各向異性介質(zhì)的狀態(tài)方程的相關(guān)變換式[8-9]。但大多數(shù)文獻(xiàn)都只對(duì)靜止?fàn)顟B(tài)下的各向異性介質(zhì)進(jìn)行探討，對(duì)電磁波在運(yùn)動(dòng)各向異性介質(zhì)中傳輸?shù)挠懻撦^少。事實(shí)上介質(zhì)往往是各向異性且運(yùn)動(dòng)的，因此分析電磁波在運(yùn)動(dòng)各向異性介質(zhì)中的傳播特性是很有必要的。本文在上述文

木星軌道衛(wèi)星深層介質(zhì)充電電勢(shì)仿真研究于向前?宋思宇 陳鴻飛 鄒鴻 施偉紅 陳傲北京大學(xué)地球與空間科學(xué)學(xué)院, 空間物理與應(yīng)用技術(shù)研究所, 北京 100871; ? E-mail: yuxiangqian@pku.edu.cn采用 GEANT4-RIC 方法, 對(duì)處于木星軌道的星用電路板 FR4 (環(huán)氧玻璃布層壓板)介質(zhì)和電纜 PTFE (聚四氟乙烯)介質(zhì)的充電過(guò)程進(jìn)行模擬研究, 計(jì)算不同接地狀態(tài)、不同介質(zhì)厚度和不同屏蔽層厚度條件下, 介質(zhì)內(nèi)部的充電電勢(shì)。研究

質(zhì)子束照射到水或介質(zhì)中,其能量沉積具有很陡的橫向半影并在射程末端存在一個(gè)尖銳的Bragg峰,因此質(zhì)子束用于放射治療時(shí)可將高劑量精確地釋放在靶體積中,從而顯著地減少對(duì)周圍正常組織的輻射損傷,質(zhì)子束放射治療中,一方面非均勻介質(zhì)對(duì)質(zhì)子束的Bragg峰影響顯著,另一方面為了提高質(zhì)子束在非均勻介質(zhì)中劑量計(jì)算算法的精度和效率,所以研究非均勻介質(zhì)的等效水厚度修正很重要.本文利用蒙特卡羅Fluka2011.2程序[3-6]模擬了不同能量(50—-250 MeV)的質(zhì)子束入

人們對(duì)水溶性淬火介質(zhì)認(rèn)識(shí)的加深，水溶性淬火介質(zhì)逐漸有一種代替油、水介質(zhì)的趨勢(shì)。特別是PAG類淬火介質(zhì)在發(fā)達(dá)國(guó)家應(yīng)用已經(jīng)比較成熟，在我國(guó)熱處理行業(yè)也得到很大程度的推廣應(yīng)用，但推廣中還存在各種困擾企業(yè)的問(wèn)題亟待解決。本刊將持續(xù)關(guān)注水溶性淬火介質(zhì)的應(yīng)用情況，以期為熱處理行業(yè)的冷卻助力。

率激光系統(tǒng)的放大介質(zhì)鏈路中出現(xiàn)奇異的元件損傷［1－2］，這種現(xiàn)象困惑科研人員很多年。1993年Hunt等人應(yīng)用自聚焦的B－T理論，對(duì)該奇異的損傷現(xiàn)象給出合理的解釋，即元件鏈路中上游元件上的缺陷等散射物產(chǎn)生的散射光與主光束在下游放大介質(zhì)中非線性相互作用，部分主光束被折射，在下游形成散射物的高強(qiáng)度的像，其強(qiáng)度可達(dá)到元件的損傷閾值，并稱之“熱像”［2］。隨后，Williams及 Widmayer等數(shù)值和實(shí)驗(yàn)地證實(shí)了該理論預(yù)言［3－5］。謝良平等研究了非線性介質(zhì)存