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e型電子槍中非均勻磁場偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的聚焦特性研究

2009-02-08 01:11趙玉清
關(guān)鍵詞:磁場特性水平

韓 亮 寧 濤 李 想 趙玉清

摘要:利用永磁鐵結(jié)構(gòu)的偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)產(chǎn)生的非均勻磁場,改進(jìn)了目前e型電子槍電子束偏轉(zhuǎn)聚焦特性,同時(shí)縮小了槍體體積,減小了功耗,采用邊界元法與等效磁荷法,模擬了偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)的非均勻磁場,再利用龍格一庫塔法模擬出電子在該系統(tǒng)中的運(yùn)動軌跡,為獲得良好的聚焦特性,電子發(fā)射速度和發(fā)射位置應(yīng)進(jìn)行優(yōu)化選擇,同時(shí)電子束保持水平出射,研究結(jié)果表明:電子槍陽極板端點(diǎn)與陰極燈絲中心點(diǎn)保持水平可滿足電子水平出射;非均勻分布的磁場對e型電子槍中電子束具有良好的聚焦作用;所設(shè)計(jì)的偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)在電子束流為50~100mA時(shí),束斑小于3mm,

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