【中國(guó)專利信息】

編者注：本期刊登的是2010年11月份國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公布的有關(guān)表面處理系列類專利信息。如需專利全文，請(qǐng)與我部聯(lián)系（聯(lián)系人：吳海玲；電話：020–61302516）。

離子液體氯化鎵/氯化1–甲基–3–乙基咪唑體系電鍍液

公開號(hào) 101876082

公開日 2010.11.03

申請(qǐng)人 沈陽師范大學(xué)

地址 遼寧省沈陽市沈北新區(qū)道義南大街8號(hào)

離子液體氯化鎵/氯化 1–甲基–3–乙基咪唑體系電鍍液的組成如下：無水氯化鎵(GaCl3)：420 ～ 450 g/kg，氯化1–甲基–3–乙基咪唑(EMIC)500 ～ 530 g/kg，金屬鎵(Ga)10 ～ 30 g/kg，糊精10 ～ 20 g/kg，氯化鈉(NaCl)10 ～ 20 g/kg。離子液體是一種綠色溶劑，具有較寬的電化學(xué)窗口，在室溫下即可得到在高溫熔鹽中才能電沉積得到的金屬與合金，但沒有高溫熔鹽那樣的強(qiáng)腐蝕性；同時(shí)，在離子液體中可以電沉積制得大多數(shù)在水溶液中得到的金屬，且無副反應(yīng)，因而所得金屬的性能更好。離子液體的上述特性及其良好的導(dǎo)電率、低的蒸氣壓使之成為電沉積研究中嶄新的電鍍液。

一種離子液體電沉積溶液以及在該溶液中電沉積制備銥層的方法

公開號(hào) 101892498

公開日 2010.11.24

申請(qǐng)人 北京航空航天大學(xué)

地址 北京市海淀區(qū)學(xué)院路37號(hào)

本發(fā)明公開了一種離子液體電沉積溶液以及用其進(jìn)行電沉積制備銥層的方法，所述的離子液體電沉積溶液由10 mL的三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價(jià)銥鹽組成；或者是由10 mL的非三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價(jià)銥鹽組成；有或是由 10 mL的三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價(jià)銥鹽和1 ～ 20 mL乙二醇組成。本發(fā)明的電沉積制備銥層的技術(shù)方案是：在真空手套箱中的電沉積槽內(nèi)加入離子液體電沉積溶液，用惰性材料作陽極，待電沉積材料作陰極，采用恒電流方式在70 ～ 120 °C下進(jìn)行電沉積，從而在陰極材料表面獲得銥層。

無氰化學(xué)鍍金鍍液及無氰化學(xué)鍍金方法

公開號(hào) 101892473

公開日 2010.11.24

申請(qǐng)人 深圳市榮偉業(yè)電子有限公司

地址 廣東省深圳市龍崗區(qū)南聯(lián)簡(jiǎn)二村下龍?zhí)?5號(hào)

本發(fā)明公開了一種無氰化學(xué)鍍金鍍液，主要成分為：蘋果酸7 ～20 g/L，EDTA-2Na 5 ～ 18 g/L，乳酸12 ～ 35 g/L，氨水20 ～ 45 g/L，防老化劑1 ～ 3 g/L，加速劑0.1 ～ 0.5 g/L，穩(wěn)定劑0.1 ～ 0.5 g/L，檸檬酸金鉀1 ～ 4 g/L，鍍液的pH為5.0 ～ 5.2。采該鍍液用于鍍金時(shí)，溫度為89 ～ 93 °C，時(shí)間為7 ～ 30 min。本發(fā)明采用新的配方比例，并以無氰鹽類作為穩(wěn)定劑，實(shí)現(xiàn)了電路板等制品的無氰化鍍金工藝，由于不使用氰鹽類物質(zhì)，為鍍金工藝提供了一種新型的無公害、成本低的途徑，本發(fā)明的推廣應(yīng)用具有極好的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

一種銅–鉻–鉬三元合金鍍層及其制備方法

公開號(hào) 101892502

公開日 2010.11.24

申請(qǐng)人 華南理工大學(xué)

地址 廣東省廣州市天河區(qū)五山路381號(hào)

本發(fā)明公開了一種銅–鉻–鉬三元合金鍍層及其制備方法。制備方法及步驟為：用蒸餾水將檸檬酸溶解，加入六水鉬酸鈉攪拌溶解，調(diào)節(jié)pH至1.5 ～ 3.3；再依次加入氯化鑭、硫酸銨和甲酸銨，調(diào)節(jié)pH至2.1 ～ 4.0；然后依次加入五水硫酸銅、六水硫酸鉻和硼酸，加入余下的蒸餾水，調(diào)節(jié)pH至2.0 ～ 3.8，得到電鍍液。將基材表面經(jīng)磨光和化學(xué)清洗后，放入電鍍槽，浸漬在電鍍液中，在40 ～ 55 °C下電鍍沉積30 ～ 60 min，電鍍完畢后取出基材，沖洗，烘干，得到銅–鉻–鉬三元合金鍍層。本發(fā)明可根據(jù)具體要求改變表面合金成分，來提高表面硬度、強(qiáng)度和耐磨性能，而心部仍為高電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率的Cu。

采用電沉積制備氟化鍶或稀土摻雜氟化鍶薄膜的方法

公開號(hào) 101892504

公開日 2010.11.24

申請(qǐng)人 浙江大學(xué)

地址 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號(hào)

本發(fā)明公開了一種采用電沉積制備氟化鍶或稀土摻雜氟化鍶薄膜的方法。包括如下步驟：1──用丙酮清洗ITO導(dǎo)電玻璃2 ～ 3次，再用去離子水將ITO導(dǎo)電玻璃放在超聲波清洗器里清洗10 ～ 30 min，接著將ITO導(dǎo)電玻璃放在10%的硝酸溶液中活化10 ～ 30 s，最后用去離子水清洗，待用；2——0.01 ～ 0.5 mol/L乙二胺四乙酸二鈉與鍶離子的配合物溶液中，加入抗壞血酸鈉，再加入氟化銨溶液，調(diào)節(jié)pH為6 ～ 9，得到電解液，待用；3──以ITO導(dǎo)電玻璃為工作電極，鉑電極為對(duì)電極，甘汞電極為參比電極，置于電解液中進(jìn)行電沉積，相對(duì)于甘汞電極的陽極沉積電位為0.8 ～ 1.4 V，得到氟化鍶薄膜。本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于設(shè)備簡(jiǎn)單，低成本，常壓低溫。除了適合于科學(xué)研究外，有望實(shí)現(xiàn)大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。

[ 編輯：周新莉 ]