孟宣市,王健磊,蔡晉生,羅時(shí)鈞,劉 鋒
(1.西北工業(yè)大學(xué) 航空學(xué)院流體力學(xué)系,陜西 西安 710072;2.美國(guó)加州大學(xué) 爾灣分校機(jī)械與宇航工程系,加州 92697-3975)
現(xiàn)代高機(jī)動(dòng)戰(zhàn)斗機(jī)、導(dǎo)彈等飛行器通常具有類似尖頭旋成體的細(xì)長(zhǎng)前體,當(dāng)迎角增大到一定程度,其分離渦流場(chǎng)會(huì)從對(duì)稱變得非對(duì)稱,同時(shí)伴隨有方向和大小均無法預(yù)估的側(cè)向力/力矩,這對(duì)飛行器的操縱性和穩(wěn)定性有很大影響。因而在大迎角下實(shí)現(xiàn)細(xì)長(zhǎng)體上側(cè)向力/力矩的比例控制,對(duì)飛行器氣動(dòng)設(shè)計(jì)具有重要的意義[1-7]。近年來,研究者應(yīng)用各種新型流動(dòng)控制技術(shù)對(duì)大迎角細(xì)長(zhǎng)體分離渦流動(dòng)進(jìn)行了控制研究[8-9]。研究發(fā)現(xiàn),非定常主動(dòng)控制可以實(shí)現(xiàn)大迎角下細(xì)長(zhǎng)體側(cè)向力/力矩的比例控制[10-11]。
最近,Liu Feng等[12]、孟宣市等[13-14]的研究表明,在大迎角下,通過分布在細(xì)長(zhǎng)圓錐前體尖端處一對(duì)SDBD激勵(lì)器,配合占空循環(huán)技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)圓錐前體側(cè)向力和力矩的比例控制。本文在上述工作基礎(chǔ)上,對(duì)兩種不同形式的等離子體激勵(lì)器的激勵(lì)效果進(jìn)行了分析比較,目的是探索通過改變等離子體激勵(lì)器的形式和布置位置來增大有效控制風(fēng)速的可能性并探討其機(jī)理[15]。
測(cè)壓實(shí)驗(yàn)在西北工業(yè)大學(xué)NF-3直流式低速風(fēng)洞進(jìn)行,風(fēng)洞實(shí)驗(yàn)段8m×3m×1.6m,最大風(fēng)速120m/s,氣流湍流度≤0.045%。粒子圖像測(cè)速(PIV)實(shí)驗(yàn)在西北工業(yè)大學(xué)流體力學(xué)系煙風(fēng)洞中進(jìn)行,實(shí)驗(yàn)段為0.6m×0.6m×0.5m,最大風(fēng)速32m/s。測(cè)壓模型由圓錐段、圓弧過渡段和圓柱整流段(圖1)三部分組裝而成。圓錐段半頂角10°,長(zhǎng)度L=463.8mm,底面直徑D=163.6mm。沿軸線分布的8個(gè)測(cè)量截面全部集中在圓錐段。每個(gè)測(cè)量截面周向均布36個(gè)測(cè)壓孔。從圓錐尖端頭部處開始150mm長(zhǎng)度部分為絕緣塑料加工制成,用于粘貼等離子體激勵(lì)器。PIV實(shí)驗(yàn)?zāi)P筒捎每s比為0.7的圓錐前體模型(圖2),采用環(huán)氧樹脂材料。測(cè)量截面距離模型尖模型尖端位置為167.5mm。
圖1 壓力分布測(cè)量實(shí)驗(yàn)?zāi)P蛨D(單位:mm)Fig.1 Test model sketch for pressure measurements(unit:mm)
圖2 PIV測(cè)量實(shí)驗(yàn)?zāi)P蛨D(單位:mm)Fig.2 Test model sketch for PIV measurements(unit:mm)
一對(duì)單電極長(zhǎng)條形等離子體激勵(lì)器對(duì)稱地安裝在圓錐頭部表面(圖3)。以模型迎風(fēng)面正中為0°方位角,逆吹型激勵(lì)器分別位于±120°方位角,等離子體開啟后產(chǎn)生與來流U∞方向相反的誘導(dǎo)氣流;順吹型激勵(lì)器分別位于±70°方位角,等離子體開啟后產(chǎn)生與來流U∞方向一致的誘導(dǎo)氣流。電極沿圓錐母線的長(zhǎng)度為20mm,前緣距圓錐頂點(diǎn)9mm。這種方式與在圓錐表面吸氣或吹氣類似,從而產(chǎn)生從上電極到下電極方向的動(dòng)量,但是沒有質(zhì)量注入。
南京蘇曼電子有限公司生產(chǎn)的2臺(tái)CTP-2000K介質(zhì)阻擋放電等離子體電源為兩個(gè)等離子體激勵(lì)器提供交流電源。等離子體電源輸出電壓波形為正弦波形,峰-峰電壓VP-P≈14kV,頻率F≈8.9kHz。
圖3 兩種不同介質(zhì)阻擋放電等離子體激勵(lì)器安裝圖Fig.3 Comparison of upstream and downstream arrangements of SDBD plasma actuators
激勵(lì)器有三種工作模式:(1)激勵(lì)器關(guān)閉,指的是左舷和右舷的激勵(lì)器都不工作;(2)左舷等離子激勵(lì)器開啟;(3)右舷等離子激勵(lì)器開啟。以下壓力數(shù)據(jù)為15s采樣時(shí)間段全平均結(jié)果,PIV采集頻率為13Hz,采集時(shí)間10s。
圖4比較了U∞=5m/s,基于圓錐段底面直徑的Re=5×104時(shí),截面2和截面6時(shí)間全平均處理后的壓力分布。
圖4 逆吹型等離子體激勵(lì)器開啟壓力分布比較,U∞=5m/sFig.4 Time-averaged pressure distributions for upstream type plasma actuators,U∞=5m/s
Hall[16]基于壓力測(cè)量和空間渦流場(chǎng)顯示結(jié)果,建立了表面壓力分布與空間渦結(jié)構(gòu)之間的直接聯(lián)系。在其工作基礎(chǔ)上,可以通過截面周向壓力分布特征點(diǎn)對(duì)當(dāng)?shù)亓鲃?dòng),例如渦心位置、附面層分離點(diǎn)等進(jìn)行推斷。表1給出了截面2、6處附面層分離點(diǎn)的位置和當(dāng)?shù)貍?cè)向力系數(shù)。從該表中可以觀察出逆吹型等離子體激勵(lì)對(duì)附面層分離點(diǎn)的影響規(guī)律。
圖4中,與激勵(lì)器關(guān)閉的情況進(jìn)行對(duì)比,截面2處當(dāng)左舷激勵(lì)器開啟時(shí),左側(cè)的附面層分離點(diǎn)沒有發(fā)生變化,而右側(cè)的附面層分離點(diǎn)由原來-100°向下移動(dòng)變?yōu)椋?20°。當(dāng)右舷激勵(lì)器開啟時(shí),右舷附面層分離點(diǎn)并不發(fā)生變化,左側(cè)附面層分離點(diǎn)由原來的90°向下移動(dòng)到110°處??梢姡瑢?duì)于逆吹型等離子體激勵(lì)器,其提供的逆向擾動(dòng)氣流所起的作用是將另一側(cè)的附面層分離點(diǎn)后移,而同側(cè)分離點(diǎn)不變。截面6處的當(dāng)?shù)亓鲃?dòng)控制規(guī)律與截面2相同,這說明盡管等離子體激勵(lì)器長(zhǎng)度僅為20mm,距離模型尖端處也僅為9mm,但是控制范圍貫穿了整個(gè)圓錐段。當(dāng)實(shí)驗(yàn)風(fēng)速進(jìn)一步提高后,等離子體流動(dòng)控制變得沒有效果。
表1 逆吹型等離子體激勵(lì)器開啟對(duì)附面層分離點(diǎn)及當(dāng)?shù)貍?cè)向力系數(shù)影響Table 1 Separation locations and local side force coefficients for upstream type plasma actuation
圖5給出了相同風(fēng)速,Re=4×104時(shí)的PIV測(cè)量結(jié)果,結(jié)果包含了由速度分布計(jì)算得到的渦量分布和流線圖。圖中深色半圓部分為模型,淺色半圓邊界為采集時(shí)的陰影區(qū)和表面反射區(qū)。
觀察PIV測(cè)量結(jié)果,等離子體關(guān)閉,流場(chǎng)左舷渦靠近物面,右舷渦遠(yuǎn)離物面,處于穩(wěn)態(tài)位置。左舷激勵(lì)器開啟后,左舷渦變得遠(yuǎn)離物面,右舷渦變得靠近物面;而當(dāng)右舷激勵(lì)器開啟后,左舷渦變得靠近物面,而右舷渦變得遠(yuǎn)離物面。左、右舷激勵(lì)器開啟下,渦流場(chǎng)基本為鏡像對(duì)稱,反映出流場(chǎng)的雙穩(wěn)態(tài)特性。此時(shí)激勵(lì)器的激勵(lì)作用為提供逆向的誘導(dǎo)氣流,使得同側(cè)分離渦遠(yuǎn)離物面,而另一側(cè)分離渦則靠近物面。這樣的結(jié)果和壓力分布分析結(jié)果是相呼應(yīng)的。
需要指出的是,等離子體關(guān)閉狀態(tài)下,圖4中截面2和6壓力分布測(cè)量結(jié)果顯示,左右壓力系數(shù)接近對(duì)稱;而圖5(a)PIV結(jié)果顯示,此時(shí)渦流場(chǎng)呈現(xiàn)左渦低、右渦高的的流場(chǎng)結(jié)果,從而兩次實(shí)驗(yàn)等離子體關(guān)閉情況下結(jié)果不一致,這是因?yàn)樾审w大迎角分離渦流場(chǎng)很敏感,模型加工、裝配誤差以及流場(chǎng)湍流度等均會(huì)影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果,造成不一致[17-18]。當(dāng)引入等離子體流動(dòng)控制后,壓力分布和PIV測(cè)量結(jié)果是一致的,這正說明了等離子體動(dòng)量注入使得原來不可預(yù)估的流場(chǎng)變化變的可預(yù)估、可重復(fù),這正是大迎角下細(xì)長(zhǎng)前體流動(dòng)控制的目的。
圖5 順吹型等離子體激勵(lì)器開啟PIV比較,U∞=5m/sFig.5 Time-averaged PIV results for uptream type plasma actuators,U∞=5m/s
圖6比較了U∞=15m/s,Re=0.16×106時(shí),測(cè)量截面2和截面6在激勵(lì)器關(guān)閉、順吹型左舷和右舷激勵(lì)器開啟下時(shí)間全平均壓力分布。
表2比較了測(cè)量截面2和截面6處順吹型激勵(lì)器關(guān)閉、左舷開啟、右舷開啟三種情況下附面層分離點(diǎn)的位置和當(dāng)?shù)貍?cè)向力系數(shù)??梢钥闯?,在等離子體開和關(guān)控制下,截面2處周向壓力分布的吸力峰位置出現(xiàn)右、左轉(zhuǎn)換。而截面6處周向壓力分布的吸力峰位置則沒有出現(xiàn)左、右舷轉(zhuǎn)換,這說明沿模型軸向等離子體控制效果有所減弱。
圖6 順吹型等離子體激勵(lì)器開啟壓力分布比較,U∞=15m/sFig.6 Time-averaged pressure distributions for downstream type plasma actuators,U∞=15m/s
表2 順吹型等離子體激勵(lì)器開啟對(duì)附面層分離點(diǎn)及當(dāng)?shù)貍?cè)向力系數(shù)影響Table 2 Separation locations and local side force coefficients for downstream type plasma actuation
截面2處,與激勵(lì)器關(guān)閉的情況進(jìn)行對(duì)比,當(dāng)左舷激勵(lì)器開啟時(shí),左側(cè)和右側(cè)的附面層分離點(diǎn)沒有發(fā)生變化。當(dāng)右舷激勵(lì)器開啟時(shí),左側(cè)附面層分離點(diǎn)由原來的100°向上游移動(dòng)到90°處,右側(cè)附面層分離點(diǎn)由原來的-100°向下游移動(dòng)到-120°處??梢?,與逆吹型激勵(lì)器有所不同,順吹型等離子體激勵(lì)器所起的作用是將同側(cè)的附面層分離點(diǎn)延后,而使得另外一側(cè)的附面層分離點(diǎn)提前。這說明順吹型左舷、右舷等離子體激勵(lì)器開啟后相當(dāng)于在當(dāng)?shù)亓鲃?dòng)的相同方向注入動(dòng)量,使得當(dāng)?shù)乇砻媪鲃?dòng)速度加快,從而延遲了流動(dòng)的分離。
截面6處,與激勵(lì)器關(guān)閉進(jìn)行對(duì)比,當(dāng)左舷激勵(lì)器開啟時(shí),左、右側(cè)的附面層分離點(diǎn)沒有發(fā)生變化。當(dāng)右舷激勵(lì)器開啟時(shí),左側(cè)分離點(diǎn)由原來的90°向上游移動(dòng)到80°處,右側(cè)分離點(diǎn)則沒有變化。
可見,順吹型激勵(lì)器可以通過延遲同側(cè)流動(dòng)分離點(diǎn)、而使得另一側(cè)分離點(diǎn)提前來提高有效控制風(fēng)速,使得有效控制風(fēng)速?gòu)?m/s提高到了15m/s,但此時(shí)流動(dòng)控制效果沿模型軸向有所減弱。
觀察PIV測(cè)量結(jié)果(見圖7),等離子體關(guān)閉,流場(chǎng)左舷渦靠近壁面而右舷渦流場(chǎng)高于左舷渦。左舷激勵(lì)器開啟后,左舷渦變得更加靠近物面,右舷渦變得遠(yuǎn)離物面;而右舷激勵(lì)器開啟后的效果與左舷激勵(lì)器開啟效果相反,右舷渦變得靠近物面,左舷渦變得遠(yuǎn)離物面;左、右舷激勵(lì)器開啟下,渦流場(chǎng)基本為鏡像對(duì)稱,反映出流場(chǎng)的雙穩(wěn)態(tài)特性。此時(shí)激勵(lì)器的激勵(lì)作用為提供順主流方向的誘導(dǎo)氣流,使得同側(cè)分離渦緊貼物面,而另一側(cè)分離渦則遠(yuǎn)離物面。這樣的結(jié)果和壓力分布分析結(jié)果是也是相呼應(yīng)的。
圖7 逆吹型等離子體激勵(lì)器開啟PIV比較,U∞=5m/sFig.7 Time-averaged PIV results for downstream type plasma actuators,U∞=5m/s
設(shè)計(jì)了順吹型和逆吹型兩種不同激勵(lì)器形式,對(duì)圓錐前體分離渦流場(chǎng)進(jìn)行了單介質(zhì)阻擋放電等離子體主動(dòng)控制實(shí)驗(yàn)。對(duì)激勵(lì)器開和關(guān)控制下的表面壓力分布和截面流場(chǎng)進(jìn)行了顯示測(cè)量。研究表明,低速大迎角下,在圓錐頭部尖端處放置一對(duì)單介質(zhì)阻擋放電等離子體激勵(lì)器,采用合適的激勵(lì)器形式,并通過適當(dāng)?shù)碾妼W(xué)參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)對(duì)圓錐前體非對(duì)稱流動(dòng)的有效控制。主要的研究結(jié)論有以下兩點(diǎn):(1)通過調(diào)節(jié)激勵(lì)器的布置位置和誘導(dǎo)氣流的方向可以提高有效激勵(lì)風(fēng)速;(2)順吹型和逆吹型等離子體激勵(lì)器對(duì)流動(dòng)產(chǎn)生影響的機(jī)理有所不同。
致謝:在錢學(xué)森誕辰100周年紀(jì)念之際,羅時(shí)鈞謹(jǐn)將此工作獻(xiàn)給他的博士學(xué)位導(dǎo)師錢學(xué)森教授。錢學(xué)森教授的教誨是他終生學(xué)術(shù)領(lǐng)悟的源泉。感謝高永衛(wèi)、惠增宏、肖春生、鄧?yán)?、郝江南等?duì)本研究的幫助。
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