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雷達刷絲導電環(huán)鈀鎳合金鍍膜技術研究

2013-12-18 11:39:14吳曉霞
電子科技 2013年5期
關鍵詞:鎳合金鍍金鍍銅

吳曉霞

(中國電子科技集團公司第38研究所工程技術部,安徽合肥 230031)

由于黃金本身的優(yōu)良性能,作為表面鍍層,在電子工業(yè)中占有重要的地位。但黃金價格昂貴,硬度較軟。因此,在某些特殊領域需要能代替黃金并且耐磨的高硬度金屬。

鈀鎳合金由于其良好的導電、耐蝕、耐磨性能和較低的接觸電阻而成為有前途的代金鍍層[1-2]。

電鍍鈀鎳合金鍍層(質(zhì)量分數(shù)比80%∶20%)具有高延展性以及類似硬金鍍層的接觸電阻,與薄金作面層的組合鈀鎳合金鍍層同樣展現(xiàn)良好的耐蝕性和耐磨性,并大幅降低生產(chǎn)成本。

為滿足雷達刷絲匯流環(huán)劃環(huán)長期耐磨要求,提高耐磨性能。本試驗采用Ni20%/Pd80%與薄金作面層組合以獲得良好的耐磨性能[3-4]。

1 實驗過程

1.1 實驗步驟及材料選擇

為保證實驗所得數(shù)據(jù)的可應用性,按照與產(chǎn)品開發(fā)所用相同材料進行實驗,以確保后期應用與實驗數(shù)據(jù)相符。實驗選用鋁青銅規(guī)格為 R=50 mm,r=45 mm,厚度2 mm。

圖1 實驗流程設計

1.2 實驗過程及實驗參數(shù)

為能獲得有效的鈀鎳合金鍍層,鋁青銅材料的前處理至關重要。只有獲得表面光潔的鋁青銅底材,才能保證鈀鎳合金鍍層的有效性。因此實驗采用NaOH等堿性溶液進行前處理。

預鍍層的選擇對鈀鎳合金鍍層的結合力有重要的影響。鋁青銅上無法直接獲得良好的鈀鎳合金鍍層。因此實驗前期采用兩種方案,鍍銅加鍍鎳或鍍銅。最后對兩種鍍層進行鍍層質(zhì)量評價。

1.3 鍍層質(zhì)量評價

對最終獲得的鍍層分別進行厚度、硬度、附著力、耐蝕性能及電性能等方面的測試。

2 實驗結果與討論

2.1 鈀鎳合金參數(shù)關系

溶液中離子濃度與鍍層Pd含量的關系,如表1所示。在厚度一定的條件下,溶液中Pd2+越高,鍍層中Pd的含量也就越高。根據(jù)數(shù)據(jù)的觀察,溶液中Pd2+的濃度在1013 g/l為所需要的范圍。

表1 溶液中離子濃度與鍍層Pd百份含量

2.2 鈀鎳合金鍍層質(zhì)量

按試驗過程進行,鈀鎳厚度為57μm,鍍層鈀鎳百分比為Ni/Pd=20/80。采用銼刀法,看鍍層是否有脫落的現(xiàn)象。10件樣件,預鍍層為鍍銅加鍍鎳其鈀鎳合金鍍層有脫落現(xiàn)象。而預鍍層為鍍銅的鈀鎳合金鍍層均無脫落現(xiàn)象。

其鈀鎳合金鍍層硬度由安美特化學有限公司廣州技術中心檢測。滿足產(chǎn)品>200的硬度要求。硬度測試采用ISO4516:2002/WI-TC-MS-026。硬度測試結果,如表2所示。

表2 硬度測試結果

鍍層耐蝕性能的檢測按GJB150.11A規(guī)定進行96 h中性鹽霧實驗,零件的工作部位不生銹、無腐蝕。2.3 鈀鎳合金鍍層與薄金做面層組合

(1)對于應用在雷達刷絲導電環(huán)上,其鍍層需要有良好的導電性,采用100件樣件,分4種鍍層結構,進行導電環(huán)跑合試驗如圖2所示,對電阻率變化值測定。如表3所示(匯流環(huán)跑合共約110天,跑合轉速10 r/min,累計跑合1.58×106轉)。

圖2 導電環(huán)跑合試驗(上為鈀鎳合金,下為鈀鎳合金+鍍金)

表3 跑合實驗接觸電阻對比

通過以上數(shù)據(jù)可以看出,前3種鍍層前期跑合均能滿足電阻率<500 mΩ的要求,后期有個別點不能滿足。第4種接觸面為鈀鎳合金鍍層的所有指標均符合要求。

(2)雷達刷絲-導電環(huán)電接觸副的耐磨性能決定了刷絲匯流環(huán)的壽命,是電接觸副的主要指標之一。通過(1)中的試驗,得到結果如表4所示。

表4 導電環(huán)刷絲觸點磨損對比

結合上述數(shù)據(jù)可以得出,表面直接為鈀鎳合金鍍層電阻率變化值較好,但對刷絲點的磨損較大,而鍍金層前期電阻率變化值較好,刷絲點的磨損也較小。在選擇鍍種上可以根據(jù)產(chǎn)品性能和壽命的要求來確定。

3 結束語

(1)鈀鎳合金鍍層具有良好的導電、耐蝕、耐磨性能,在刷絲-導電環(huán)上可以作為鍍金層的代替,降低成本。

(2)要獲得有效的鈀鎳合金鍍層,其百分比Pd為80%85%,必須嚴格控制溶液中Pd2+的濃度,并且進行預鍍銅過程,以保證鍍層無脫落現(xiàn)象。

(3)結合刷絲-導電環(huán)對電阻率變化值<500 mΩ,指標穩(wěn)定的要求,鈀鎳合金鍍層是理想的鍍層。同時考慮刷絲-導電環(huán)壽命的要求,可以采用鈀鎳合金+鍍金層的方式。

[1]ABYSJ A,KUDRAK E J,MAISANO J J,et al.The electrodeposition and material propertiesof palladium2Nickel alloys[J].Metal Finishing,1991,89(7):43 -52.

[2]GRAKAM A H,BIEGUNSKIM J,UPDEGRAFFSW.Evalution of Pal2 ladium substitutes for Gold[J].Plating and Surface Finishing,1983,70(110):52 -57.

[3]郭艷麗,王艷芳,郭超,等.鈀鎳合金鍍層特性研究[J].新技術新工藝,2011(7):90-91.

[4]苑娟,肖輝坤,余剛,等.低速電沉積鈀鎳合金工藝的研究[J].電鍍與環(huán)保,2004(6):14 -17.

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