徐海清*,胡耀紅,陳力格,鐘洪勝,張招賢
(廣州市二輕工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所,廣州鴻葳科技股份有限公司,廣東 廣州 510663)
Ti基IrO2–Ta2O5氧化物涂層陽(yáng)極具有析氧電催化活性高、使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn),是目前國(guó)際上公認(rèn)的最好的析氧陽(yáng)極[1-2],已應(yīng)用于電解銅箔生產(chǎn)[3],鋼板鍍鋅[4]、錫[5]以及廢水處理[6]等領(lǐng)域。國(guó)內(nèi)外眾多學(xué)者對(duì)其制備工藝、失效機(jī)制等進(jìn)行了廣泛而深入的研究[7-10]。為了改善 IrO2–Ta2O5涂層陽(yáng)極的電催化性能及降低成本,許多學(xué)者研究了摻雜廉價(jià)的第三組元 SnO2[5,11-14]對(duì)陽(yáng)極的影響。M.Morimitsu等[5]研究了熱分解法制備的 IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti(Ir∶Ta = 8∶2)涂層,發(fā)現(xiàn) Sn的摻雜基本不改變涂層在硫酸溶液中的析氧過(guò)電位,但可降低涂層在含苯酚磺酸(PSA)的硫酸溶液中的析氧過(guò)電位,提高其在鍍錫溶液中的壽命;唐益等[11]采用 Pechini法制備不同 Sn含量的 Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2(Ir∶Ta = 7∶3)納米氧化物陽(yáng)極,發(fā)現(xiàn)Sn的加入使Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2氧化物陽(yáng)極的析氧電位升高,穩(wěn)定性降低;王欣等[12]通過(guò)熱分解法制備不同SnO2摩爾分?jǐn)?shù)的 IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti(Ir∶Ta = 7∶3)涂層,發(fā)現(xiàn)涂層中出現(xiàn)的固溶體有助于涂層耐腐蝕性能的提高。但是SnO2含量較高時(shí)可導(dǎo)致涂層中析出SnO2,并降低涂層的耐腐蝕性能;張萌萌[13]等研究了不同摩爾比的Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2陽(yáng)極,發(fā)現(xiàn)與n(Ir)∶n(Ta)∶n(Sn)= 1∶1∶0涂層相比,n(Ir)∶n(Ta)∶n(Sn)=2∶1∶1或n(Ir)∶n(Ta)∶n(Sn)= 3∶1∶2的涂層在480 °C下燒結(jié)壽命較長(zhǎng),而在520 °C下燒結(jié)壽命較短;公銘揚(yáng)[14]研究了熱分解法制備的n(Ir)∶n(Ta)∶n(Sn)= 0.7x∶0.3x∶(1 ?x)涂層陽(yáng)極,發(fā)現(xiàn)添加5%~10%的Sn可以細(xì)化晶粒,降低析氧電位,提高壽命,但當(dāng)添加量超過(guò)10%時(shí),涂層性能明顯下降。
盡管對(duì) IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti涂層陽(yáng)極的研究報(bào)道很多,但由于烘干、燒結(jié)溫度、涂刷方式等制備工藝以及活性組分配比、組元相互作用、電化學(xué)性質(zhì)等因素的綜合影響,其結(jié)果也未能得到一致的認(rèn)同。本文采用熱分解法制備 Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2氧化物陽(yáng)極,通過(guò)多種電化學(xué)測(cè)試手段,從各個(gè)方面深入研究了Sn組元對(duì)涂層電催化綜合性能及耐腐蝕性能的影響。
BH-7除油劑,廣州市二輕工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所;氯銥酸(貴研鉑業(yè)股份有限公司)、TaCl5正丁醇溶液(上海漢邦化工有限公司),草酸(H2C2O4·2H2O)、TaCl5、正丁醇、SnCl4·5H2O,市售分析純。
規(guī)格為120 mm × 30 mm × 1.0 mm的鈦板(TA2)經(jīng)表面噴砂處理后采用BH-7除油劑在室溫下除油30 min,取出沖洗干凈后置于沸騰的 10%(質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)草酸溶液中,保持微沸狀態(tài)處理2 h,取出后用純水沖洗,自然晾干。固定Ir與Ta的摩爾比為2∶1,將氯銥酸、TaCl5正丁醇溶液和 SnCl4·5H2O按照表 1的用量溶解于正丁醇溶液中,配制成總金屬濃度為0.3 mol/L的涂液,用刷子將涂液均勻地涂覆于預(yù)處理過(guò)的鈦板上,然后在紅外燈下烘干10 min,再將鈦板轉(zhuǎn)移至480 °C的馬弗爐中氧化燒結(jié)10 min,取出空冷后再重復(fù)涂刷、烘干、氧化燒結(jié)步驟,直至涂液用完,最后一次氧化燒結(jié)1 h,制成DSA陽(yáng)極。不同DSA涂層電極成分見(jiàn)表1。
表1 不同陽(yáng)極涂層中錫的摩爾分?jǐn)?shù)Table 1 Molar fraction of tin in different anode coatings
采用經(jīng)典的三電極體系對(duì)陽(yáng)極進(jìn)行電化學(xué)性能測(cè)試,研究電極為實(shí)驗(yàn)制備的陽(yáng)極,測(cè)試面積為1.0 cm ×0.5 cm,其余部分采用AB膠密封絕緣。輔助電極為大面積鉑片電極,參比電極為飽和甘汞電極(SCE),研究電極與參比電極之間通過(guò)帶魯金毛細(xì)管的旋塞式鹽橋?qū)崿F(xiàn)電接觸。
電化學(xué)測(cè)試使用 CHI660A電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司),電解液為1.0 mol/L H2SO4溶液,測(cè)試陽(yáng)極的開(kāi)路電位(φoc)、循環(huán)伏安曲線、析氧極化曲線以及交流阻抗譜。其中,將陽(yáng)極靜置于電解液30 min后測(cè)得的穩(wěn)態(tài)開(kāi)路電位值即是陽(yáng)極的開(kāi)路電位;循環(huán)伏安測(cè)試電位掃描范圍為0.1~1.1 V,掃描速率為20 mV/s,測(cè)定 8個(gè)循環(huán),使得電極表面被充分活化并穩(wěn)定,并取第 8個(gè)循環(huán)伏安曲線作為比較分析;析氧極化曲線測(cè)試電位掃描范圍為 0.6~2.0 V,掃描速率為20 mV/s,每個(gè)測(cè)試樣掃描2次,取第2次掃描的極化曲線進(jìn)行對(duì)比分析;交流阻抗測(cè)試頻率范圍為0.1 Hz~100 kHz,電位擾動(dòng)信號(hào)為振幅10 mV的正弦波,外加直流偏壓為1.4 V。測(cè)試過(guò)程保持電解液溫度為(30 ± 1) °C。
強(qiáng)化壽命測(cè)試以制備的電極(面積為1.0 cm2)作陽(yáng)極,陰極為鈦板,電解液為1.0 mol/L H2SO4,電流密度為4 A/cm2,溫度為40 °C。當(dāng)陽(yáng)極的槽壓上升到14 V時(shí)結(jié)束測(cè)試,此時(shí)總通電時(shí)間即為陽(yáng)極的壽命。
圖1為不同Sn含量涂層的循環(huán)伏安曲線,可以看出,雖然涂層的Sn含量不同,但是循環(huán)伏安曲線的基本形狀是相似的。由于在0.1~1.1 V的電位范圍內(nèi)陽(yáng)極基本未發(fā)生析氧反應(yīng),所產(chǎn)生的電流為電極的雙電層充電電流,因此循環(huán)伏安曲線所圍面積的大小,可以反映電極表面活性點(diǎn)數(shù)目的多少[15]。從圖中可以看出,Sn的摻雜均使得涂層活性表面積增大。當(dāng) Sn含量為14.3 %(本文Sn含量均以摩爾分?jǐn)?shù)表示)時(shí),涂層活性表面積最大;當(dāng)Sn含量為20%時(shí),涂層活性表面積開(kāi)始降低。事實(shí)上,影響涂層表面積的因素很多,除了活性組元外還與涂層的表面結(jié)構(gòu)有關(guān)。一方面,隨著Sn含量的增加,氧化物涂層表面裂紋增多[11],涂層活性表面積增大;另一方面,Sn的加入,使得涂層晶粒尺寸改變,進(jìn)而影響到涂層陽(yáng)極的活性表面積。因此,涂層活性表面積是多種因素綜合影響的結(jié)果。
圖1 不同Sn含量IrTa涂層的循環(huán)伏安曲線Figure 1 Cyclic voltammograms of IrTa coatings with different Sn contents
表 2為涂層電極的開(kāi)路電位測(cè)試值。文獻(xiàn)[16]指出,在開(kāi)路穩(wěn)態(tài)時(shí),氧化物涂層電極的電位由活性組元的表面轉(zhuǎn)化反應(yīng)決定,開(kāi)路電位可作為活性氧化物陽(yáng)極內(nèi)在析氧催化活性的判據(jù)[2],開(kāi)路電位數(shù)值越大,析氧催化活性越好。對(duì)于 IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti電極體系,φoc值的大小由活性組元IrO2的表面轉(zhuǎn)化過(guò)程決定。由表中可以看出,IrO2–Ta2O5/Ti電極φoc值最大,摻雜Sn后電極的φoc值降低,且Sn含量越高,開(kāi)路電位值越低??赡苁菗诫sSn后,氧化物電極表面活性組元IrO2相對(duì)濃度降低的緣故。
表2 不同Sn含量IrTa涂層的開(kāi)路電位Table 2 Open-circuit potentials of IrTa coatings with different Sn contents
通過(guò)析氧極化曲線分析,可以對(duì)比涂層陽(yáng)極在不同電流密度下的電位值。對(duì)于以析氧為主的電解體系,析氧電位越低,電流效率越高,電耗越低。圖 2為不同涂層的析氧極化曲線測(cè)試。由圖中可以看出,少量Sn(摩爾分?jǐn)?shù) 7.7%)的摻雜基本不影響陽(yáng)極的析氧電位,這與文獻(xiàn)[5]報(bào)道的結(jié)果一致。但隨著Sn含量的提高,析氧電位也會(huì)提高,當(dāng)Sn的摩爾分?jǐn)?shù)為20.0%時(shí),陽(yáng)極的析氧電位已明顯高于未摻雜Sn的涂層。
圖2 不同Sn含量IrTa涂層的析氧極化曲線Figure 2 Oxygen evolution polarization curves for IrTa coatings with different Sn contents
Comninellis[17]對(duì)比研究了 IrO2陽(yáng)極與 SnO2陽(yáng)極在電解有機(jī)污染物中的析氧機(jī)制,認(rèn)為電解過(guò)程中SnO2陽(yáng)極表面產(chǎn)生并積累了大量的?OH自由基,而在IrO2陽(yáng)極表面?OH自由基幾乎為零,其原因是SnO2陽(yáng)極的析氧電位接近于OH?/HO2?電偶對(duì)電位1.77 V(相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)氫電極),屬于高氧超 DSA電極,析氧過(guò)電位較高,氧氣的析出為主要副反應(yīng),電解過(guò)程中有利于產(chǎn)生?OH自由基;與此相反,IrO2陽(yáng)極析氧電位接近于低價(jià)氧化物/高價(jià)氧化物電偶對(duì)(IrO2/IrO3)的電位1.2 V(相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)氫電極),屬于低析氧過(guò)電位型陽(yáng)極,利于氧氣析出。因此,對(duì)于低析氧過(guò)電位型IrO2–Ta2O5涂層陽(yáng)極,摻雜Sn會(huì)在一定程度上提高陽(yáng)極的析氧電位。另外,王欣等人[12]的研究結(jié)果表明,SnO2添加量較高時(shí)可導(dǎo)致涂層中析出SnO2,致使析氧電位提高。這與本研究結(jié)果一致。因此,本實(shí)驗(yàn)SnO2的最佳摻雜量為7.7%。
圖3為不同Sn含量的IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti涂層電極在1.4 V下的交流阻抗圖譜,此電位下陽(yáng)極可以進(jìn)行充分的析氧反應(yīng),稱(chēng)為“析氧區(qū)”。陽(yáng)極等效電路如圖4所示,可用LRs(QdlRct)(QfRf)[18-19]表示。其中,Rs表示溶液電阻,(QdlRct)是電極和溶液界面的電化學(xué)反應(yīng)阻抗(即雙電層的阻抗),Rct為反應(yīng)電阻;(QfRf)反映了涂層內(nèi)表面和鈦基體之間的物理阻抗,Rf為膜電阻;L為高頻區(qū)的等效電感,Qf、Qdl為常相位角元件。
圖3 不同Sn含量IrTa涂層的交流阻抗圖Figure 3 AC impedance spectra for IrTa coatings with different Sn contents
圖4 陽(yáng)極等效電路圖Figure 4 Equivalent circuit for EIS of anode
由圖 3中可以看出,阻抗譜主要由兩個(gè)半圓弧組成。其中,低頻區(qū)的半圓弧主要?dú)w因于電極和溶液界面的反應(yīng)阻抗,可用(QdlRct)表示;高頻區(qū)的半圓弧主要?dú)w因于涂層表面粗糙多孔的外表面和 TiO2夾層(鈦基體/TiO2/氧化物層),可用(QfRf)表示[20]。從圖中可以看出,由于各新制的涂層電極的導(dǎo)電性都很強(qiáng),在高頻區(qū)反映膜電阻的Rf都很小,都在1 ?·cm2左右。而在低頻區(qū)的半圓弧比較大,表示電極的電化學(xué)反應(yīng)電阻Rct較大。其中,未摻雜Sn的IrTa涂層電極的Rct最小,摻雜Sn后涂層的Rct增大,且Sn含量越高,Rct越大。涂層反應(yīng)電阻與陽(yáng)極析氧電位存在某種對(duì)應(yīng)關(guān)系,由阻抗測(cè)試與析氧電位測(cè)試結(jié)果也可以體現(xiàn)這一點(diǎn)。涂層的總電阻 = 膜電阻 + 反應(yīng)電阻。由上述結(jié)果分析可知,未摻雜Sn的IrTa涂層電極總電阻最小,電極的導(dǎo)電性最強(qiáng)。
圖5為不同涂層電極在2 mol/L H2SO4溶液中、電流密度為4 A/cm2的條件下做強(qiáng)化壽命測(cè)試時(shí)槽電壓隨時(shí)間變化的曲線,由圖中可以看出,IrTa涂層的強(qiáng)化壽命最長(zhǎng),為298 h。摻雜少量Sn(摩爾分?jǐn)?shù)7.7%)后強(qiáng)化壽命為292 h,僅降低了2.0%,而貴金屬I(mǎi)r的含量降低了5.13%;當(dāng)Sn的摻雜量大于10%時(shí),電極的強(qiáng)化壽命明顯降低。這與文獻(xiàn)[11-12]報(bào)道的結(jié)果相似。如圖5所示,當(dāng)Sn摩爾分?jǐn)?shù)為14.3%時(shí),涂層陽(yáng)極的強(qiáng)化壽命僅為 106 h,降低了 64.4%。而根據(jù) M.Morimitsu等[5]的研究結(jié)果,IrTa涂層[n(Ir)∶n(Ta)=8∶2]摻雜Sn后(摩爾分?jǐn)?shù)0%~15%)的電極壽命隨著Sn含量的提高而提高,與本工作的研究結(jié)果相反,可能是與涂層中Ir與Ta的比例及制備工藝不同等因素有關(guān)。
圖5 不同Sn含量IrTa涂層槽電壓隨電解時(shí)間的變化Figure 5 Variation of cell voltage of IrTa coatings with different Sn contents with electrolysis time
事實(shí)上,由于SnO2和IrO2晶體均為四方體結(jié)構(gòu),而Sn4+和Ir4+半徑分別為0.077 nm和0.071 nm,晶粒尺寸大小接近,在氧化燒結(jié)過(guò)程中容易形成固溶體[12],但是Ir、Ta、Sn氧化溫度不一樣,不同比例的Ir、Ta、Sn所形成的固溶體的固溶度也會(huì)有所差別。文獻(xiàn)[21]指出,Sn 和 Ta均優(yōu)先于Ir氧化,故IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti電極在燒結(jié)過(guò)程中,先形成的SnO2會(huì)占據(jù)IrO2的生長(zhǎng)空間,抑制 IrO2晶粒的長(zhǎng)大。因此,涂層電極的電催化性能是多種因素共同作用的結(jié)果。為了獲得最佳電催化性能的IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti電極,降低涂層成本,需要在不同Ir、Ta比例的基礎(chǔ)上進(jìn)行Sn的摻雜,并結(jié)合制備工藝等參數(shù)綜合優(yōu)化,這是以后將要進(jìn)一步開(kāi)展的工作。
采用熱分解法制備了 Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2涂層陽(yáng)極。隨著 SnO2含量的增加,Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2涂層陽(yáng)極的催化活性表面積增大,總電阻增大,導(dǎo)電性降低;當(dāng)Sn的摻雜量為7.7%(摩爾分?jǐn)?shù))時(shí),對(duì)電極的析氧電位和強(qiáng)化壽命影響不大,卻使Ir的含量降低了5.13%,節(jié)約了成本,而且電極的綜合電催化性能最佳;當(dāng)Sn的摻雜量為14.3%時(shí),電極的析氧電位明顯提高,但強(qiáng)化壽命降低了64.4%,電極的綜合電催化活性降低。
[1]MILLER B, CHEN A C.Effect of concentration and temperature on electrochemical oscillations during sulfide oxidation on Ti/Ta2O5–IrO2electrodes [J].Electrochimica Acta, 2005, 50 (11): 2203-2212.
[2]胡吉明, 孟惠民, 張鑒清, 等.Ti基IrO2+Ta2O5涂層陽(yáng)極的析氧電催化活性[J].金屬學(xué)報(bào), 2001, 37 (6): 628-632.
[3]張招賢, 趙國(guó)鵬, 羅小軍, 等.鈦電極學(xué)導(dǎo)論[M].北京: 冶金工業(yè)出版社, 2008: 613.
[4]姚書(shū)典, 沈嘉年, 孫娟, 等.IrO2+Ta2O5系鈦基改性涂層陽(yáng)極和失效特點(diǎn)[J].稀有金屬材料與工程, 2006, 35 (12): 1916-1919.
[5]MORIMITSU M, TAMURA H, MATSUNAGA M, et al.Polarization behaviour and lifetime of IrO2–Ta2O5–SnO2/Ti anodes inp-phenolsulfonic acid solutions for tin plating [J].Journal of Applied Electrochemistry,2000, 30 (4): 511-514.
[6]孟惠民, 李金鴻, 俞宏英, 等.貴金屬氧化物電極電解處理有機(jī)廢水[J].北京科技大學(xué)學(xué)報(bào), 2003, 25 (5): 405-409.
[7]DA SILVA L M, FRANCO D V, DE FARIA L A, et al.Surface, kinetics and electrocatalytic properties of Ti/(IrO2+ Ta2O5) electrodes, prepared using controlled cooling rate, for ozone production [J].Electrochimica Acta, 2004, 49 (22/23): 3977-3988.
[8]袁洪飛.溶膠–凝膠法制備的 Ti/IrO2+Ta2O5陽(yáng)極涂層性能[J].材料保護(hù), 2010, 43 (12): 19-21.
[9]HU J M, MENG H M, ZHANG J Q, et al.Degradation mechanism of long service life Ti/IrO2–Ta2O5oxide anodes in sulphuric acid [J].Corrosion Science, 2002, 44 (8): 1655-1668.
[10]YAO S D, SHEN J N, SUN J.The evaluation method and analysis of the degradation mechanism of an IrO2–Ta2O5coated titanium oxide anode [C]// The Nonferrous Metals Society of China.Proceedings of Xi’an International Titanium Conference, 2005: 285-288.
[11]唐益, 許立坤, 王均濤, 等.Ti/IrO2–Ta2O5–SnO2納米氧化物陽(yáng)極的研究[J].稀有金屬材料與工程, 2010, 39 (4): 687-691.
[12]王欣, 魏宗平, 唐電.Adding tin to prepare IrO2–Ta2O5–SnO2ternary anode coatings on titanium [J].材料熱處理學(xué)報(bào), 2010, 31 (9): 104-106.
[13]張萌萌, 林紀(jì)筠, 尹滄浪, 等.用于強(qiáng)酸性溶液的含銥涂層陽(yáng)極[J].應(yīng)用化學(xué), 1999, 16 (2): 69-71.
[14]公銘揚(yáng).鈦基納米晶 IrO2–Ta2O5氧化物涂層陽(yáng)極的研究[J].中國(guó)涂料,2005, 20 (11): 21-25.
[15]COMNINELLIS CH, VERCESI G P.Characterization of DSA?-type oxygen evolving electrodes: choice of a coating [J].Journal of Applied Electrochemistry, 1991, 21 (4): 335-345.
[16]DA SILVA L A, ALVES V A, TRASATTI S, et al.Surface and electrocatalytic properties of ternary oxides Ir0.3Ti(0.7?x)PtxO2: Oxygen evolution from acidic solution [J].Journal of Electroanalytical Chemistry,1997, 427 (1/2): 97-104.
[17]COMNINELLIS C.Electrocatalysis in the electrochemical conversion/combustion of organic pollutants for waste water treatment [J].Electrochimica Acta, 1994, 39 (11/12): 1857-1862.
[18]SHIEH D T, HWANG B J.Morphology and electrochemical activity of Ru–Ti–Sn ternary-oxide electrodes in 1 M NaCl solution [J].Electrochimica Acta, 1993, 38 (15): 2239-2246.
[19]DA SILVA L M, FERNANDES K C, DE FARIA L A, et al.Electrochemical impedance spectroscopy study during accelerated life test of conductive oxides: Ti/(Ru + Ti + Ce)O2-system [J].Electrochimica Acta, 2004, 49 (27): 4893-4906.
[20]LASSALI T A F, BOODTS J F C, BULH?ES L O S.Charging processes and electrocatalytic properties of IrO2/TiO2/SnO2oxide films investigated by in situ AC impedance measurements [J].Electrochimica Acta, 1999,44 (24): 4203-4216.
[21]SPEIGHT J G.化學(xué)工程師實(shí)用數(shù)據(jù)手冊(cè): Perry’s標(biāo)準(zhǔn)圖表及公式[M].陳曉春, 孫巍, 譯.北京: 化學(xué)工業(yè)出版社, 2006: 256.