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原子力顯微鏡在納米測量技術(shù)中的應(yīng)用

2014-08-31 09:48劉蘭嬌
山東工業(yè)技術(shù) 2014年21期
關(guān)鍵詞:納米級納米技術(shù)光束

劉蘭嬌

(長春理工大學(xué),長春 130022)

納米技術(shù)被譽(yù)為21世紀(jì)的科學(xué),現(xiàn)已成為世界各國研究的熱點(diǎn)領(lǐng)域。它的迅猛發(fā)展將在世界范圍內(nèi)引發(fā)一場包括生命科學(xué)、信息技術(shù)、生態(tài)環(huán)境技術(shù)、能源技術(shù)在內(nèi)的幾乎覆蓋所有工業(yè)領(lǐng)域的大革命。從納米技術(shù)的發(fā)展來看,納米測量技術(shù)的地位和作用是不容忽視的。納米加工和制造離不開納米測量,精密計(jì)量已不能適應(yīng)納米技術(shù)發(fā)展的要求,而且成為了納米技術(shù)發(fā)展的瓶頸。因此,納米測量技術(shù)和測量裝置,不僅是21世紀(jì)納米技術(shù)實(shí)用過程中必須關(guān)注的焦點(diǎn),而且也是21世紀(jì)計(jì)量測試領(lǐng)域研究的重中之重。在納米技術(shù)研究中,原子力顯微鏡(AFM)一直發(fā)揮著重要作用。對于納米技術(shù)的基礎(chǔ)教學(xué)而言, AFM無疑是學(xué)生們感知納米量級的最直接的方式之一。因此,本論文針對學(xué)生特點(diǎn)及教學(xué)要求,將AFM工作原理及實(shí)際掃描后得到的圖片引入到課堂中進(jìn)行輔助教學(xué),取得了一定的效果。

1 AFM引入基礎(chǔ)教學(xué)

納米級位移測量技術(shù)至今尚未有明確的定義。通常認(rèn)為測量精度或分辨率在0.5~100納米之間的位移測量技術(shù),統(tǒng)稱為納米級位移測量技術(shù)。納米測量技術(shù)的內(nèi)涵涉及納米尺度的評價(jià)、成份、微細(xì)結(jié)構(gòu)和物質(zhì)特性的納米尺度的測量,它是在納米尺度上研究材料和器件的結(jié)構(gòu)與性能、發(fā)現(xiàn)新現(xiàn)象、發(fā)展新方法、創(chuàng)造新技術(shù)的基礎(chǔ)。納米測量所涉及的兩個(gè)重要領(lǐng)域就是納米長度測量和納米級的表面輪廓測量[1]。

原子力顯微鏡(atomic force microscope,簡稱AFM)是利用微懸臂感受和放大懸臂上探針與受測樣品原子之間的作用力,從而達(dá)到檢測的目的,具有原子級的分辨率[2]。原子力顯微鏡研究對象可以是有機(jī)固體、聚合物以及生物大分子等,其可以在空氣或者液體下對樣品直接進(jìn)行成像,分辨率很高。因此,AFM被廣泛應(yīng)用于納米長度測量和納米級的表面輪廓測量中。

2 AFM教學(xué)實(shí)例

針對納米測量所涉及的兩個(gè)重要領(lǐng)域:納米長度測量和納米級的表面輪廓測量。列舉了AFM掃描的利用多光束激光干涉光刻制備單晶硅形貌圖。

圖1 激光干涉四光束點(diǎn)陣形貌圖

圖2 激光干涉三光束點(diǎn)陣形貌圖

圖3 激光干涉兩光束條紋形貌圖

通過原子力顯微鏡對樣品形貌的掃描,可以讓學(xué)生更為直觀地了解AFM以及納米測量的相關(guān)概念及原理。同時(shí),清晰的掃描圖像可以進(jìn)一步促進(jìn)學(xué)生對教學(xué)內(nèi)容的理解和認(rèn)識。

3 結(jié)論

通過將原子力顯微鏡實(shí)驗(yàn)課程引入納米測量技術(shù)教學(xué)中,可以將抽象、難以理解的問題具體化、形象化,學(xué)生可以在使用或者觀看AFM的過程中對納米測量技術(shù)課程中基本概念的理解進(jìn)一步加深,有利于培養(yǎng)學(xué)生的學(xué)習(xí)興趣、建模能力和實(shí)際應(yīng)用能力。

[1]楊曉紅,楊圣.納米級位移測量技術(shù)綜述[J].鹽城工學(xué)院學(xué)報(bào),2000.

[2]李艷青,智麗麗,原子力顯微鏡的原理及其在生命科學(xué)中的應(yīng)用[J].昌吉學(xué)院學(xué)報(bào),2010.

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