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半色調(diào)掩膜在TFT—LCD中的應(yīng)用

2015-05-30 15:30:13甄娟
科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2015年31期
關(guān)鍵詞:掩膜色調(diào)基板

摘 要:隨著彩色顯示的快速發(fā)展,LCD的彩色化無可逆轉(zhuǎn)。據(jù)市場調(diào)查機(jī)構(gòu)的統(tǒng)計(jì),到2010年,LCD彩色化比率將高達(dá)94%。在液晶面板生產(chǎn)商不斷投建高世代線、擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的今天,各液晶面板廠商面對強(qiáng)大的市場競爭壓力,其液晶面板制造的利潤已大大攤薄。在競爭加劇、價(jià)格持續(xù)跳水的市場壓力下,降低成本已是各面板廠維持生存的必要手段。降低原材料成本、減少生產(chǎn)工藝流程等級手段已被各公司采用。以此來壓縮生產(chǎn)成本,提高企業(yè)利潤額,提升市場競爭力。采用半色調(diào)掩膜版(Half Tone Mask),把兩道上曝光工藝完成的工序合并為一個,節(jié)省一道曝光工序,縮短了生產(chǎn)周期,提高了生產(chǎn)效率,降低了生產(chǎn)成本,提高了市場競爭能力。文章分為:一、半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask)工藝和原理;二、半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask)在TFT-LCD Array基板制作中的應(yīng)用;三、半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask)在TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器件)CF基板制作中的應(yīng)用。

關(guān)鍵詞:半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask);TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器件);CF(彩色濾光片)成本;曝光工藝

緒論

采用半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask)與剝離(Lift Off)法,僅用一片掩膜就實(shí)現(xiàn)了鈍化層(Passivation Layer)的開口與Patten圖案、“凸”型黑色矩陣,此技術(shù)被TFT-LCD廠家開發(fā)出來并得到一定范圍的應(yīng)用。

1 半色調(diào)掩膜(Half Tone Mask)工藝和原理

1.1 HTM曝光工藝

圖1

Half Tone Method:利用了光柵的部分透光性,可以將PR(光阻)不完全曝光。半透膜部分按所需要鈍化層的高度差來決定光線透過的多少。(一般情況下光線透過率是正常部分的35%左右)

1.2 原理圖(圖2)

圖2

2 TFT-Array基板結(jié)構(gòu)(詳見圖3)

圖3

首先介紹下半色調(diào)掩膜版光罩在TFT-LCD中Array基板制作中的一項(xiàng)應(yīng)用。目前TFT-LCD中Array基板制作一般應(yīng)用5道掩膜版曝光,刻蝕工序:G工程用G-MASK曝光形成掃描線(Gate)相關(guān)的圖案;I工程用I-MASK曝光形成溝道用硅島(Island)圖案;D工程用D-MASK曝光形成數(shù)據(jù)線(Date)相關(guān)的圖案;C工程用C-MASK曝光形成接觸孔(Contact Hole)圖案;PI工程用PI-MASK曝光形成像素電極,工序多而復(fù)雜。采用半色調(diào)掩膜版,將I工程和D工程合為一道工序,使原來的5道工序減化成4道曝、刻蝕工序就能形成所需要的圖案。具體原理是:使用HTM-MASK在鈍化層打出與周邊焊盤相接的開口;然后,對光刻膠進(jìn)行灰化(Ashing)處理,使形成ITO圖案的像素部分曝光,并在形成ITO膜以后,采用剝離方法將光刻膠剝離,除去不需要的ITO層。具體的原理及最終效果如上圖1、2所示。

圖4

3 半色調(diào)掩膜版光罩在TFT-LCD中CF(彩色濾光片)基板制作中的一項(xiàng)應(yīng)用

先了解下彩色濾光片(Colour Filter)的結(jié)構(gòu),它由玻璃基板、黑色矩陣、彩色層、ITO導(dǎo)電膜層、PS層(見圖5)。為防止彩色像素和底層黑色矩陣BM之間漏光,設(shè)計(jì)時(shí)彩色像素和黑色矩陣BM之間有合適重疊量,即Overlay,此處由于光阻量多于像素其它部位,高度也比像素其它高,通常叫端差,如圖5所示,TN產(chǎn)品對于像素上的端差要求很高,如果端差很高就會影響PI摩擦不能形成統(tǒng)一的溝槽,在像素邊緣端差處的液晶分子就不能很好配方,像素邊緣就會產(chǎn)生漏光現(xiàn)象。所以控制端差高度在合理范圍內(nèi)非常重要。采用Half Tone Mask 透光量不同來實(shí)現(xiàn)改善像素端差是有效方法之一。

圖5

4 結(jié)論

雖然半色調(diào)掩膜版光罩制作難度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于普通掩膜版光罩,但是TFT-LCD制作工藝采用它,節(jié)省了幾道生產(chǎn)工序,給TFT-LCD廠帶來的很大收益,降低了生產(chǎn)成本,縮短了生產(chǎn)周期,提高了市場競爭能力。

5 結(jié)束語

文章從半色調(diào)掩膜版光罩工作原理,TFT-LCD廠商在各層基板上的應(yīng)用做基本介紹,在無需更改材料的情況下,提高了生產(chǎn)效率,減化了生產(chǎn)流程??傮w上來說是達(dá)到了廠家的目的。

參考文獻(xiàn)

[1]張芳.新型平板顯示技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略[M].

[2]田民波,葉鋒.TFT-LCD面板設(shè)計(jì)與構(gòu)裝技術(shù)[M].

[3]戴亞翔.TFT-LCD面板驅(qū)動與設(shè)計(jì)[M].

[4]馬群剛.TFT-LCD原理與設(shè)計(jì)[M].

作者簡介:甄娟(1976-),女,南京中電熊貓液晶材料科技有限公司技術(shù)科長,主要從事CF的設(shè)計(jì)和技術(shù)管理工作。

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