張凌云,賈若琨,孫旭輝,張瑛潔,劉春光
(東北電力大學(xué) 化學(xué)工程學(xué)院,吉林 吉林 132012)
ZnO是一種直接帶隙、寬禁帶(3.37eV)半導(dǎo)體材料[1],因其在太陽能電池、發(fā)光二級管、氣敏元件等方面的潛在應(yīng)用而被廣泛研究[2-5]。由于半導(dǎo)體材料ZnO只能吸收光子能量大于其帶隙的紫外光,導(dǎo)致其為光陽極的染料敏化太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率偏低。因此,窄化ZnO帶隙,增加其對太陽光的吸收是提高染料敏化太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率的有效途徑。研究發(fā)現(xiàn)N摻雜可以有效降低ZnO的帶隙[6,7],摻雜方法主要包括等離子體化學(xué)氣相沉積法、脈沖激光沉積法、金屬有機化學(xué)氣相沉積法、分子束外延法、磁控濺射法、溶液法等[8-13]。N摻雜方法各有優(yōu)缺點,溶液法簡單易操作,對實驗設(shè)備要求低,N摻雜含量不可控制;其他N摻雜方法對實驗設(shè)備要求高,N摻雜含量可粗略調(diào)控。上述N摻雜方法通常采用N摻雜源與ZnO前驅(qū)體反應(yīng)得到一定摻雜濃度的ZnO,研究發(fā)現(xiàn),N摻雜可有效改變材料的電子、光學(xué)、載流子性質(zhì),并修飾其能帶結(jié)構(gòu),而N的摻雜含量直接決定著摻雜材料的性質(zhì)變化。因此,設(shè)計一種簡單、低成本并可控制N摻雜量的方法將加速ZnO的研究進程,為其在各個領(lǐng)域的應(yīng)用提供有力支撐。
本工作以NH3氣為摻雜源,采用自制高溫反應(yīng)裝置進行N摻雜。通過改變實驗條件即NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間來調(diào)控N摻雜含量,研究實驗條件、ZnO帶隙和光學(xué)性質(zhì)三者之間的關(guān)系,將N摻雜ZnO用于染料敏化太陽能電池,研究N摻雜對電池性能的影響。
取0.2mol/L的氫氧化鈉溶液滴加到0.02mol/L的醋酸鋅溶液中,磁力攪拌30min,轉(zhuǎn)移至水熱釜中100℃恒溫4h,產(chǎn)物為白色沉淀,沉淀經(jīng)離心洗滌60℃烘干,馬弗爐中320℃煅燒4h得ZnO粉末。圖1為自設(shè)計的N摻雜裝置。將上述ZnO粉末置于不銹鋼反應(yīng)腔中,NH3氣經(jīng)氣體凈化器去除多余的水分和雜質(zhì),最后,進入不銹鋼反應(yīng)腔中進行N摻雜??筛淖僋H3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間得到不同摻雜條件下的N-ZnO。
圖1 N摻雜裝置Fig.1 Apparatus for N-doping
材料的表征:場發(fā)射掃描電子顯微鏡(JSM-7000F)、X射線粉末衍射儀(1000IP)、X射線光電子能譜(ESCALAB-250)、紫外可見光譜儀(U-3010)、電化學(xué)工作站(CHI660D)。
電池的組裝:取一定量的N-ZnO加入到聚乙二醇2000的水溶液中,磁力攪拌12h得到黏度均勻的漿料。用刀片涂于導(dǎo)電玻璃上,自然干燥后450℃煅燒4h,得到陽極片。利用熱解法制備對電極,注入電解液組裝電池。
太陽能電池的光電流-光電壓(J-V)測試:J-V 測試系統(tǒng)由模擬光源、太陽能電池、測試和數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)組成。以氙燈光源為模擬光源,入射光強度為100mW·cm-2。采用線性掃描伏安法在電化學(xué)工作站上進行測試和數(shù)據(jù)收集,從J-V曲線得到電池的開路光電壓Voc和短路光電流Jsc,計算出填充因子(Fill Factor,F(xiàn)F)和光電轉(zhuǎn)換效率η。
圖2為ZnO和N-ZnO的SEM照片。圖2(a)為水熱法制備ZnO的SEM照片,可知ZnO為形狀不規(guī)則、表面光滑的亞微米片。圖2(b)為N-ZnO的SEM照片,對比兩圖可以發(fā)現(xiàn),N-ZnO的形貌沒有明顯改變,仍為形狀不規(guī)則的亞微米片。但由于ZnO在N摻雜過程中經(jīng)過高溫煅燒,材料出現(xiàn)類似于“熔合”的聚集現(xiàn)象。
圖2 ZnO(a)和 N摻雜ZnO(b)的SEM 照片F(xiàn)ig.2 SEM images of ZnO(a)and N-doped ZnO(b)
圖3為ZnO和N-ZnO的XRD譜圖??芍?,ZnO和N-ZnO的XRD譜圖的六個衍射峰分別位于(100),(002),(101),(102),(110),(103)晶面上,且(101)晶面衍射峰最強,均與ZnO的標準圖譜(JCPDS Card No.80-0075)相一致,表現(xiàn)為典型的六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),N摻雜沒有改變ZnO的相結(jié)構(gòu)。未觀察到含N物質(zhì)的衍射峰或者雜質(zhì)峰出現(xiàn),這說明N摻雜ZnO時沒有引入其他雜質(zhì)。由圖3中插圖可知,與ZnO的衍射峰相比,N-ZnO的衍射峰向小角度方向移動,這是因為O原子半徑為0.060nm,N原子半徑為0.065nm,N原子取代O原子位置進入ZnO晶格中會導(dǎo)致晶體內(nèi)應(yīng)力增大,因此,衍射峰向小角度方向移動。
圖3 ZnO和N摻雜ZnO的XRD譜圖Fig.3 XRD patterns of ZnO and N-doped ZnO
N-ZnO的表面組成及化學(xué)價態(tài)通過XPS譜圖進行分析,圖4為N-ZnO的Zn,N和O的XPS譜圖。圖4(a)表明,Zn的兩個XPS峰分別位于1021.63eV和1044.75eV,歸屬于 Zn2p3/2和Zn2p1/2。在圖4(b)中觀察到一個較寬N峰的存在,通過高斯函數(shù)將N峰分成3個峰,分別位于393.39,397.22,401.41eV。397.22eV的N峰對應(yīng)的是Zn—N鍵,這表明N原子取代O原子摻雜到ZnO的晶格中,形成了Zn—N鍵[14]。Jiang等[15]報道了高溫煅燒的N摻雜條件會導(dǎo)致Zn—N鍵從397eV向低鍵合能方向偏移,因此,圖4(b)中鍵合能位于393.39eV的N峰為高溫煅燒導(dǎo)致的Zn-N鍵的偏移峰。鍵合能位于401.41eV的N峰歸屬于ZnO表面吸附的。根據(jù)文獻[17]報道,位于低鍵合能531.27eV的O峰歸屬于ZnO表面的缺失O(氧空位VO)。高鍵合能532.01eV的O峰對應(yīng)的是ZnO晶體中吸附氧雜質(zhì),例如CO2,或者是吸附的H2O和。
圖4 N摻雜ZnO的 XPS譜圖 (a)Zn2p;(b)N1s;(c)O1sFig.4 XPS spectra of N-doped ZnO (a)Zn2p;(b)N1s;(c)O1s
根據(jù)文獻[19]報道,并結(jié)合XPS譜圖中出現(xiàn)的Zn—N鍵,N2,氧空位VO和吸附的H2O,推斷出NH3氣氛下N摻雜ZnO的反應(yīng)機理:
由于N摻雜在高溫高壓下進行,導(dǎo)致NH3氣自身分解形成NH,活性H,N2和H2;活性H與ZnO反應(yīng),形成 H2O和氧空位VO,隨后,NH填充氧空位VO,而NH占據(jù)氧空位VO形成的N-H鍵,其在ZnO晶體中構(gòu)成了N-H復(fù)合缺陷;在退火過程中,N-H鍵發(fā)生斷裂,H離開ZnO晶體留下N,形成NZnO。在此過程中部分N2吸附在ZnO表面,因此,在XPS譜峰中出現(xiàn)了N2峰。
改變N摻雜實驗條件,如NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間可以得到不同N摻雜含量的ZnO。表1列舉出簡化后的不同N摻雜實驗條件下N摻雜含量和光電性能的數(shù)據(jù)。圖5為N-ZnO的紫外-可見吸收光譜??芍?,不同摻雜條件下N-ZnO的紫外-可見吸收光譜的吸收帶邊向長波方向發(fā)生不同程度的移動,這說明N摻雜窄化了ZnO帶隙,具體的帶隙數(shù)值可以通過沿吸收帶邊做切線與X軸交點,再結(jié)合公式λg=1240/Eg[20]計算得出。N的摻雜含量隨著NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間的增加而增加,相應(yīng)的帶隙減小,因此,可以通過控制摻雜條件對N的摻雜含量進行調(diào)控。Zhou等[21]從理論上解釋了N摻雜窄化帶隙的機理:N摻雜進入ZnO晶體時,N的2p軌道位于價帶的頂部,同時摻雜引起Zn3p軌道和N2p軌道向費米能級方向移動,使得導(dǎo)帶底下移,價帶頂?shù)綄?dǎo)帶底的間隙窄化。這樣電子從價帶躍遷到導(dǎo)帶所需能量減小,吸收的光譜范圍從紫外高能區(qū)向可見低能區(qū)擴展。提高材料對太陽光的吸收利用,從而為其在光學(xué)器件上的應(yīng)用提供潛在的可能。
圖5 N摻雜ZnO的紫外-可見吸收光譜Fig.5 Uv-vis spectra of N-doped ZnO
圖6為不同摻雜實驗條件下N-ZnO的光電流-光電壓曲線。NH3氣壓強控制在0.8~1.2MPa之間,煅燒溫度從500℃升高到650℃,煅燒時間從48h增加到72h,改變上述實驗條件得到不同N摻雜含量的ZnO。由表1可知,N摻雜含量隨NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間的增加而增加,N摻雜含量從0.24%增加到0.76%。同時,觀察到電池的光電流和光電轉(zhuǎn)換效率隨N摻雜含量的增加而增加,光電流從1.80mA/cm2增加4.17mA/cm2。N摻雜窄化了ZnO帶隙,增加了ZnO陽極對光的吸收,電池激發(fā)電子數(shù)目增加,光電流增加;N摻雜降低了ZnO導(dǎo)帶底,使得染料激發(fā)態(tài)電子注入ZnO陽極導(dǎo)帶的驅(qū)動力增加,從而使電池電子注入效率增加,光電流增加。因此,N摻雜從以上兩個方面提高電池光電流,從而使電池光電轉(zhuǎn)換效率從0.34%提高至1.02%。從表1可以看出,空白ZnO的光電轉(zhuǎn)換效率僅為0.34%,整體上,材料的光電轉(zhuǎn)換效率都較低,這是由于ZnO漿料配比不夠合理導(dǎo)致的整體材料效率偏低,可通過后續(xù)的優(yōu)化漿料配比與工藝來提高效率。造成光電轉(zhuǎn)換效率偏低的另一個原因是,N摻雜含量較低,實驗結(jié)果表明,光電效率隨N摻雜含量的增加而增加,而本制備方法的N摻雜含量較低,因而導(dǎo)致效率偏低,可通過增加NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間等實驗條件來增加N摻雜含量,從而提高其光電轉(zhuǎn)換效率,優(yōu)化材料光電性能,為其在光學(xué)器件上的應(yīng)用提供潛在的可能。
圖6 N摻雜ZnO的光電流-光電壓曲線Fig.6 Photocurrent-photovoltaic curves of N-doped ZnO
(1)采用自設(shè)計N摻雜裝置制備了N-ZnO,通過NH3氣壓強(0.8~1.2MPa)、煅燒溫度(500~650℃)和煅燒時間(48~72h)等實驗條件對N摻雜含量進行調(diào)控,N的摻雜含量隨著NH3氣壓強、煅燒溫度和煅燒時間的增加從0.24%增加到0.76%。
(2)N摻雜窄化了ZnO帶隙,導(dǎo)致ZnO的紫外-可見吸收光譜的吸收帶邊發(fā)生紅移,且紅移程度隨N摻雜含量的增加而增加。N摻雜提高了以ZnO為光陽極的染料敏化太陽能電池的光電性能,電池光電流從1.80mA/cm2增加到4.17mA/cm2,光電轉(zhuǎn)換效率從0.34%提高至1.02%。
[1]王旭東,易忠,沈自才,等.ZnO白漆的質(zhì)子輻照損傷與光學(xué)性能退化機理[J].材料工程,2013,(5):1-5.WANG Xu-dong,YI Zhong,SHEN Zi-cai,et al.Proton radiation damage in ZnO-pigmented white paints and optical degradation mechanisms[J].Journal of Materials Engineering,2013,(5):1-5.
[2]賀小文,孟大維,劉長珍,等.ZnO以及Fe摻雜ZnO的光學(xué)性質(zhì)和室溫鐵磁性質(zhì)研究[J].材料工程,2012,(12):66-70.HE Xiao-wen,MENG Da-wei,LIU Chang-zhen,et al.Optical and room-temperature ferromagnetic properties of ZnO and Fe doped ZnO[J].Journal of Materials Engineering,2012,(12):66-70.
[3]SUN F J,XIE Y,LIU J,et al.ZnO hierarchical nanostructures and application on high-efficiency dye-sensitized solar cells[J].Materials Science and Engineering:B,2010,166(3):196-202.
[4]WANG J,CHEN W,ZHOU Y,et al.Direct growth of highly mismatched type Ⅱ ZnO/ZnSe core/shell nanowire arrays on transparent conducting oxide substrates for solar cell applications[J].Advanced Material,2008,20(17):3248-3253.
[5]KIN S,DOLMANAN B,SHEN L,et al.Degradation mechanism of ZnO-based dye-sensitized solar cells[J].Solar Energy Material Solar Cells,2010,94(2):323-326.
[6]LIVRAGHI M C,PAGANINI E,GIAMELLO A,et al.Origin of photoactivity of nitrogen-doped titanium dioxide under visible light[J].Journal of American Chemical Society,2006,128(49):15666-15671.
[7]HU J,HE H Y,PAN B C,et al.Hydrogen diffusion behaviour in N doped ZnO:first-principles study[J].Journal of Applied Physics,2008,103(11):113706.
[8]ROGOZIN I V.Nitrogen-doped p-type ZnO thin films and ZnO/ZnSe p-n heterojunctions grown on ZnSe substrate by radical beam gettering epitaxy[J].Thin Solid Films,2009,517(15):4318-4321.
[9]OH D C,KIM J J,MAKINO H,et al.Characteristics of schottky contacts to ZnO:N layers grown by molecular-beam epitaxy[J].Journal of Applied Physics Letters,2005,(86):042110.
[10]DU G,MA Y,ZHANG Y,et al.Preparation of intrinsic and N-doped p-type ZnO thin films by metalorganic vapor phase epitaxy[J].Journal of Applied Physics Letters,2005,(87):213103.
[11]DUNLOP L,KURSUMOVIC A,MACMANUS-DRISCOLL J L,et al.Reproducible growth of p-type ZnO:N using a modified atomic layer deposition process combined with dark annealing[J].Journal of Applied Physics Letters,2008,(93):172111.
[12]NAKANO Y,MORIKAWA T,OHWAKI T,et al.Electrical characterization of p-type N-doped ZnO films prepared by thermal oxidation of sputtered Zn3N2films[J].Journal of Applied Physics Letters,2006,(88):172103.
[13]NIAN H,HAHN S H,KOO K K,et al.Sol-gel derived N-doped ZnO thin films[J].Material Letters,2009,63(26):2246-2248.
[14]ZHU Y,LIN S H,ZHANG Y Z,et al.Temperature effect on the electrical,structural and optical properties of N-doped ZnO films by plasma-free metal organic chemical vapour deposition[J].Applied Surface Science,2009,255(12):6201-6204.
[15]JIANG L Q,XU Z L,SHANG X J,et al.The surface properties and photocatalytic activities of ZnO ultrafine particles[J].Applied Surface Science,2001,180(3-4):308-314.
[16]LOSURDO M,GIUVA D,BRUNO G,et al.The surface modification and reactivity of LiGaO2substrates during GaN epitaxy[J].Journal of Crystal Growth,2004,264(1-3):139-146.
[17]LI Z,XIONG Y,XIE Y.Selected-control synthesis of ZnO nanowires and nanorods via a PEG-assisted route[J].Inorganic Chemistry,2003,(42):8105-8109.
[18]CHEN M,WANG X,YU Y H,et al.X-ray photoelectron spectroscopy and auger electron spectroscopy studies of Al-doped ZnO films[J].Applied Surface Science,2000,158(1-2):134-140.
[19]MUTHUKUMAR S,GORLA C R,EMANETOGLU N W,et al.Control of morphology and orientation of ZnO thin films grown on SiO2/Si substrates[J].Journal of Crystal Growth,2001,225(2-4):197-201.
[20]CONG Y,ZHANG J L,CHEN F.Synthesis and characterization of nitrogen-doped TiO2nanophotocatalyst with high visible light activity[J].Journal of Physical Chemistry C,2007,111(19):6976-6982.
[21]ZHOU C J,KANG J Y.Modulation of band structure in wurtzite ZnO via site-selective Ga-N codoping[J].Journal of Physics Condens Matter,2006,(18):6281-6287.