周海逢,鄭鳳英1,,吳藝津,郭藝娟,葉妙娟,李順興*1,
(1.福建省現(xiàn)代分離分析重點實驗室,福建漳州 363000;2.閩南師范大學(xué)化學(xué)與環(huán)境學(xué)院,福建漳州 363000)
鄰苯二酚(CC)、對苯二酚(HQ)和間苯二酚(RC)是苯二酚的3種同分異構(gòu)體,它們通常共存于制藥、染料、化妝品、農(nóng)藥等產(chǎn)業(yè)廢水中,但具有高毒性,能抑制中樞神經(jīng)系統(tǒng)和損害肝、腎功能等[1,2],被美國環(huán)境保護署(EPA)、歐盟(EU)和我國列為優(yōu)先污染物。苯二酚的3種同分異構(gòu)體因結(jié)構(gòu)和性質(zhì)相似,檢測時互有干擾,因此,急需建立有效的同時檢測方法。目前,檢測苯二酚同分異構(gòu)體的方法主要有高效液相色譜法[3]、同步熒光法[4]、分光光度法[5]和電化學(xué)法[6,7]。電化學(xué)法因其響應(yīng)快速,成本低,靈敏度高和選擇性好,引起廣泛關(guān)注,但苯二酚同分異構(gòu)體氧化電位相近,傳統(tǒng)電極的電化學(xué)信號無法將它們分開。
石墨烯(Graphene)比表面積大、導(dǎo)電性優(yōu)異、熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性高,廣泛用于能源儲存、傳感器和電化學(xué)檢測[8 - 10]。氮摻雜能影響碳基材料的酸堿特性,誘導(dǎo)更多的正電荷到相鄰碳原子上[11],提高陰離子交換性能和電催化活性,穩(wěn)定性更優(yōu)異[12,13]。聚多巴胺(PDA)表面官能團幾乎能附著在任何材料表面[14,15],其特異性的還原能力可使氧化石墨烯(GO)被還原成還原氧化石墨烯(rGO)[16,17]。此外,多巴胺含有豐富的氮,可在碳基材料表面原位摻入高電活性的氮原子。Zheng等[17]制備PDA-rGO電極材料,應(yīng)用電化學(xué)法同時檢測苯二酚2種同分異構(gòu)物(HQ和CC),檢測限為0.74 μmol/L和0.62 μmol/L,線性范圍為1~230 μmol/L和1~250 μmol/L。
本實驗以多巴胺為無毒氮源,將PDA-rGO在溫度800 ℃氮氣保護下高溫碳化,制備出氮原位摻雜石墨烯(C/N-Graphene),由于氮與碳原子的電負性不同,從而影響氮周圍碳原子的電子云分布及極性,進而影響苯二酚3種同分異構(gòu)體的電化學(xué)氧化動力學(xué)過程[17]。該方法提高了電極的導(dǎo)電性、電催化活性和靈敏度,具有良好的選擇性。采用循環(huán)伏安法和差分脈沖伏安法研究苯二酚同分異構(gòu)體的電化學(xué)反應(yīng),相比于其他碳基材料修飾電極,優(yōu)勢突出,可同時檢測苯二酚3種同分異構(gòu)體,線性范圍更寬和檢測限更低。
JEM-2010型透射電子顯微鏡(TEM)(日本,電子珠式會社);S-4800型掃描電子顯微鏡(SEM)(日本,日立公司);Nicolet 5700型紅外光譜儀(美國,Thermo Nicolet 公司);CT14D 型臺式高速離心機(上海天美生化儀器廠);HJ-6型多頭磁力攪拌器(金壇市江南儀器廠);BS124S電子天平(北京賽多利斯有限公司);CHI660E型電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司)。以氮摻雜還原氧化石墨烯修飾玻碳電極(d=3 mm)為工作電極,Ag/AgCl(飽和KCl)為參比電極、鉑絲為對電極。
石墨粉、多巴胺(DA)(98%)、鄰苯二酚、間苯二酚、對苯二酚、Na2HPO4-NaH2PO4緩沖溶液(PBS,0.1 mol/L,pH=7.0),均購自阿拉丁試劑公司;5% Nafion 溶液購自美國Sigma公司;其它試劑均購自國藥集團上?;瘜W(xué)試劑有限公司(分析純)。實驗用水均為去離子水(18.2 MΩ·cm)。
1.2.1GO、PDA-rGO及C/N-Graphene的制備參考文獻方法[17]合成GO,具體步驟為:于1.0 g石墨粉中加入23 mL 98%H2SO4,冰浴攪拌30 min,充分混勻,緩慢加入4 g KMnO4,攪拌1 h,移入40 ℃溫水中,繼續(xù)攪拌30 min,用去離子水稀釋至800~1 000 mL,控制反應(yīng)液溫度在95 ℃,加入6 mL 5%H2O2,趁熱過濾,用5%HCl和水充分洗滌至中性,離心得黃褐色沉淀,冷凍干燥,待用。
利用多巴胺的聚合及還原性能制備PDA-rGO:將0.1 g GO超聲均勻分散在80 mL 10 mmol/L Tris-HCl的緩沖液(pH=8.5)中,加0.1 g DA,磁力攪拌15 h,高速離心,水洗三次,冷凍干燥,待用。
氮氣保護下煅燒制備C/N-Graphene,方法如圖1(A)所示:將PDA-rGO充分研磨粉碎,取0.1 g放入坩堝中,通入氮氣保護,以1 ℃/min的速率升溫至700 ℃、800 ℃、900 ℃,高溫煅燒2 h,制得不同煅燒溫度對應(yīng)的電極材料C/N-Graphene -700,C/N-Graphene -800,C/N-Graphene -900。
苯二酚同分異構(gòu)體氧化機理如圖1(B)所示。
1.2.2修飾電極的制備將裸玻碳電極(GCE)依次用 1.0、0.3和0.05 μm 的 Al2O3粉末在麂皮上打磨、拋光至鏡面。用水、無水乙醇、水超聲清洗3次。移取5、10、15 μL C/N-Graphene -800 DMF溶液(含2 μL 5% Nafion )分別滴涂于GCE表面制得不同負載量的對應(yīng)電極C/N-Graphene -800-5、C/N-Graphene -800-10、C/N-Graphene -800-15。
1.2.3修飾電極的表征應(yīng)用SEM和TEM表征C/N-Graphene形貌:將樣品均勻分散在水中,取適量滴于硅片和銅網(wǎng)上,于干燥箱中烘干后測定。復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)由紅外(IR)光譜表征,采用KBr壓片法,待測物與 KBr 按質(zhì)量比1∶100 混合,充分研磨均勻后壓片,在400~4 000 cm-1范圍內(nèi)掃描。在含適量苯二酚同分異構(gòu)體的PBS中,以C/N-Graphene/GCE 為工作電極,在-0.2~1.0 V范圍內(nèi),以100 mV/s 的掃速,繪制循環(huán)伏安圖。差分脈沖伏安法(DPV)起始電位和終止電位分別為-0.2 V和1.0 V。
對比圖2a與2b,可得褶皺的GO被PDA完全包覆。由圖2c可見,GO結(jié)構(gòu)很薄且表面及邊緣褶皺透明。C/N-Graphene(圖2d~f)結(jié)構(gòu)變厚且多層,厚度約50 nm。從圖3C可見GO含有大量的官能團(-COOH及-OH),包覆PDA后上述官能團減少,被還原為PDA-rGO,表面的-NH2基團為高溫煅燒制備C/N-Graphene提供豐富氮源。最佳碳化溫度可據(jù)元素分析圖(圖3A)選擇,隨煅燒溫度增加,C/N-Graphene碳化程度提高,C元素含量增加,然而N元素含量下降,而N元素摻雜在電化學(xué)催化過程中起重要作用,因此,最優(yōu)碳化溫度為800 ℃,C/N-Graphene碳化充分又保留充足的電活性元素N。
在含0.1 mmol/L HQ、CC和RC的0.1 mol/L PBS(pH=7.0)中,電極材料負載量對苯二酚同分異構(gòu)體的氧化電流影響明顯,結(jié)果如圖3(B)所示。C/N-Graphene -800-10與C/N-Graphene -800-5和C/N-Graphene -800-15相比,電流值最大,因為電極材料負載量低會導(dǎo)致氧化反應(yīng)不充分,負載量太多又會阻礙電極與材料表面氧化反應(yīng)的電子傳導(dǎo),因此最佳負載量10 μL。
不同材料修飾電極的電化學(xué)行為如圖4(A)所示,HQ、CC、RC在rGO/GCE上的響應(yīng)電流增加很小,只出現(xiàn)兩個氧化峰,HQ與CC的氧化峰重疊;當電極表面修飾 PDA-rGO后,峰電流稍有增大,但仍只出現(xiàn)兩個氧化峰,HQ與CC無法分開;當使用C/N-Graphene修飾電極,峰電流明顯增加,出現(xiàn)三個氧化峰,HQ與CC、CC與RC的峰位差分別為105 mV和528 mV,這說明HQ、CC、RC可被同時檢測。由阻抗圖譜(圖4(B))可得,C/N-Graphene的電阻值為28 Ω,與GO、PDA-rGO相比,導(dǎo)電性和電子傳導(dǎo)能力優(yōu)越,這歸因于石墨烯良好的導(dǎo)電性能,電活性氮的摻雜又進一步增強其導(dǎo)電性能,且提升電子轉(zhuǎn)移速率。
在含0.1 mmol/L的HQ、CC、RC的PBS中,在-0.2~1.0 V范圍內(nèi)進行循環(huán)伏安(CV)研究,探討掃描速率的影響,結(jié)果見圖5(A)。隨掃速的增加,氧化峰及還原峰電位分別向正電位和負電位偏移。HQ、CC和RC的氧化還原峰電流Ipc和Ipa的增加與掃速的平方根成正比,這表明電化學(xué)過程是一個典型的擴散控制過程。
pH值對HQ、CC、RC在C/N-Graphene電極上的電化學(xué)行為的影響見圖5(B)。在pH=4.0~9.0范圍內(nèi),峰電位隨pH值增大向負電位轉(zhuǎn)移,表明質(zhì)子參與電極反應(yīng)。由插圖可見,在pH=4.0~7.0范圍內(nèi),HQ、CC和RC的氧化峰電流隨pH值增大而增大,當pH=7.0~9.0,氧化峰電流隨pH增大而減小,因此選擇支持電解質(zhì)的pH=7.0。由HQ、CC和RC的線性回歸方程斜率可知這個反應(yīng)是一個等質(zhì)子等電子的過程。
應(yīng)用C/N-Graphene修飾電極在優(yōu)化條件下通過DPV法同時檢測HQ、CC和RC,結(jié)果如圖6所示。在保持另外兩種同分異構(gòu)體濃度10 mmol/L不變的條件下,逐漸增加待測異構(gòu)體濃度,待測異構(gòu)體的氧化峰電流和其濃度間存在線性關(guān)系,結(jié)果見表1。該方法相比其他碳基材料修飾電極,優(yōu)勢突出,可同時檢測苯二酚的3種同分異構(gòu)體,見表2。
表1 苯二酚同分異構(gòu)體測定的線性方程、線性范圍及檢測限
表2 碳基材料修飾電極檢測苯二酚同分異構(gòu)體
aN-CNT:Nitrogen-doped CNT;bOMC:Ordered mesoporous carbon.
將C/N-Graphene/GCE應(yīng)用于實際水樣中苯二酚同分異構(gòu)體的測定。從漳州市片仔癀藥廠廢水排放處取樣,取10 mL廢水,通過0.45 μm微孔濾膜過濾檢測,廢水中出現(xiàn)其他物質(zhì)的氧化峰,但苯二酚異構(gòu)體含量均低于檢測限,加標后可有效檢出,即廢水成分不干擾測定(圖7)。另取1 mL江水,同時適量添加苯二酚同分異構(gòu)體,配成10、20 μmol/L人工廢水,檢測結(jié)果見表3。方法的加標回收率為 97.0%~103.0%,RSD小于 5%(n=5),表明C/N-Graphene/GCE可用于實際樣品中苯二酚同分異構(gòu)體的檢測。
表3 江水及其加標液中苯二酚同分異構(gòu)體的檢測
本文通過綠色的合成方法制備PDA-rGO,在氮氣保護下,高溫煅燒制備C/N-Graphene復(fù)合材料,采用循環(huán)伏安法和差分脈沖伏安法對苯二酚3種同分異構(gòu)體在該修飾電極上的電化學(xué)行為進行研究。與PDA-rGO修飾電極比較,高溫碳化提高了電極材料的導(dǎo)電性;氮摻雜又顯著提高電極表面的電子傳遞速率;氮碳原子電負性不同,影響氮周圍碳原子的電子云分布及極性,進而影響電化學(xué)氧化動力學(xué)過程,從而對苯二酚同分異構(gòu)體的氧化反應(yīng)表現(xiàn)出高的電催化活性,提高了檢測的靈敏度和選擇性,檢測線性范圍寬、靈敏度高,可用于污染水樣的檢測。