鄭威+姜洪義+海鷗+李明+徐東
摘要: 采用溶膠凝膠浸漬提拉工藝在玻璃表面制備了雙層增透膜,該薄膜由折射率分別為1.12和1.33的兩層膜構(gòu)成。薄膜在380~1 100 nm和1 100~2 500 nm范圍內(nèi)平均透過率較空白玻璃分別提高了7.68%和4.39%。薄膜接觸角大約141°,且表層膜在2個月內(nèi)能保持較高的疏水效果。雙層增透膜制備方法簡單,在寬光譜耐環(huán)境減反射領(lǐng)域有一定的應(yīng)用潛力。
關(guān)鍵詞: 寬頻; 疏水; 溶膠凝膠; 增透膜
中圖分類號: O 484 文獻標志碼: A doi: 10.3969/j.issn.1005-5630.2016.05.013
文章編號: 1005-5630(2016)05-445-05
引 言
溶膠凝膠法制備納米多孔SiO2薄膜具有低成本、結(jié)構(gòu)可控、折射率可調(diào)及高激光損傷閥值特點,現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于光伏電池、太陽能集熱裝置及高能激光系統(tǒng)領(lǐng)域[1]。傳統(tǒng)的λ/4單層增透膜雖然峰值透過率最高可達99.5%,但只能在較窄波長范圍內(nèi)實現(xiàn)減反射,而雙層梯度折射率薄膜卻克服了上述缺點[2],因此對太陽能輻射(300~2 500 nm)光熱轉(zhuǎn)換及激光變頻轉(zhuǎn)換晶體增透提供了切實有效的解決思路。SiO2薄膜大多不具有疏水性,使用過程中極易吸附環(huán)境中的水汽,使薄膜孔隙率降低,影響增透效果。這就要求所制備的薄膜表面具有一定的疏水性,從而提高薄膜的使用壽命。
本文通過溶膠凝膠提拉浸漬方法制備了疏水雙層寬頻增透膜,該薄膜由折射率較低的疏水表層和折射率較高的底層構(gòu)成。
1 實驗部分
1.1 疏水溶膠的制備
將7 mL正硅酸乙酯(TEOS)、2.2 mL二甲基二乙氧基硅烷(DDS)加入到90 mL乙醇中,并于磁力攪拌器中攪拌10 min,再將混有0.6 mL濃氨水、2.4 mL去離子水和8 mL乙醇的溶液逐滴加入到上述溶液中去,滴加完畢后于30 ℃反應(yīng)90 min。將所得溶膠裝入玻璃容器內(nèi),于室溫下老化12 d。最后加入3 mL的六甲基二氮硅烷(HMDS),繼續(xù)反應(yīng)7 d后待用。
1.2 堿/酸兩步混合溶膠的制備
將20 mLTEOS、196 mL乙醇、4.8 mL去離子水、1.2 mL濃氨水混合均勻后于30 ℃反應(yīng)90 min,所得溶膠室溫下老化12 d,80 ℃回流除氨并用0.22 μm聚四氟乙烯膜過濾得溶膠Sol1。將20 mLTEOS、196 mL乙醇、6.4 mL去離子水、0.03 mL濃鹽酸混合均勻后于30 ℃反應(yīng)90 min,所得溶膠室溫下老化12 d后得溶膠Sol2。按照V(Sol1)/V(Sol2)=7/3混合后得到待用溶膠Sol3。
1.3 SiO2增透膜的制備
將清洗干凈的普通載玻片或單晶硅片烘干后,用無塵布擦拭干凈。在25 ℃且相對濕度不超過50%的無塵室中,將基片浸漬于溶膠中并以10 cm/min的速度提拉鍍膜,待薄膜穩(wěn)定10 mim后,將其置于馬弗爐中于100 ℃熱處理2 h,自然冷卻至室溫。制備雙層膜時,基片依次鍍底層和表層,最后于100 ℃熱處理2 h,自然冷卻至室溫。
1.4 增透膜的表征
薄膜折射率用橢偏儀(M-2000 V)測得(633 nm處);紅外特性采用傅里葉紅外光譜儀(Nicolet6700),溴化鉀壓片測試;透過率用紫外可見近紅外分光光度計(Lambda750 S型)測得;接觸角用視頻接觸角測試儀(JY-82 B)測量(水滴5 μL,測量時選3個不同位置取平均值)。場發(fā)射掃描電子顯微鏡(Zeiss Ultra Plus)測試薄膜斷面形貌。
2 結(jié)果與討論
2.1 增透膜的折射率
圖1是疏水表層薄膜的色散曲線圖,圖2是堿酸混合底層薄膜折射率隨酸催化溶膠體積變化圖。
從圖1可以看出,薄膜的折射率非常低,633 nm處薄膜折射率為1.121 34,這是因為DDS的添加使甲基引入到SiO2網(wǎng)絡(luò)簇團內(nèi)部,溶膠顆粒的不可逆收縮會因DDS自縮聚產(chǎn)物的“彈性效應(yīng)”降低[3],六甲基二硅氮烷(HMDS)修飾使顆粒表面引入了-Si(CH3)3,這不僅避免了毗鄰溶膠顆粒之間的縮聚反應(yīng),而且降低了顆粒表面能,熱處理時減少了因表面張力引起的氣孔塌陷,使薄膜氣孔率增大[4]。堿催化SiO2增透膜孔隙率可以由Lorentz-Lorenz公式計算,即ρ=1-n2-1n2d-1,其中ρ是氣孔率,n為薄膜折射率,nd是致密SiO2材料折射率,計算表層薄膜孔隙率約77%,為多孔結(jié)構(gòu)。從圖2可以看出,當酸催化溶膠體積分數(shù)超過10%,混合薄膜折射率先增加后保持不變。這種現(xiàn)象可以解釋為:堿性催化條件下形成的SiO2粒子為球形,酸催化條件下形成的是線性鏈狀聚合物[5]。將兩種溶膠混合成膜時,這些球形顆粒相互之間存在大量的孔隙,鏈狀的SiO2會填充在這些孔隙中,致使薄膜孔隙率降低,折射率增大[6]。沈軍等發(fā)現(xiàn),通過不同酸堿溶膠體積混合制備的薄膜,其折射率可以連續(xù)可調(diào)[5]。對應(yīng)本實驗體積分數(shù)在10%~50%之間,薄膜的折射率與酸催化體積含量能呈現(xiàn)較好的線性關(guān)系,這對于制備折射率可調(diào)薄膜具有借鑒意義。當酸催化體積分數(shù)超過50%,折射率增大趨勢減弱,薄膜折射率接近致密材料,這說明此時的SiO2顆粒之間的孔隙基本被填充。
2.2 增透膜的透過率
圖3是疏水表層和堿/酸催化底層薄膜透過率曲線圖。兩種薄膜的峰值透過率分別是96.73%和98.89%。在可見光范圍內(nèi)后者的增透效果始終好于前者。因此這種堿/酸混合催化所制備的薄膜可用于太陽能光伏玻璃表面,同時,因酸催化溶膠的加入,會使得原來球形顆粒堆積的膜層機械強度增加。眾所周知,要想獲得理想的增透效果,薄膜折射率需要滿足n=ns1/2,即1.22。然而疏水膜層的折射率低于這個值,因此透過率較低,不適合單獨使用。通過計算得知,表層薄膜在380~1 100 nm和1 100~2 500 nm范圍內(nèi)平均透過率較基底分別提高了4.4%和1.55%(底層是5.6%,1.54%)。因此該薄膜只在較窄的波段內(nèi)有一定的增透,而在紅外波段增透有限。所以可以將兩者設(shè)計成雙層寬頻增透膜,低折射率疏水膜層作為表層,具有一定機械強度的高折射率膜層作為底層,實現(xiàn)折射率的梯度變化。
2.3 表層薄膜的疏水性
圖4是曝露于濕度為90%,溫度為25 ℃環(huán)境2個月的疏水表層薄膜接觸角隨時間的變化圖。圖5是將疏水溶膠蒸發(fā)得到的粉末經(jīng)干燥后測得的紅外圖譜。從圖4可以看出,傳統(tǒng)堿催化SiO2薄膜的接觸角在10 d之后突然增大并保持不變。這可能是因為薄膜中極性溶劑的揮發(fā)[7],以及溫、濕環(huán)境使SiO2薄膜表面發(fā)生了潮解破壞,玻璃基底霉變,使接觸角增大。疏水膜層接觸角隨時間的變化先略微降低后不變,這是因為TEOS與DDS發(fā)生共水解縮聚反應(yīng),疏水基團不僅存在于膜層顆粒表面,而且存在于SiO2顆粒網(wǎng)絡(luò)內(nèi)部,膜層表面的疏水基團部分受到水分子破壞而脫離表面,但存在于網(wǎng)絡(luò)內(nèi)部的疏水基團卻不易受到破壞[8],所以薄膜的接觸角能保持在較高值。
圖5是疏水表層和正硅酸乙酯堿催化薄膜的紅外圖譜。3 439 cm-1、958 cm-1、1 638 cm-1附近的吸收峰代表-OH基團的反對稱伸縮振動和伸縮振動,1 086 cm-1、796 cm-1和456 cm-1附近的吸收峰分別對應(yīng)著Si-O-Si鍵的反對稱伸縮、對稱伸縮和彎曲振動[9]。在疏水膜層中,2 970 cm-1、1 266 cm-1及850 cm-1的吸收峰可以歸為甲基的吸收,前者對應(yīng)著C-H伸縮和彎曲振動,后者對應(yīng)Si-C的伸縮振動[10-11]。圖中還有一吸收峰出現(xiàn)在758 cm-1,該峰是Si-(CH3)3的吸收峰,表明三甲基成功引入到納米顆粒表面。通過對比發(fā)現(xiàn),3 439 cm-1Si-OH吸收峰變寬,減弱,說明疏水甲基的引入使膜層中親水性羥基數(shù)量減少,膜層疏水性增加。
2.4 疏水雙層寬頻增透膜
圖6是疏水雙層寬頻增透膜透過率曲線,從圖中可以看出,該薄膜在紅外波段透過率明顯提高,在380~1 100 nm和1 100~2 500 nm范圍內(nèi)較基底分別提高了7.68%,4.39%。圖7是薄膜接觸角大小,可見薄膜具有比較強的疏水效果,這歸結(jié)于DDS和HMDS兩種含甲基疏水劑的共同修飾。圖8是雙層膜斷面的掃描電鏡圖,從圖中可以看出,薄膜厚度大約200 nm,由近似球形的納米顆粒組成,且結(jié)構(gòu)較疏松。與基底相比,薄膜區(qū)域較為明亮,這一點與其為多孔結(jié)構(gòu)相一致[12]。
3 結(jié) 論
本文通過溶膠凝膠法制備了玻璃表面疏水雙層寬頻增透膜,和普通玻璃透過率相比,該薄膜在380~1 100 nm和1 100~2 500 nm范圍內(nèi)平均透過率分別提高了7.68%,4.39%,接觸角約141°。該薄膜制備方法簡單,成本低廉,可為進一步的研究提供參考。
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