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EAST-NBI 離子源電極打火分析及處理

2017-11-21 03:32:58許永建謝亞紅蔣才超梁立振胡純棟
核技術(shù) 2017年11期
關(guān)鍵詞:二次電子離子源溫升

許永建 張 黎,2 謝亞紅 蔣才超,2 梁立振 胡純棟

1(中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所 合肥 230031)2(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 合肥 230026)

EAST-NBI 離子源電極打火分析及處理

許永建1張 黎1,2謝亞紅1蔣才超1,2梁立振1胡純棟1

1(中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所 合肥 230031)2(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 合肥 230026)

強(qiáng)流離子源是 EAST (Experimental Advanced Superconducting Tokamak)中性束注入器(Neutral Beam Injector, NBI)最關(guān)鍵的核心部件,其能達(dá)到的性能在很大程度上決定了EAST中性束注入器所能達(dá)到的指標(biāo)。離子源在束引出時(shí)電極打火現(xiàn)象偶有發(fā)生,這對(duì)于離子源的正常運(yùn)行有非常嚴(yán)重的影響,甚至危害離子源的壽命。本文結(jié)合離子源運(yùn)行過(guò)程中的束引出實(shí)驗(yàn)波形和水流量熱計(jì)(Water Flow Calorimetry, WFC)系統(tǒng)的測(cè)量數(shù)據(jù)得出等離子體發(fā)射面的束流光學(xué)系統(tǒng)一直處于非最佳聚焦?fàn)顟B(tài)是導(dǎo)致打火的原因,試通過(guò)優(yōu)化高壓投入時(shí)刻等離子體與高壓的匹配,實(shí)現(xiàn)高壓的穩(wěn)定投入有效抑制打火現(xiàn)象的發(fā)生,并且給離子源加入硬件保護(hù)機(jī)制,為離子源安全穩(wěn)定運(yùn)行奠定基礎(chǔ)。

離子源,束引出,電極打火,水流量熱計(jì)

在核聚變實(shí)驗(yàn)研究中,中性束注入加熱(Neutral Beam Injection, NBI)是4種輔助加熱手段中加熱效率最高、物理機(jī)制最清楚的手段[1?6]。在 EAST(Experimental Advanced Superconducting Tokamak)磁約束實(shí)驗(yàn)裝置上,設(shè)計(jì)兩條中性束注入系統(tǒng),分別為位于A窗口同向注入的NBI-1和F窗口反向注入的 NBI-2。兩套 NBI裝置的設(shè)計(jì)束能量為 50?80keV,束功率為2?4 MW,束脈寬為10?100 s。

為獲得良好束參數(shù)的離子源,每臺(tái)離子源在安裝到EAST-NBI系統(tǒng)前,需要在NBI測(cè)試臺(tái)上進(jìn)行鍛煉測(cè)試。每臺(tái)離子源需要達(dá)到50 kV/100 s的長(zhǎng)脈沖調(diào)制束引出和4 MW/1 s的高功率束引出[7?8]。在2015年的EAST物理實(shí)驗(yàn)中,首次實(shí)現(xiàn)了兩套NBI系統(tǒng)協(xié)同加熱等離子體,并取得了很好的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

強(qiáng)流離子源是NBI系統(tǒng)中最精密的部件,在離子源運(yùn)行過(guò)程中,引出電極打火現(xiàn)象偶有發(fā)生,尤其當(dāng)?shù)入x子體放電參數(shù)和束引出電壓不匹配時(shí),束光學(xué)特性較差,打火現(xiàn)象會(huì)頻繁發(fā)生[9]。此時(shí),束電極因雜散束的轟擊會(huì)造成其溫升異常,嚴(yán)重時(shí)可能引起電極損壞而漏水,造成整個(gè)NBI系統(tǒng)無(wú)法工作,帶來(lái)巨大的損失。本文針對(duì)以上所提引起NBI發(fā)生打火的相關(guān)因素,結(jié)合相關(guān)的診斷手段,研究離子源發(fā)生打火的原因,為離子源的運(yùn)行提供更加準(zhǔn)確的指導(dǎo),確保離子源的安全穩(wěn)定運(yùn)行。

1 離子源結(jié)構(gòu)介紹

NBI系統(tǒng)的主要部件為:強(qiáng)流離子源、束傳輸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、束診斷系統(tǒng)、真空抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等。其中,離子源是NBI系統(tǒng)中最重要的核心部件,也是最精密的部件。NBI強(qiáng)流離子源主要由兩大部分組成:一是用于產(chǎn)生大體積、穩(wěn)定、均勻的高密度等離子體的等離子體發(fā)生器;二是用于引出等離子體中的離子以形成高能離子束的大面積多縫束引出系統(tǒng)(圖1)。等離子體發(fā)生器包含了放電室(也稱弧室)、作為放電陰極產(chǎn)生初始電子的燈絲、形成會(huì)切磁場(chǎng)用于約束初始電子和等離子體的永久磁體、作為放電陽(yáng)極的反向電子吸收板等。束引出系統(tǒng)的作用是引出等離子體中的離子以形成高能離子束,其由4層電極形成的靜電引出加速系統(tǒng)組成,分別是等離子體電極(Plasma Grid,PG)、梯度電極(Gradient Grid, GG)、抑制電極(Suppressor Grid, SG)和地電極(Exit Grid, EG)。

水流量熱計(jì)(Water Flow Calorimetry, WFC)診斷是中性束注入系統(tǒng)中對(duì)束線運(yùn)行過(guò)程中引出束在各部件上的能量沉積進(jìn)行測(cè)量的一種通用手段[10]。它通過(guò)測(cè)量流經(jīng)各待測(cè)部件的冷卻水流量及冷卻水進(jìn)回水溫差,計(jì)算出各待測(cè)部件上的能量沉積,根據(jù)計(jì)算結(jié)果可確定束功率沉積分布。離子源的各引出電極均有水冷卻管路,通過(guò)測(cè)量各層電極的進(jìn)回冷卻水溫升,可以推測(cè)離子源在引出離子束時(shí)的運(yùn)行情況。

圖1 EAST-NBI離子源原理結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1 Sketch of EAST-NBI ion source.

2 離子源束引出物理模型分析

理想平面二極管是束引出系統(tǒng)(三電極或四電極)的理論基礎(chǔ),束聚焦類似于膜孔透鏡原理。對(duì)于縫形的孔欄,膜孔的焦距可用式(1)表示(Davisson-Calbick)[11]:

式中:V是孔欄的電壓;E1和E2分別是孔欄左邊和右邊的場(chǎng)強(qiáng)。對(duì)于引出系統(tǒng)的第一電極,與等離子體接觸,等離子體中電子和離子向電極運(yùn)動(dòng),并形成單鞘層。鞘層的形成即決定了其電場(chǎng)E2的大小。電極右邊的電場(chǎng) E2由第一電極和第二電極間的電位差決定,可通過(guò)調(diào)節(jié)兩電極間的電位差來(lái)調(diào)節(jié)引出束的焦距。等離子體第一電極對(duì)于引出束的發(fā)散角有重要的影響,一般根據(jù)等離子體的放電狀態(tài)調(diào)節(jié)電極的電位來(lái)調(diào)節(jié)束的發(fā)射面,如圖2所示。

圖2 束引出時(shí)的聚焦情況(a) 欠聚焦,(b) 最佳聚焦,(c) 過(guò)聚焦Fig.2 Types of beam focusing.(a) Under-focus, (b) Optimum focus, (c) Over-focus

在束引出過(guò)程中,引出電壓是一定的,當(dāng)?shù)入x子體密度保持恒定時(shí),假設(shè)此時(shí)為最佳引出電壓V*。當(dāng)且只有在引出電壓 V與 V*相等時(shí),束流光學(xué)系統(tǒng)達(dá)到最佳匹配狀態(tài),使發(fā)射面形成最佳聚焦位置,引出束散角最?。▓D2(b))。當(dāng)引出電壓與最佳電壓不相等時(shí),束引出過(guò)程的聚焦情況主要分為兩個(gè)過(guò)程:當(dāng) V<V*時(shí),等離子體密度相對(duì)過(guò)大,發(fā)射面呈凸?fàn)?,形成欠聚焦,如圖2(a)所示;反之,V>V*時(shí),等離子體密度相對(duì)過(guò)小,發(fā)射面呈凹狀,形成過(guò)聚焦,如圖2(c)所示[12]。分析可知,當(dāng)束引出時(shí)呈過(guò)聚焦或欠聚焦時(shí),引出束的發(fā)散束會(huì)打在電極上,同時(shí)產(chǎn)生較多的二次電子,如圖3所示。

圖3 束引出過(guò)程中離子與電極的碰撞示意圖Fig.3 Schematic diagram of collision between ions(electron) and grids.

束引出過(guò)程中,各加速電極溫升原因(圖 3)如下:1) 對(duì)于 PG,它的溫升來(lái)源于弧室內(nèi)的等離子體的熱量沉積,以及加速離子與GG碰撞產(chǎn)生的二次電子反向加速轟擊產(chǎn)生的熱量沉積;2) 對(duì)于GG,熱量沉積主要是加速離子的碰撞以及加速離子與 SG碰撞產(chǎn)生的二次電子反向加速后的轟擊;3)對(duì)于 SG,熱量沉積主要來(lái)自于發(fā)散加速離子的轟擊;4) 對(duì)于EG,主要的溫升來(lái)自于加速離子對(duì)它的轟擊[13]。因此,各加速電極溫升明顯異常是因?yàn)榇蛟诟麟姌O上的加速離子和加速離子與電極碰撞產(chǎn)生的二次電子急劇增多造成的。在離子源異常運(yùn)行情況下,帶電粒子轟擊電極會(huì)造成其溫升異常,利用 WFC診斷系統(tǒng)可以定性判斷電極溫升異常的區(qū)域,為研究離子源發(fā)生打火的原因給予定性的分析。

3 實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象分析與處理

在一系列中性束注入實(shí)驗(yàn)中,偶有電極打火現(xiàn)象發(fā)生,本文選取了電極溫升異常的一炮(炮號(hào):7801),并選取了初始設(shè)定參數(shù)相同且正常束引出的7799炮作對(duì)比,通過(guò)研究?jī)膳诘碾姌O溫升差異,得出其離子源運(yùn)行異常的可能原因。兩炮的離子源運(yùn)行參數(shù)由表1給出,圖4給出了束引出時(shí)相關(guān)參數(shù)的波形圖。

由表1可知,在離子源初始設(shè)置參數(shù)幾乎完全一致的條件下,7801和7799這兩炮的實(shí)測(cè)參數(shù)值的燈絲電壓、弧流、高壓電流和抑制極電流有差異,兩者的設(shè)定脈沖均為3 s,但在實(shí)際束引出過(guò)程中,炮號(hào)為7801的在束加載期間出現(xiàn)參數(shù)不匹配,從而導(dǎo)致束發(fā)散,雜散束會(huì)轟擊到引出電極上,產(chǎn)生二次電子并反向加速轟擊電極造成更差的束光學(xué)。圖4為束引出過(guò)程的實(shí)驗(yàn)波形圖,由圖 4(a)可清楚看到整個(gè)放電過(guò)程中兩炮參數(shù)的變化情況:在起弧階段,兩炮的參數(shù)沒有明顯的區(qū)別,但在束引出即加上高壓后,7801炮的抑制極電流約是7799炮的4倍,它的高壓電流峰值也達(dá)到了近100 A,高壓電流過(guò)流保護(hù)中止束運(yùn)行,該炮僅持續(xù)了0.3 s。圖4(b)為束引出瞬間放電波形的局部放大圖,可以看出,在引出瞬間,7801炮的弧流明顯高于7799炮,且它的探針電流所達(dá)到的最小值明顯比 7799炮小很多,并且在探針電流趨于穩(wěn)定時(shí),7801炮的數(shù)值也明顯較高。

表1 離子源的運(yùn)行參數(shù)Table 1 The operating parameters of ion source.

圖4 束引出的實(shí)驗(yàn)波形 (a) 各參數(shù)的放電波形圖,(b) 引出瞬間局部放大圖Fig.4 The waveforms of beam extraction. (a) The electrical parameters of beam extraction, (b) Local amplification of electrical parameters of beam extraction

為進(jìn)一步分析造成電極打火的原因,利用WFC測(cè)得的數(shù)據(jù)對(duì)束引出過(guò)程中各加速電極的溫升進(jìn)行分析。在束引出過(guò)程中,用WFC系統(tǒng)采集到的7799炮與7801炮的電極溫升情況如圖5所示:1) 在正常情況下,PG溫升最高,EG溫升最小且沒有超過(guò)1 oC;2) 在打火時(shí),除等離子體電極外,其他三個(gè)電極的溫升都明顯異常,尤其是 EG,它的溫升約為PG的三倍;3) 在實(shí)測(cè)的溫升圖中可以明顯看出打火炮的 SG溫升比正常炮的要高出很多,與表 1中的抑制極電流較高相互驗(yàn)證。

為進(jìn)一步分析在束引出時(shí)的打火情況,研究束引出瞬間的各參數(shù)變化情況(圖4(b))。在束引出初始階段,兩炮的探針電流變化和抑制極電流變化一致,7801炮的探針電流本應(yīng)在下降到一定時(shí)跟7799炮一樣上升,但其探針電流卻繼續(xù)下降到更低點(diǎn),在達(dá)到最低點(diǎn)時(shí),7801炮的抑制極電流卻急劇變大,這是因?yàn)榈入x子體密度過(guò)小導(dǎo)致等離子體發(fā)射面呈凹狀形成過(guò)聚焦導(dǎo)致的。與此同時(shí),過(guò)聚焦使束打在電極上的離子增多,產(chǎn)生更多的二次電子經(jīng)反向加速進(jìn)入弧室,使放電室電離度進(jìn)一步增加,等離子體密度升高。等離子體密度過(guò)大導(dǎo)致發(fā)射面呈凸?fàn)钚纬汕肪劢?,離子源無(wú)法建立一個(gè)穩(wěn)定的束流光學(xué)狀態(tài)。從圖4中可以看出,異常炮的探針信號(hào)在后期始終高于正常炮,導(dǎo)致束流光學(xué)系統(tǒng)一直處于欠聚焦?fàn)顟B(tài),最終導(dǎo)致電極間打火,放電終止。

圖5 EAST-NBI離子源各加速電極的溫升Fig.5 The cooling water temperature rise of accelerating electrodes.

4 討論和結(jié)語(yǔ)

本文通過(guò)對(duì)束引出初期的束光學(xué)及束流在引出電極上的熱量沉積分析,結(jié)合7799炮和7801炮的束引出波形和 WFC數(shù)據(jù),研究了離子源打火過(guò)程中的主要過(guò)程。在束建立初期等離子體密度過(guò)低導(dǎo)致束過(guò)聚焦,過(guò)聚焦使打在電極上的加速離子增多產(chǎn)生更多的二次電子進(jìn)入弧室,放電室內(nèi)的電離度增加導(dǎo)致其等離子體密度較高形成欠聚焦且一直處于此狀態(tài)。在束引出前,正常炮與異常炮無(wú)明顯區(qū)別,但在束引出瞬間即加上高壓后,7801炮的參數(shù)波形較 7799炮發(fā)生了明顯變化,說(shuō)明高壓投入期間,高壓的上升和密度的上升不匹配,使得離子源運(yùn)行參數(shù)發(fā)生了異常變化導(dǎo)致電極打火。為了避免這樣的情況出現(xiàn),需優(yōu)化高壓投入時(shí)刻等離子體與高壓的匹配,降低外界對(duì)離子源運(yùn)行參數(shù)的干擾,從而實(shí)現(xiàn)高壓的穩(wěn)定投入。由于離子源打火無(wú)法避免,為了盡可能地降低打火對(duì)離子源電極的損傷,考慮為離子源加入硬件保護(hù)機(jī)制,如在抑制極回路中加入di/dt保護(hù)模塊并設(shè)定保護(hù)閾值,當(dāng)電流突變超過(guò)閾值,切斷高壓終止束引出,以免對(duì)離子源電極產(chǎn)生損害。

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Analysis and processing of breakdown of ion source for EAST neutral beam injector

XU Yongjian1ZHANG Li1,2XIE Yahong1JIANG Caichao1,2LIANG Lizhen1HU Chundong1
1(Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei 230031, China)
2(University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China)

Background: The high current ion source is a key component of neutral beam injector, and its reachable performance determines the achievable targets of the experimental advanced superconducting tokamak (EAST)neutral beam injector (NBI). Electrode breakdown of ion source happens occasionally during the beam extraction,which has a very serious impact on the normal operation of ion source and even endangers the life of the ion source.Purpose: This paper aims to analyze the reason of breakdown and propose improvement measures. Methods: The waveforms of beam extraction and the data of water flow calorimetry (WFC) of the abnormal shot of 7801 and normal shot of 7799 were studied. Results: The analysis shows that the cause of breakdown is the dual effect of over-focus and under-focus of extraction beam. Optimizing the matching of the plasma and the high pressure can effectively reduce the phenomenon of breakdown, and in order to protect ion source, a hardware protection mechanism is added. Conclusion: The analysis results lay a foundation for the safe and stable operation of ion source.

Ion source, Beam extraction, Electrode breakdown, Water flow calorimetry

XU Yongjian, male, born in 1977, graduated from Graduate University of Chinese Academy of Sciences with a doctoral degree in 2009,

XIE Yahong, E-mail: xieyh@ipp.ac.cn

date: 2017-02-24, accepted date: 2017-06-07

TL65+4

10.11889/j.0253-3219.2017.hjs.40.110603

國(guó)家自然科學(xué)基金(No.11405207、No.11675215)、中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所基金(No.DSJJ-15-GC03)資助

許永建,男,1977年出生,2009年于中國(guó)科學(xué)院研究生院獲博士學(xué)位,現(xiàn)為副研究員,主要從事中性束診斷及實(shí)驗(yàn)研究

謝亞紅,E-mail: xieyh@ipp.ac.cn

2017-02-24,

2017-06-07

Supported by National Natural Science Foundation of China (No.11405207, No.11675215), Institute of Plasma Physics Foundation of Chinese Academy of Sciences (No.DSJJ-15-GC03)

associate research fellow, focusing on neutral beam diagnosis and experimental research

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