陳紹軍,涂華錦,王凌云
(河源職業(yè)技術(shù)學(xué)院 機(jī)電工程學(xué)院,廣東 河源 517000)
硝基芳香族化合物(nitroaromatic compounds,NACs)是指芳香苯環(huán)上帶有一個(gè)或多個(gè)硝基的一類有機(jī)物.這些有機(jī)化合物往往都具有高的爆炸特性,對(duì)環(huán)境和人們的生產(chǎn)、生活帶來危險(xiǎn)[1].在環(huán)境當(dāng)中較低的濃度要求對(duì)其檢測(cè)必須采用靈敏的檢測(cè)技術(shù).多種分析、分離方法已被用來檢測(cè)存在氣相或液相中痕量的爆炸物分子,例如氣相色譜法[2]、化學(xué)發(fā)光法[3]、熒光光譜法[4]、表面等離子共振[5]、電化學(xué)方法[6]等.與其他檢測(cè)方法相比較,電化學(xué)檢測(cè)方法具有一定的優(yōu)勢(shì),例如儀器設(shè)備簡(jiǎn)單,易于構(gòu)建成廉價(jià)、便攜式的檢測(cè)器,另外所使用的電極可以選擇性修飾多種材料以使待測(cè)目標(biāo)分子(如NACs分子)選擇性吸附或富集在化學(xué)修飾電極表面,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)痕量分子的快速、靈敏檢測(cè).
石墨烯是具有大離域π電子結(jié)構(gòu)一種新型碳納米材料,具有優(yōu)異的電子傳導(dǎo)性能和高比表面積特性[7],因此在檢測(cè)具有苯環(huán)結(jié)構(gòu)的有機(jī)分子方面優(yōu)勢(shì)明顯[8].我們選擇間二硝基苯為爆炸物分子的代表分析物,探討了間二硝基苯在石墨烯膜表面的電化學(xué)行為.
所有有關(guān)測(cè)試在CHI650 E電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司)上完成.以清洗后的玻碳電極為工作電極,飽和甘汞電極為參比電極,Pt絲電極為對(duì)電極的三電極體系進(jìn)行電化學(xué)信號(hào)采集.采用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(EVOLS-15,德國(guó)蔡司公司)對(duì)電化學(xué)還原石墨烯形貌結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征. KQ218型超聲波清洗器,昆山市超聲儀器有限公司;TGL-16B型超高速離心機(jī),上海安亭科學(xué)儀器廠生產(chǎn),用來離心制備氧化石墨.
天然石墨粉(99.99% ,100目),Alfa Aesar Company, Ward Hill, MA;鐵氰化鉀(AR),鄭州德眾化學(xué)試劑廠;間二硝基苯(GC,≥99%),aladdin,shanghai, China;氯化鈉,天津市科密歐化學(xué)試劑有限公司;其他試劑均為分析純.實(shí)驗(yàn)用水為二次去離子蒸餾水.間二硝基苯溶于乙腈中配成1 mg·mL-1儲(chǔ)備液,測(cè)試過程中用0.5 mol·L-1氯化鈉溶液稀釋到所需濃度.實(shí)驗(yàn)均在室溫下進(jìn)行.實(shí)驗(yàn)前向溶液中通入高純氬氣20 min,以驅(qū)除溶液中溶解的氧氣.
移取10 mL分散均勻的氧化石墨烯水溶液涂到經(jīng)過預(yù)處理的玻碳電極表面,放在紅外燈下將修飾電極烘干.以0.5 mol·L-1KCl溶液為電解質(zhì)溶液,采用三電極體系,在-1.8 V恒定電位下,將干燥處理后的氧化石墨烯修飾電極還原10 min,就可制得電化學(xué)還原石墨烯修飾電極[9].
圖1是電還原石墨烯在不同放大倍率下的電鏡掃描圖像.可以看出,薄層狀的電還原石墨烯表面具有高低不平的褶皺,這正是石墨烯的特征形貌結(jié)構(gòu),具有較大比表面積的層狀褶皺結(jié)構(gòu),能夠?yàn)榇郎y(cè)分子提供一個(gè)良好的吸附界面,進(jìn)而提高檢測(cè)NACs分子的靈敏度.
注:A(×7 000倍),B(×3 400倍)圖1 電還原石墨烯在不同放大倍數(shù)下的掃描電鏡圖(SEM)
注:a為石墨烯修飾電極,b為裸玻碳電極圖2 電極在10 mmol·L-1鐵氰化鉀溶液中伏安掃描圖
以0.1 mol·L-1硝酸鉀為支持電解質(zhì),在10 mmol·L-1鐵氰化鉀探針分子溶液中,進(jìn)行循環(huán)伏安掃描,對(duì)比修飾前后電極的電化學(xué)性能變化,如圖2所示.和裸玻碳電極相比,[Fe(CN)6]3-分子在石墨烯修飾電極上的特征氧化還原峰電流明顯增強(qiáng),表明修飾的石墨烯膜材料大大改善了裸玻碳電極的電化學(xué)性能,活性分子和電極之間的電子傳遞速率明顯加快,這可能是由于石墨烯優(yōu)良的電子傳導(dǎo)性能.因此,石墨烯碳電極對(duì)提高NACs分子的電催化還原活性有所幫助.
選擇在0 V富集電位下[10],考察了富集時(shí)間對(duì)間二硝基苯的還原峰電流的影響,如圖3所示.當(dāng)富集時(shí)間從60 s逐漸增大到540 s時(shí),還原峰電流隨富集時(shí)間的增加而逐漸增大,并且電位負(fù)移.圖4是選擇-0.69 V電位處間二硝基苯的還原峰電流和富集時(shí)間的關(guān)系曲線.可以看出,在400 s前,還原峰電流隨富集時(shí)間的增加迅速升高;在420~540 s時(shí),峰電流達(dá)到峰值且?guī)缀醣3植蛔?,表明此時(shí)石墨烯電極表面的間二硝基苯的吸附量達(dá)到飽和.為了適時(shí)考慮檢測(cè)速度和靈敏度,因此在后面的檢測(cè)實(shí)驗(yàn)中選擇180 s作為富集時(shí)間.
圖3 石墨烯膜電極在不同富集時(shí)間下的溶出伏安曲線圖
圖4 富集時(shí)間與間二硝基苯還原峰電流的關(guān)系曲線
注:a為裸玻碳電極,b為石墨烯電極圖5 電極在1.19×10-5 mol·L-1間二硝基苯溶液中的伏安曲線圖
裸玻碳電極(a)和石墨烯修飾電極(b)在物質(zhì)的量濃度為1.2×10-5mol·L-1的間二硝基苯溶液中線性掃描伏安曲線如圖5.在相同濃度條件下,間二硝基苯在裸玻碳電極上還原峰電流很小,與石墨烯電極的響應(yīng)曲線疊加后,幾乎看不到還原峰(單獨(dú)顯示還有),而石墨烯修飾電極在間二硝基苯溶液中有兩個(gè)明顯的陰極還原峰.這說明制備的還原石墨烯對(duì)間二硝基苯具有較好的催化活性.石墨烯膜層經(jīng)過修飾后,改變了裸玻碳電極原有的電化學(xué)性能.
為考察間二硝基苯在石墨烯電極材料表面的電化學(xué)反應(yīng)特性.在0.1~0.5 v·s-1的范圍內(nèi)改變掃描速率觀察間二硝基苯在電極上的還原峰電流的變化.如圖6所示,兩個(gè)還原峰電流隨著電位掃描速率的增加而變大.以還原峰電流和掃描速率的一次方做圖,如圖7所示,還原峰電流與掃描速率的一次方形成較好的線性關(guān)系,其相關(guān)性系數(shù)(R2)為0.994 8,這表明間二硝基苯分子在石墨烯電極上的電催化還原反應(yīng)是一個(gè)表面控制過程.
圖6 間二硝基苯在不同掃速下的溶出伏安曲線
圖7 還原峰電流和掃描速率的線性關(guān)系圖
在最優(yōu)實(shí)驗(yàn)條件下,采用溶出伏安測(cè)試技術(shù)在電化學(xué)還原石墨烯電極上檢測(cè)了不同濃度的間二硝基苯.如圖8所示,當(dāng)間二硝基苯的濃度逐漸增加時(shí),其對(duì)應(yīng)的兩個(gè)還原峰電流也逐漸增大.選取間二硝基苯在-0.69 V電位處的還原峰電流與其對(duì)應(yīng)濃度作圖,如圖9所示,在濃度0.01~0.05 mg·mL-1內(nèi),間二硝基苯的還原峰電流與其濃度之間呈現(xiàn)良好的線性關(guān)系,其回歸方程的相關(guān)性系數(shù)(R2)為0.990 3,檢出限可達(dá)6×10-3mg·mL-1(S/N=3).
圖8 不同濃度下,間二硝基苯在石墨烯電極上單掃描伏安曲線圖
圖9 濃度與還原峰電流關(guān)系
電化學(xué)還原技術(shù)制備的還原石墨烯材料具有優(yōu)異的電化學(xué)性能.探討了間二硝基苯在還原石墨烯修飾電極上的電化學(xué)反應(yīng)特性,以及富集電位、富集時(shí)間等條件對(duì)間二硝基苯還原峰電流的影響.結(jié)果表明:石墨烯對(duì)爆炸性間二硝基苯分子表現(xiàn)出優(yōu)異的電催化還原活性,實(shí)現(xiàn)了對(duì)間二硝基苯的靈敏、快速檢測(cè);有望應(yīng)用于爆炸性NACs化合物的電化學(xué)檢測(cè).
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