于宏偉 翟桂君 張雨萱 栗亞釗 劉昊雨 劉逸波/石家莊學院化工學院
二甲基硅油是一類重要的高分子有機硅材料[1],具有生理惰性、潤滑性、良好的化學穩(wěn)定性及電絕緣性等特點,廣泛應用在電氣工程[2]、建筑[3]、臨床醫(yī)學[4]等領域。二甲基硅油可在-50~200 ℃下長期使用,而具有優(yōu)良的物理特性。過高的使用溫度,則會加速二甲基硅油的氧化,相關研究少見報道。因此,本文采用IR光譜及TD-IR光譜在30~250 ℃(303~523 K)深入開展了二甲基硅油分子結構及熱穩(wěn)定性的影響,為二甲基硅油的改性研究,提供了有意義的科學借鑒。
二甲基硅油(分析純,天津市博迪化工有限公司)。
Spectrum 100型中紅外光譜儀(美國PE公司);Golden Gate型ATR-FTIR變溫附件(英國Specac公司);WEST 6100+ 型 ATR-FTIR 變溫控件(英國Specac公司)。
1.3.1 紅外光譜儀操作條件
以空氣為背景,每次實驗對于二甲基硅油樣品信號進行8次掃描累加;測溫范圍303 ~523 K,變溫步長 10 K。
1.3.2 數(shù)據(jù)獲得及處理
二甲基硅油的IR及TD-IR光譜數(shù)據(jù)獲得采用PE 公司軟件 Spectrum v 6.3.5。
首先開展了二甲基硅油的一維IR光譜研究,見圖1(A)。其中2 962.88 cm-1頻率處吸收峰歸屬于二甲基硅油 CH3不對稱伸縮振動模式(νasCH3-一維-二甲基硅油);2 905.82 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油CH3對稱伸縮振動模式(νsCH3-一維-二甲基硅油);1 258.00 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油CH3變形振動模式(δCH3-一維-二甲基硅油);1 009.50 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油Si-O鍵伸縮振動模式(νSi-O-一維-二甲基硅油);863.91 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油CH3搖擺振動模式(ρCH3-一維-二甲基硅油);而786.69 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油Si-C鍵伸縮振動模式(νSi-C-一維-二甲基硅油)。進一步開展了二甲基硅油的二階導數(shù)IR光譜的研究,見圖1(B),其譜圖分辨能力有了一定的提高。其中2 962.80 cm-1頻率處吸收峰歸屬于二甲基硅油νasCH3-二階導數(shù)-二甲基硅油,2 905.50 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油νsCH3-二階導數(shù)-二甲基硅油,1 258.02 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油δCH3-二階導數(shù)-二甲基硅油,1 008.66 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油νSi-O-二階導數(shù)-二甲基硅油,862.91 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油ρCH3-二階導數(shù)-二甲基硅油,而 786.18 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油νSi-C-二階導數(shù)-二甲基硅油。最后開展了二甲基硅油的四階導數(shù)IR光譜的研究,見圖1(C),其譜圖分辨能力則并沒有明顯的提高。其中2 962.45 cm-1頻率處吸收峰歸屬于二甲基硅油νasCH3-四階導數(shù)-二甲基硅油,1 257.64 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油δCH3-四階導數(shù)-二甲基硅油,1 008.98 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油νSi-O-四階導數(shù)-四甲基硅油,861.57 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油ρCH3-四階導數(shù)-二甲基硅油,而785.88 cm-1頻率處的吸收峰歸屬于二甲基硅油νSi-C-四階導數(shù)-二甲基硅油。實驗發(fā)現(xiàn):二甲基硅油的一維IR光譜、二階導數(shù)IR光譜和四階導數(shù)IR光譜存在著一定的差異性,這主要是因為二甲基硅油的二階及四階導數(shù)IR光譜是基于不同的數(shù)學模型計算而得到[5-10],其特征圖譜(Spectrum 100型中紅外光譜儀原始譜圖)如圖2所示。
圖1 二甲基硅油 IR 光譜(303 K)
圖2 二甲基硅油IR 原始光譜(303 K)
2.2.1 二甲基硅油的一維TD-IR光譜
在303~523 K溫度范圍內,開展了二甲基硅油的一維TD-IR光譜的研究(圖3),相關光譜數(shù)據(jù)見表1。
根據(jù)表1數(shù)據(jù)可知,隨著測定溫度的升高,二甲基硅油δCH3-一維-二甲基硅油和νSi-C-一維-二甲基硅油對應的吸收頻率出現(xiàn)了明顯的藍移,二甲基硅油νSi-O-一維-二甲基硅油對應的吸收頻率出現(xiàn)了紅移,二甲基硅油νasCH3-一維-二甲基硅油和νsCH3-一維-二甲基硅油對應的吸收頻率沒有明顯的改變,而二甲基硅油ρCH3-一維-二甲基硅油對應的吸收峰則趨于消失。隨著測定溫度的升高,二甲基硅油νasCH3-一維-二甲基硅油,對應的吸收強度降低,而二甲基硅油νsCH3-一維-二甲基硅油對應的吸收強度則略有增加。
圖3 二甲基硅油的一維TD-IR光譜(303~523 K)
表1 二甲基硅油的一維 TD-IR 光譜數(shù)據(jù)(303~523 K)
2.2.2 二甲基硅油的二階導數(shù)TD-IR光譜
在303~523 K溫度范圍內,開展了二甲基硅油的二階導數(shù)TD-IR光譜的研究(圖4),相關光譜數(shù)據(jù)見表2。
2.2.3 二甲基硅油的四階導數(shù)TD-IR光譜
在303~523 K溫度范圍內,開展了二甲基硅油的四階導數(shù)TD-IR光譜的研究(圖5),相關光譜數(shù)據(jù)見表3。
圖4 二甲基硅油的二階導數(shù) TD-IR 光譜(303~523 K)
圖5 二甲基硅油的四階導數(shù) TD-IR 光譜(303~523 K)
表2 二甲基硅油的二階導數(shù) TD-IR 光譜數(shù)據(jù)(303~523 K)
通過研究二甲基硅油的TD-IR光譜(包括:一維IR光譜、二階導數(shù)IR光譜和四階導數(shù)IR光譜),發(fā)現(xiàn),隨著測定溫度的升高,二甲基硅油主要官能團對應的吸收頻率和強度均有明顯改變。其中,二甲基硅油ρCH3-二甲基硅油對應的官能團對于溫度變化最為敏感,隨著測定溫度的升高,二甲基硅油ρCH3-二甲基硅油對應的吸收峰趨于消失。這主要是因為二甲基硅油分子中的CH3基團對于溫度比較敏感,隨著測定溫度的升高,更容易發(fā)生氧化反應。
表3 二甲基硅油的四階導數(shù)TD-IR光譜數(shù)據(jù)(303~523 K)
二甲基硅油主要存在νasCH3-二甲基硅油、νsCH3-二甲基硅油、六種紅外吸收模式。在303 ~ 523 K溫度范圍內,隨著測定溫度的升高,二甲基硅油主要官能團對應的吸收頻率及強度均有明顯的改變。本文建立了二甲基硅油的結構及熱穩(wěn)定性研究方法,為二甲基硅油的改性研究提供了數(shù)據(jù)支撐。