張永忠,王 剛
(湖南有色郴州氟化學(xué)有限公司,湖南 郴州423042)
氟化鎂(MgF2)為白色粉末或無(wú)色結(jié)晶,熔點(diǎn)1 248 ℃,在光照下會(huì)產(chǎn)生紫色螢光;水中難溶,能溶于硝酸,有毒,在高溫下具有較好的化學(xué)惰性和抗腐蝕性;光透過(guò)率優(yōu)異、折射率低(n=1.38)、帶隙寬(10.8 eV),具有雙折射性能和較高的激光損傷閾值[1]。
高純氟化鎂是一種重要的光學(xué)材料,尤其是晶體高純氟化鎂,具有眾多的優(yōu)良性能,其應(yīng)用領(lǐng)域越來(lái)越廣泛。本文介紹了近年來(lái)高純氟化鎂粉體制備工藝技術(shù)進(jìn)展,根據(jù)生產(chǎn)制備氟化鎂的原材料和工藝特點(diǎn),分析了干法和濕法2種工藝制備高純氟化鎂的優(yōu)缺點(diǎn),并對(duì)高純氟化鎂今年來(lái)的應(yīng)用進(jìn)展進(jìn)行歸納和展望。
鋁(Al)、銀(Ag)、金(Au)等常用高反射鏡材料質(zhì)軟、容易損壞,尤其鋁很容易被氧化從而影響其反射性能。在鋁表面鍍一層氟化鎂保護(hù)膜后,能夠保護(hù)鋁反射膜不被氧化的同時(shí)仍然保持了鋁的高反射性,這種采用氟化鎂鍍膜保護(hù)鋁反射鏡的反射器已在空間紫外遙感器等光學(xué)器件上廣泛使用[2];在反射板上鍍氟化鎂保護(hù)膜能解決銀質(zhì)軟、化學(xué)穩(wěn)定性差、易氧化的缺陷,也是常用的金屬反射膜系統(tǒng)[3]。
氟化鎂擁有較低的折射率低,能夠與高折射率材料組成較寬帶隙,可用作作光子晶體中的低折射率材料。如MgF2/Ag一維光子晶體可以通過(guò)改變薄膜厚度及膜層周期數(shù)進(jìn)而有效調(diào)節(jié)其通頻帶的位置和中心頻率,可廣泛應(yīng)用于傳感器、護(hù)目鏡、熱反射窗、發(fā)光二極管以及液晶顯示屏的透明電極等領(lǐng)域[4]。氟化鎂既擁有良好的光學(xué)性能又擁有較好的力學(xué)性能,在窄帶濾波器和性能優(yōu)良的高反膜和增透膜領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用[5-6]。
復(fù)合納米金屬陶瓷薄膜由于具有獨(dú)特的光電特性,在材料學(xué)界引起了極大關(guān)注。孫兆奇課題組近年來(lái)對(duì)金銀銅等與氟化鎂的復(fù)合膜系統(tǒng)進(jìn)行了深入研究,結(jié)果顯示,貴金屬與高純氟化鎂形成的納米復(fù)合金屬陶瓷薄膜具有較好的光吸收選擇性和強(qiáng)的非線性光學(xué)效應(yīng)[7]。
熱壓多晶氟化鎂的是由高純氟化鎂粉末經(jīng)高溫、高壓加工而成的透明晶體材料,紅外透過(guò)性和偏振性能均極佳,是性能優(yōu)良的紅外光學(xué)材料[8-10]。除了擁有較高機(jī)械強(qiáng)度,抗熱沖擊性和化學(xué)腐蝕性能也極佳,在導(dǎo)彈的紅外整流罩、民用的紅外探測(cè)器等領(lǐng)域均有廣泛應(yīng)用。其特殊的使用場(chǎng)景,除了要求氟化鎂粉體材料擁有極高的純度外,對(duì)材料的粒度分布、晶型大小、透過(guò)率、松散度和可壓性等也有嚴(yán)格的要求。如何進(jìn)一步提高高純氟化鎂粉體材料純度和光學(xué)性能,穩(wěn)定生產(chǎn)納米級(jí)多晶氟化鎂技術(shù)如過(guò)能夠得到突破,氟化鎂多晶材料的應(yīng)用將得到巨大的促進(jìn)[1]。
鑒于高純氟化鎂性能特殊,應(yīng)用廣泛,近年來(lái)相關(guān)科技工作者報(bào)道了多種高純氟化鎂的制備方法,極大地推進(jìn)了高純氟化鎂材料在各行各業(yè)的應(yīng)用。合成高純氟化鎂的方法,主要可分為干法和濕法2種工藝:干法工藝主要是以堿性鎂原料與氟化氫氣體進(jìn)行氣相反應(yīng),一步制得高純氟化鎂;濕法工藝主要是以氧化鎂、碳酸鎂、硫酸鎂為原料,與氟化氫或者氟化銨反應(yīng)制得氟化鎂粉末,經(jīng)洗滌、干燥、煅燒后得到高純氟化鎂產(chǎn)品。
廖志輝等將粒徑23~75 μm的干燥氫氧化鎂粉末置于流化床反應(yīng)器中,加熱至300~500 ℃,通入氟化氫氣體,控制氟化氫氣體的通入速度和時(shí)間,使氟化氫與氫氧化鎂的摩爾比為2.1~2.3:1,反應(yīng)時(shí)間30~60 min,反應(yīng)結(jié)束后通入清潔的空氣使物料冷卻,取出物料,得到氟化鎂產(chǎn)品,收率98%以上,純度99.97%以上[15]。該方法一步反應(yīng)即制得氟化鎂,流程短、操作簡(jiǎn)單、產(chǎn)品純度高,具備較好的應(yīng)用前景。
2.2.1 以氧化鎂為原料
胡建華將分析純氧化鎂和高純氫氟酸在四氟乙烯燒杯中,于95 ℃下不斷攪拌反應(yīng),pH控制在3.5 左右,反應(yīng)結(jié)束后氟化鎂粗品用煮沸的蒸餾水洗滌2~3 次,將吸濾得到的氟化鎂濾餅置于鉑金蒸發(fā)皿中,450 ℃煅燒4 h,冷卻得到光譜純氟化鎂[16]。
張旭等報(bào)道了一種以菱鎂礦為原料制備高純氟化鎂的方法,主要步驟:1)將菱鎂礦煅燒,得到輕燒氧化鎂礦粉;2)將輕燒氧化鎂礦粉加入到銨鹽溶液中去除可溶性鈣;3)將去除可溶性鈣后的輕燒氧化鎂用甲酸、乙酸等有機(jī)酸浸取得到鎂鹽;4)向輕燒氧化鎂礦粉浸取也中加入氫氟酸,生產(chǎn)氟化鎂沉淀,經(jīng)過(guò)濾、洗滌、干燥后即獲得高純氟化鎂,質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于99.9%[17]。該方法原料來(lái)源廣、成本低、設(shè)備要求低,利用廉價(jià)的菱鎂礦,能夠得到高純氟化鎂,成本相對(duì)較低。
董素娟等以工業(yè)氧化鎂、工業(yè)堿面、試劑硫酸和試劑氫氟酸為原料,經(jīng)過(guò)合成、洗滌,制得氟化鎂粉末,要點(diǎn)是將工業(yè)氧化鎂先后經(jīng)硫酸和雙氧水處理純化后工業(yè)堿面處理后得到堿式碳酸鎂,然后將得到的堿式碳酸鎂與氫氟酸反應(yīng),得到的氟化鎂粗品經(jīng)過(guò)濾、洗滌干燥后,得到高純氟化鎂產(chǎn)品[18]。該工藝得到的高純氟化鎂產(chǎn)品可熱壓,能夠在足夠高的溫度和壓力下改變其物理形態(tài),形成光學(xué)塊體,進(jìn)而用于制作紅外透射光學(xué)元件。
李世江等報(bào)道了一種以氧化鎂和氟硅酸為原料制備氟化鎂的方法,步驟為:1)將氟硅酸和氧化鎂反應(yīng)10~60 min,過(guò)濾并濃縮得到六水氟硅酸鎂;2)將六水氟硅酸鎂在100~500 ℃分解1~5 h,生產(chǎn)氟化鎂固體和四氟化硅氣體及水汽;3)四氟化硅氣體及水汽用水吸收后得到氟硅酸返回繼續(xù)制備氟化鎂,二氧化硅經(jīng)洗滌干燥后用于制備白炭黑[19]。該方法制備的氟化鎂的質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到98.5%以上,并且是利用磷肥副產(chǎn)氟硅酸為原料,較大幅度的降低了氟化鎂生產(chǎn)成本。
2.2.2 以碳酸鎂為原料
侯紅軍等報(bào)道了一種以碳酸鎂為原料制備高純氟化鎂晶體的方法,主要步驟:1)碳酸鎂與水混合攪拌制漿,想該碳酸鎂懸浮液中通入二氧化碳?xì)怏w進(jìn)行碳化;2)將氟硅酸氨解,制得氟化銨或氟化氫銨溶液;3)將步驟1 制得的碳酸鎂漿料和氟化銨或氟化氫銨溶液混合,制得高純氟化鎂漿料;4)高純氟化鎂漿料經(jīng)過(guò)濾、洗滌、干燥燒結(jié),得到高純氟化鎂晶體[20]。該方法制得的氟化鎂無(wú)需粉碎過(guò)篩即可直接使用,避免了粉碎過(guò)篩而造成二次污染,產(chǎn)品質(zhì)量有保障。
吳為民等報(bào)道了一種業(yè)態(tài)結(jié)晶法制備5~20 mm 多晶高純氟化鎂的工藝。采用將碳酸鎂加入到氫氟酸中的方式生產(chǎn)水合氟化鎂微晶,然后先使水合氟化鎂微晶進(jìn)行單晶生長(zhǎng)、再移入多晶生成器中進(jìn)行多晶生長(zhǎng)、最后移入直筒式三溫區(qū)燒結(jié)爐中燒結(jié),冷卻后即得到多晶高純氟化鎂[21]。該工藝采用單晶和多晶生長(zhǎng)過(guò)程取代傳統(tǒng)工藝中洗滌在干燥以及機(jī)械壓制和造粒的步驟,無(wú)需加入保護(hù)氣體,自然形成結(jié)晶水含量和氧化鎂含量均極低的多晶高純氟化鎂,產(chǎn)品質(zhì)量分?jǐn)?shù)高達(dá)99.99%,并且晶體透過(guò)率搞,鍍膜時(shí)產(chǎn)生的崩點(diǎn)少。
2.2.3 以硫酸鎂、氯化鎂等為原料
李程文等以氯化鎂為原料,在飽和氯化銨溶液中同時(shí)底價(jià)氟化銨和氯化鎂溶液,然后將其置于水浴中加熱,帶溶液加熱至恒溫后,再置于空氣中自然冷卻至常溫;再將其靜置沉降2~3 h,取出上清液,底部沉淀經(jīng)洗滌、過(guò)來(lái)、灼燒、粉碎,即得高純氟化鎂粉末[22]。該方法解決了氟化鎂制備過(guò)程顆粒細(xì)、沉降難的問(wèn)題,氟化鎂收率大于98%,質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于99.9%,能滿足光學(xué)鍍膜級(jí)材料的要求。
李凌云等報(bào)道了一種以工業(yè)硫酸鎂和工業(yè)碳酸鈉為原料制備熱壓多晶氟化鎂粉體的方法。將工業(yè)級(jí)硫酸鎂和工業(yè)級(jí)碳酸鈉提純后,制備出堿式碳酸鎂,然后與氫氟酸在50~60 ℃反應(yīng),制得的氟化鎂粉體經(jīng)過(guò)洗滌、干燥、煅燒后得到適合制備熱壓多晶氟化鎂的粉體氟化鎂產(chǎn)品,氟鎂利用率達(dá)到98%以上[23]。
董慶國(guó)等報(bào)道了一種海鹽鹵水制備高純氟化鎂的工藝方法,步驟為:1)在海鹽鹵水中加脫色劑脫色處理后,加入除鈣實(shí)際進(jìn)行除鈣處理,過(guò)濾,保留除鈣濾液;2)將除鈣濾液與飽和氟化銨溶液常溫混合反應(yīng)20~30 min 后,過(guò)濾、洗滌、干燥,得到高純氟化鎂[24]。該方法以海鹽鹵水為原料,得到的氟化鎂的質(zhì)量分?jǐn)?shù)可達(dá)到99.3%以上,成本低廉。
綜合分析濕法制備高純氟化鎂工藝:氧化鎂為原料工藝路線原料來(lái)源廣泛,價(jià)格便宜,但是存在氧化鎂會(huì)有部分轉(zhuǎn)化不徹底的問(wèn)題,進(jìn)而導(dǎo)致產(chǎn)品純度得不到保證;碳酸鎂為原料工藝路線得到的產(chǎn)品純度高,可以避免粉碎過(guò)篩等造成二次污染,產(chǎn)品質(zhì)量有保障,比較適合工業(yè)化生產(chǎn);硫酸鎂、氯化鎂等為原料工藝路線制得的產(chǎn)品純度高,工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,但是需要尋找合適的條件提高氟化鎂粉體粒徑,改善其過(guò)濾性,以更適合大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
近年來(lái),氟化鎂的應(yīng)用領(lǐng)域越來(lái)越廣泛,特別是隨著紫外及紅外波段光電技術(shù)的飛速發(fā)展,氟化鎂在激光元件、OLED發(fā)光、集成光學(xué)、光纖通訊、紙幣防偽等高端領(lǐng)域的應(yīng)用日漸增多。但是國(guó)內(nèi)高純氟化鎂的研制生產(chǎn)和國(guó)外先進(jìn)水平及國(guó)內(nèi)日益增長(zhǎng)的需求相比還有較大的差距,應(yīng)加大人力物力財(cái)力的投入力度,進(jìn)一步提高材料品質(zhì)與性能,特別是提高材料的機(jī)械性能、光學(xué)加工與檢測(cè)技術(shù)研究方面應(yīng)加大工作力度。在高純氟化鎂制備工藝技術(shù)方面,開(kāi)發(fā)出原料適應(yīng)性廣、產(chǎn)品品質(zhì)穩(wěn)定、裝備要求低的干法制備高純氟化鎂工藝技術(shù)應(yīng)加大工作力度,爭(zhēng)取早日取得突破。