陳市偉 周建華 黃 學(xué)
(競(jìng)陸電子(昆山)有限公司,江蘇 昆山 215335)
Mini LED(小型發(fā)光二極管)又名“次毫米發(fā)光二極管”,指晶粒芯片尺寸位于50~200 μm的LED(發(fā)光二極管),介于傳統(tǒng)LED與Micro LED之間。Mini LED(微型發(fā)光二極管)具有異型切割特性,搭配軟性基板亦可達(dá)成高曲面背光的形式,采用局部調(diào)光設(shè)計(jì),擁有更好的顏色性,應(yīng)用在商用大尺寸顯示屏方面,能帶給液晶面板更為精細(xì)的HDR分區(qū),且厚度也趨近OLED(有機(jī)發(fā)光二極管),可省電達(dá)80%,故以省電、薄型化、HDR、異型顯示器等背光源應(yīng)用為訴求,適合應(yīng)用于電視、車用面板及電競(jìng)筆記本電腦等產(chǎn)品上。
項(xiàng)目主要針對(duì)電競(jìng)鍵盤電路板制程工藝的創(chuàng)新突破研究,因其成品厚度僅0.15 mm(疊構(gòu)圖見圖1所示)超出常規(guī)剛性PCB厚度制程能力(厚度為成品0.3 mm),故在傳統(tǒng)剛性PCB工藝無法達(dá)到其要求。初期的mini LED產(chǎn)品電路板的加工均由撓性板(FPCB)完成,且在SMT(表面安裝)制程勉強(qiáng)達(dá)到50%的良率。
(1)材料選擇:基板EM-526高Tg0.08 mm T/銅厚12 μm/12 μm(T oz);阻焊油墨:霧面黑;表面涂飾:ENIG(化學(xué)鎳與浸鍍金);(2)流程:開料→鉆孔→電鍍→真空樹脂塞孔→樹脂研磨→減銅→內(nèi)層涂布→內(nèi)層曝光→內(nèi)層蝕刻→AOI→防焊吸氣印刷→防焊曝光→防焊顯影→文字→化金→無PIN成型→微針測(cè)試→成檢→包裝(見圖1所示)。
圖1 疊構(gòu)各層厚度設(shè)計(jì)圖
采用真空塞孔主要目的是避免塞孔下墨量過大,導(dǎo)致研磨不凈及研磨過度問題;普通大氣環(huán)境下的常規(guī)塞孔工藝墨凸較高,真空塞孔工藝墨凸較低(見圖2所示),在塞孔的過程中不可漏塞及塞孔透光。因普通樹脂研磨后會(huì)透光問題,需用特別添加黑色色料的樹脂油墨生產(chǎn)。且黑色樹脂油墨在整個(gè)塞孔工藝過程中,更容易觀察及判斷塞孔的下墨量及研磨后的品質(zhì)狀況。研磨需采用8軸磨刷機(jī)一次性研磨干凈,不可研磨第2次。
圖2 雙層嵌入式吸氣導(dǎo)墨板結(jié)構(gòu)示意圖
雙面PCB成品總厚度構(gòu)成主要由基板+銅箔+電鍍銅+阻焊油墨+文字油墨5種材料加工后的總厚度。成品厚度嚴(yán)格控制在0.15±0.05 mm,其中電鍍銅厚度及阻焊油墨厚度最為關(guān)鍵。電鍍銅須嚴(yán)格控制鍍銅均勻性及鍍銅厚度,鍍銅厚度15±3 μm,VCP(垂直連續(xù)電鍍線)電鍍生產(chǎn)需關(guān)閉噴流,并確保鍍銅三劑水平中值管控。阻焊油墨厚度10~25 μm,絲網(wǎng)印刷采用150目網(wǎng)版作業(yè),印刷機(jī)采用抽真空吸附臺(tái)面搭配專用雙層嵌入式吸氣導(dǎo)墨板印刷;禁止添加PM(丙二醇甲醚)稀釋劑。文字油墨的加工則采用350目細(xì)網(wǎng)紗生產(chǎn)。
成品尺寸控制4條邊光學(xué)點(diǎn)到光學(xué)點(diǎn)±0.05 mm,因板厚超薄,且經(jīng)過機(jī)械加工及熱烘烤,其漲縮變異是非常大的(見圖3所示)。最初為常規(guī)1:1原比例數(shù)據(jù)加工,電鍍后濕制程工藝漲縮比例為1.0001,樹脂研磨后工藝尺寸比例為1.0006,蝕刻后工藝漲縮比例回縮至1.0002,防焊烘烤后工藝漲縮比例進(jìn)一步收縮至0.9999,文字烘烤后工藝尺寸漲縮比例收縮至0.9997,成型前工藝尺寸漲縮比例最終定格在0.99975,且成品檢修烘烤后尺寸直接超出0.1 mm。經(jīng)過第一次的工藝漲縮數(shù)據(jù)收集,針對(duì)性全制程調(diào)整漲縮管控方式,制定第二次漲縮控制方案:以最終成型前漲縮數(shù)據(jù)收縮量,反推鉆孔預(yù)放比例1.00025,中制程漲縮數(shù)據(jù)再次收集,并嚴(yán)格控制各烘烤制程參數(shù),樹塞烘烤140 ℃、30 min,防焊烘烤150 ℃、45 min(常規(guī)隧道式烘烤為75~155 ℃共9段溫度、3 h),文字烘烤參數(shù)150 ℃、15 min(常規(guī)參數(shù)為150 ℃、45 min)。并在成型前測(cè)量漲縮申請(qǐng)漲縮撈邊程式。禁止成品檢修采用熱烘烤固化工藝,改為UV光固化油墨修補(bǔ)外觀缺陷。經(jīng)以上工藝調(diào)整,成品尺寸可有效控制在±0.05 mm以內(nèi)。
圖3 各工藝加工后尺寸變化趨勢(shì)
因芯板厚度僅0.084 mm,元件面(C面)線路設(shè)計(jì)橫向密集類平行線路設(shè)計(jì),銅箔被整體分割,基板應(yīng)力被釋放,殘銅率64%;焊接面(S面)部分線路縱向稀疏設(shè)計(jì),其余設(shè)計(jì)為銅箔,殘銅率為88%。C-S面線路殘銅率差異為:24%;成品線路寬度為0.1 mm。經(jīng)防焊后烘烤及文字烘烤后,成型后板子由S面向C面翹起60°,因板子較薄無法整平。經(jīng)分析,因S面采用多殘留銅箔皮設(shè)計(jì),且線路呈縱向排布,與C面橫向垂直切割,線路分布稀疏,與C面密集橫向線路無法均勻釋放材料蝕刻后的應(yīng)力從而導(dǎo)致板子熱烘烤后板子嚴(yán)重翹曲。解決方案:經(jīng)多次驗(yàn)證,S面銅箔設(shè)計(jì)采用網(wǎng)格化設(shè)計(jì),網(wǎng)格銅寬度0.15 mm,間距0.20 mm并旋轉(zhuǎn)45°角,再將網(wǎng)格分割打開,方向同C面布線設(shè)計(jì)相同,并保留整體網(wǎng)絡(luò)接地功能不變。經(jīng)試產(chǎn)批驗(yàn)證,成品平整度可控制在2 mm以內(nèi)。
LED連接盤的尺寸管控0.12 mm×0.15 mm,較LED晶粒焊接面積較大,以確保SMT制程錫膏印刷工藝的偏移及可焊性品質(zhì)符合要求。在PCB制程中,0.12 mm焊盤的開窗及電氣導(dǎo)通性測(cè)試均已超出常規(guī)制程能力。若以常規(guī)的防焊工藝設(shè)備生產(chǎn),需搭配超薄的阻焊油墨,及特殊的曝光工藝。墨厚管控10~25 μm不僅是為了確保成品板厚,也是為了焊盤開窗的效果。顯影側(cè)蝕量需控制在12 μm以內(nèi),且曝光偏移控制在30 μm。為確保防焊開窗連接盤尺寸符合要求且偏移可控,需極限壓縮外層間距,所以選用內(nèi)層濕墨涂覆工藝,而內(nèi)層涂覆無法滿足PTH(金屬化孔)的覆蓋,而樹脂塞孔工藝不僅是為了解決塞孔透光問題,也是為了確保內(nèi)層涂覆工藝的可行性。內(nèi)層極限間距壓縮至工作稿33 μm,蝕刻后管控38 μm,給防焊LED焊點(diǎn)開窗預(yù)留單邊偏移20 μm空間。除此之外,SMT制程錫膏印刷及LED晶粒貼裝對(duì)位用定位點(diǎn)設(shè)計(jì)需同步采用防焊開窗定位設(shè)計(jì),以確保成品漲縮同步,匹配SMT制程鋼網(wǎng)錫膏印刷對(duì)位尺寸控制要求。
因產(chǎn)品生產(chǎn)為剛性板工藝,制程的折傷風(fēng)險(xiǎn)無法避免。在成品SMT貼片工藝后,需增加彎曲狀態(tài)導(dǎo)通性測(cè)試,彎曲弧度R=2.0,檢測(cè)彎曲后銅導(dǎo)體的延展性不會(huì)有微開路問題。
模擬SMT參數(shù),空板過IR回流焊爐,檢測(cè)IR熱應(yīng)力后PCB平整度及導(dǎo)通性狀況。經(jīng)模擬測(cè)試,IR后平整度可控制在2 mm以內(nèi),尺寸穩(wěn)定性可控制在±0.1 mm以內(nèi)。參數(shù):120 ℃-150 ℃-180 ℃-210 ℃-230 ℃-275 ℃-200 ℃。
Mini LED PCB產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)量應(yīng)用,又一次突破PCB制程限制,利用內(nèi)層濕墨涂覆工藝對(duì)薄板的優(yōu)勢(shì),解決外層蝕刻板折損及卡板問題,并將外層良率提升30%以上。
工藝關(guān)鍵控制點(diǎn):(1)樹脂塞孔+研磨尺寸控制,塞孔墨凸<0.2 mm以內(nèi),研磨次數(shù)控制在1次以內(nèi);(2)銅厚的控制22 μm以內(nèi),是內(nèi)層33 μm小間距蝕刻的基礎(chǔ),也奠定了防焊開窗連接盤偏移基礎(chǔ);(3)薄板設(shè)計(jì)布線需均衡,以平衡銅箔皮蝕刻后的應(yīng)力釋放以解決板翹問題;(4)成品尺寸的控制,需搭配尺寸穩(wěn)定性較好的材料,并根據(jù)制程漲縮量預(yù)先施加漲縮補(bǔ)償。通過試產(chǎn)批改善及大量產(chǎn)的持續(xù)改進(jìn),Mini LED超薄PCB產(chǎn)品的工藝控制已趨成熟且穩(wěn)定。