Atonarp宣布推出Aston，這是一個創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計量平臺，集成了等離子體離子源。Ascon可實現(xiàn)原位分子過程控制，并有助于現(xiàn)有晶圓廠更高效地運行，從而推動產(chǎn)量的提高。Ascon是一個用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的強大平臺，從頭開始構(gòu)建，可替代多種傳統(tǒng)工具，并在一整套應(yīng)用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)及導(dǎo)體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。Aston通過在流程完成時進行準確檢測（包括腔室清潔）來優(yōu)化生產(chǎn)，從而將所需的清潔時間縮短高達80%。Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液，比現(xiàn)有解決方案更穩(wěn)健，采用獨立雙離子源（包括一個常規(guī)電子轟擊離子源和一個無燈絲等離子體發(fā)生器），能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣條件下可靠運行。這使得Aston能夠以原位狀態(tài)在苛刻環(huán)境中使用。與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，使用Aston的維修間隔長達100倍。它包括自清潔功能，可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累。由于Aston會生成自己的等離子體，因此在它工作時，過程等離子體可有可無，這使Aston成為原子層沉積（ALD）和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。Ascon還通過提供量化、可操作的實時數(shù)據(jù)來改進工藝一致性，通過人工智能（AI）促進強大的機器學(xué)習(xí)功能，以符合要求最苛刻的工藝應(yīng)用。此外，由于實時數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復(fù)性，這進一步改進了生產(chǎn)線并提高了產(chǎn)品產(chǎn)量。Ascon主要用于化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝，也可將其加裝到已運行的現(xiàn)有腔室。