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太赫茲波段的taper型多模干涉耦合器

2021-12-31 05:02張宏祥謝靜雅
光學(xué)儀器 2021年6期
關(guān)鍵詞:光場波導(dǎo)器件

張宏祥,謝靜雅

(上海理工大學(xué) 光電信息與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院,上海 200093)

引 言

多模干涉耦合器的自映像理論最早可以追溯到1836年Tabolt提出的自成像現(xiàn)象[1]。1973年,Bryngdahl[2]首次提出了在平面介質(zhì)波導(dǎo)中實(shí)現(xiàn)自映像的可能性。隨后,Ulrich等[3]用模式分析法首次解釋了多模干涉的成像原理與規(guī)律。Bachmann等[4]給出了基于N×N多模干涉器的自映像理論。Lucas等[5]設(shè)計(jì)出基于多模干涉自成像原理的理論模型。近年來,關(guān)于低損耗,小型化的多模干涉耦合器的報(bào)道也越來越多[6-8]。2009年,Jiao等[9]提出了一種基于級聯(lián)多模干涉(multimode interference, MMI)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的偏振分束器,該偏振分束器為條形波導(dǎo)結(jié)構(gòu),其下包層為二氧化硅材料,可以實(shí)現(xiàn)TE/TM波的偏振分束輸出。但該偏振分束不可對偏振態(tài)進(jìn)行動(dòng)態(tài)調(diào)控,并且存在光損耗較大、器件尺寸較大且不易于集成等缺點(diǎn)。

2012年,上海微系統(tǒng)所Sheng等模擬仿真了不同寬度的低損耗多模干涉器,并在實(shí)驗(yàn)測試中得到在1 530~1 570 nm波段的損耗低于0.1 dB的器件,該器件的大小只有3.6 μm×11.5 μm[10]。2013年,Zhou等設(shè)計(jì)出了基于絕緣體上硅的不同寬度的1×2的3 dB多模干涉耦合器[11-13]。

矩形MMI耦合器已有大量的研究成果,然而隨著多模干涉區(qū)寬度的增加,MMI耦合器的長度會(huì)迅速增加,而集成光學(xué)的快速發(fā)展對器件的集成性要求也越來越高,Taper型MMI耦合器相對于傳統(tǒng)的矩形MMI耦合器能有效地解決該問題。目前,多模干涉耦合器主要應(yīng)用在通信等頻段,并且是基于成熟的半導(dǎo)體加工工藝平臺(tái)實(shí)現(xiàn)的。本文提出在太赫茲波段利用高阻硅(材料折射率為3.42)實(shí)現(xiàn)多模干涉耦合器,其中taper型在本文中指的是非矩形、逐漸變窄的結(jié)構(gòu),如橢圓形、拋物線型、錐型。該器件的實(shí)現(xiàn)為以后太赫茲波段的波分復(fù)用提供了思路。

1 MMI的理論分析

對于一個(gè)N×N的MMI來說,其成像原理是基于多模波導(dǎo)的自映像效應(yīng)??梢院唵蔚乇硎鰹椋簩τ谌我惠斎牍鈭?,在多模波導(dǎo)中沿光場傳輸方向上將周期性地出現(xiàn)輸入光場的一個(gè)或者多個(gè)像的效應(yīng)。目前對多模波導(dǎo)的場分布進(jìn)行分析的方法諸多[14-17],對于MMI器件,主要采用模式傳輸分析法來實(shí)現(xiàn)模場分析[18]。

在平板中存在兩種模式,一種為橫電模(TE),另一種為橫磁模(TM)。兩種模式的區(qū)別在于電場和磁場的偏振方向。本文采用的是TM模式,TE模式推導(dǎo)類似于TM模式。圖1為一多模波導(dǎo)的示意圖。其中多模波導(dǎo)的寬度為Wm,波導(dǎo)芯層和包 層的折射率分別為n1和n2,此多模波導(dǎo)的輸入波長為 λ0時(shí),支持m個(gè)波導(dǎo)模式傳播,用v=0,1,···,(m?1) 表示多模波導(dǎo)中不同模式的階數(shù)[19]。設(shè)橫向的波數(shù)為kyv,第v階模式的傳播常數(shù)為 βv,通過色散方程[20]可以得到

圖1 多模波導(dǎo)的xy面與yz面示意圖Fig.1 xy and yz dimensional diagram of a multimode waveguide

式中:n1為波導(dǎo)的折射率; We,v為第v階模式的有效寬度。大多數(shù)情況下, We,v可以等效看成其基模(We)的有效寬度,表達(dá)式為式中 σ 代表極化因子,對于TE模式 σ =0 ,TM 模式 σ =1 。所以,最低二階模式的拍長Lπ可表示為

式中:neff0和neff1分別為對應(yīng)的TE和TM模式的 有 效 折 射 率。假 設(shè) 輸 入 光 場 ψ (y,0) 從z=0 處入射到多模波導(dǎo),將其表示成所有模式場 ψv(y)的線性疊加,便可得到

式(6)中的模式包含導(dǎo)模和輻射模,由于模式場成正交關(guān)系,則模式的模式激勵(lì)系數(shù)cv可表示為

因?yàn)檩椛淠T趯?shí)際的所有模式中的比例較小,可以忽略不計(jì),只考慮導(dǎo)模,可以得出

對于對稱型1×N多模干涉耦合器,它的單個(gè)N重自映像位置滿足

為了實(shí)現(xiàn)偶模激發(fā),而奇模不激發(fā),可以將輸入的偶對稱光場的位置(即單模輸入波導(dǎo)的位置)選擇在多模波導(dǎo)的中心位置,這樣,自映像將會(huì)是多模波導(dǎo)中所有偶數(shù)階模式的線性疊加。在實(shí)際的設(shè)計(jì)中,1×N的MMI通常用作N路光供分器,而考慮到器件的大小,通常將式(9)中的p值選擇為1,即將MMI設(shè)計(jì)在第一個(gè)N重自映像的位置。

當(dāng)選定一個(gè)合適的波導(dǎo)寬度W時(shí),根據(jù)FDTD仿真軟件可以計(jì)算得出對應(yīng)的0階和1階模式的有效折射率,然后通過理論數(shù)值計(jì)算得到相應(yīng)的MMI尺寸。

2 1×2 MMI的尺寸設(shè)計(jì)及優(yōu)化

MMI主要是由單模輸入輸出波導(dǎo)和多模耦合波導(dǎo)三部分組成。硅基MMI就是以硅材料為波導(dǎo)介質(zhì)。本文選取頻率為185 GHz作為此器件的工作頻率,波導(dǎo)厚度為340 μm,襯底厚度為130 μm。在這些工作條件下,光場能量能夠很好地限制在波導(dǎo)中傳輸。

根據(jù)式(5)可知,如果想要設(shè)計(jì)一個(gè)MMI的具體尺寸,當(dāng)確定寬度時(shí),需要知道在該寬度的波導(dǎo)情況下,其對應(yīng)的最低2階模式的有效折射率。通過FDTD仿真可以計(jì)算出不同波導(dǎo)寬度下的最低2階模式的有效折射率如圖2所示。此處對多模波導(dǎo)進(jìn)行選擇時(shí),通常是需要支持3個(gè)以上模式的,但是因?yàn)樾枰獙?shí)現(xiàn)1×2的分光,器件結(jié)構(gòu)如圖3所示,所以要盡量避免激發(fā)過多的高階模式即波導(dǎo)寬度不宜選擇過大。通過Mode Solution仿真軟件可以算出,當(dāng)波導(dǎo)寬度小于1 600 μm時(shí),不足以支持3個(gè)模式,所以本文選擇的3個(gè)寬度分別為1 200 μm、1 400 μm和1 550 μm。首先,通過式(9)可以推算出多模波導(dǎo)的理論長度,然后在這個(gè)長度范圍內(nèi)通過FDTD軟件進(jìn)行掃參仿真優(yōu)化。以1 200 μm為例,圖4是它的光場分布,從圖中可以看出,輸入光場在多模波導(dǎo)區(qū)發(fā)生干涉疊加后,在輸出位置幾乎實(shí)現(xiàn)了均勻分光,上下功率分別為0.455和0.463。通過計(jì)算得出它的理論二階拍長為3 744.5 μm,所以該多模干涉區(qū)的理論首個(gè)自映像位置約為1 404.19 μm,在這個(gè)數(shù)值范圍內(nèi),進(jìn)行200 μm的掃參優(yōu)化,步進(jìn)為10 μm,其結(jié)果如圖5所示。結(jié)果發(fā)現(xiàn),仿真的具體長度和理論計(jì)算有些偏差,因?yàn)樵诶碚撚?jì)算中,采用的是近似計(jì)算。

圖2 有效折射率與波導(dǎo)寬度關(guān)系Fig.2 Relationship between effective refractive index and waveguide width

圖3 1×2 MMI耦合器Fig.3 1×2 MMI coupler

圖4 MMI光功率分布Fig.4 Optical power distribution of MMI

圖5 不同長度的多模波導(dǎo)耦合效率Fig.5 Coupling efficiency of multimode waveguide with different lengths

同時(shí),本文對其余兩個(gè)寬度也進(jìn)行了相同的仿真,結(jié)果如圖6所示,從圖中可以看出,當(dāng)波導(dǎo)寬度為1 200 μm時(shí),其耦合效率要高于其他兩種情況,是因?yàn)檫x擇的輸入波導(dǎo)尺寸為500 μm的單模波導(dǎo),多模波導(dǎo)的寬度增加會(huì)導(dǎo)致多模區(qū)和輸入輸出波導(dǎo)間的模式不匹配度增加[21]。

圖6 不同寬度1×2 MMI的耦合效率Fig.6 Coupling efficiency of 1×2 MMI with different widths

上面對多模干涉區(qū)進(jìn)行了尺寸優(yōu)化,但是當(dāng)輸入波導(dǎo)進(jìn)入多模波導(dǎo)區(qū)時(shí),也會(huì)存在一個(gè)波導(dǎo)模式不匹配的情況,因?yàn)檫@里輸入輸出的單模波導(dǎo)的大小是固定的,所以需要給單模波導(dǎo)和多模波導(dǎo)之間添加一個(gè)漸變結(jié)構(gòu)來緩解尺寸的突然變化,在此引入taper結(jié)構(gòu),如圖7所示。這種線性taper的波導(dǎo),能夠減小單模波導(dǎo)和多模波導(dǎo)之間的模式轉(zhuǎn)換帶來的損耗,同時(shí)可以減小自映像的模式相位差,提高像的質(zhì)量,從而減小MMI的損耗。當(dāng)選取的工作頻率為185 GHz時(shí),保證兩個(gè)taper的寬度不變,改變taper的長度,可以發(fā)現(xiàn)在taper長度改變的情況下,MMI耦合器的耦合效率受到的影響較小,且寬度較小的MMI對taper長度更不敏感。同時(shí),在仿真設(shè)計(jì)中需要注意,Wt不能過大,不然會(huì)導(dǎo)致兩個(gè)輸出波導(dǎo)之間的間距G過小,工藝達(dá)不到。另外,還需要考慮taper的長度Lt對MMI的損耗影響。所以,最終選擇Wt=550 μm,Lt=500 μm。通過taper結(jié)構(gòu)可以有效地減小單模波導(dǎo)和多模波導(dǎo)之間的模式轉(zhuǎn)換帶來的損耗,提高耦合效率,從圖8可以看出,在相同的寬度下,引入taper結(jié)構(gòu)并不會(huì)改變它的耦合效率的趨勢,而是整體上相對于沒有taper結(jié)構(gòu)的耦合效率數(shù)值的提升。與此同時(shí),除了在單模波導(dǎo)和多模干涉區(qū)之間嫁接taper結(jié)構(gòu)來減緩它的模式轉(zhuǎn)換帶來的損耗,還可以通過直接減小多模干涉區(qū)的體積,直接將多模干涉區(qū)做成taper型可以縮小整個(gè)器件的體積從而實(shí)現(xiàn)該多模干涉耦合器在集成光學(xué)中的片上集成,其結(jié)構(gòu)示意圖如圖9所示。在該條件下,同樣的1 200 μm寬度的多模干涉區(qū),它的首個(gè)自映像的成像點(diǎn)位置為1 109.83 μm,即該多模干涉區(qū)的長度較之前縮小了很多,更加有利于該器件在集成光學(xué)中的應(yīng)用,并且它能夠獲得和在單模波導(dǎo)和多模波導(dǎo)之間直接添加taper連接的結(jié)構(gòu)相當(dāng)?shù)鸟詈闲?,進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)了既減小了尺寸又提高了效率的目的,其耦合效率結(jié)果如圖10所示。

圖7 Taper結(jié)構(gòu)的1×2 MMI示意圖Fig.7 Schematic diagram of 1×2 taper MMI

圖8 有taper和無taper的耦合效率對比Fig.8 Comparison of coupling efficiency with and without taper

圖9 Taper型多模干涉區(qū)Fig.9 Taper MMI area

圖10 Taper型多模干涉區(qū)的耦合效率Fig.10 The coupling effective of taper MMI area

3 結(jié) 論

本文通過多模干涉理論以及FDTD solution,Mode Solution仿真軟件的結(jié)合使用,設(shè)計(jì)出太赫茲波段的1×2對稱型多模干涉耦合器,并且通過理論推算它的二階拍長,隨后對它的寬度進(jìn)行一系列的參數(shù)掃描優(yōu)化得到了在185 GHz時(shí),耦合效率較高的尺寸結(jié)構(gòu)。同時(shí)也驗(yàn)證并改善了當(dāng)多模波導(dǎo)寬度增大時(shí),會(huì)使得多模干涉區(qū)和輸入波導(dǎo)之間的模式不匹配度增加的問題。所以,在此基礎(chǔ)之上提出添加一個(gè)taper漸變結(jié)構(gòu)來減緩單模波導(dǎo)和多模干涉區(qū)之間因?yàn)槟J降耐蝗晦D(zhuǎn)換帶來的模式不匹配從而導(dǎo)致多模干涉耦合器的耦合效率的降低,優(yōu)化了基礎(chǔ)的1×2 MMI的耦合效率,為之后的級聯(lián)提供了思路。根據(jù)連接處的taper原理,提出是否可以將多模干涉區(qū)直接設(shè)計(jì)成taper型結(jié)構(gòu),以此達(dá)到在提高耦合效率的同時(shí),做到縮小器件結(jié)構(gòu)尺寸,為該器件以后的片上集成打下基礎(chǔ)。且該器件是基于高阻硅材料設(shè)計(jì)的,有效降低了加工成本,為后面太赫茲波段的波分復(fù)用提供了思路。

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