高寧寧,劉相李,拓鵬飛,高俊魁,鐘 進(jìn),王輝國(guó),郁 灼
(中國(guó)石化石油化工科學(xué)研究院,北京 100083)
工業(yè)上X分子篩可作為對(duì)二甲苯吸附劑的活性組分,用于從混合C8芳烴中吸附分離高純度對(duì)二甲苯產(chǎn)品。研究表明,X分子篩選擇性吸附對(duì)二甲苯的性能可能源于其超籠中的特定靜電場(chǎng)[1-2],硅鋁比[n(SiO2)/n(Al2O3)]是影響超籠內(nèi)靜電場(chǎng)性質(zhì)的關(guān)鍵因素,因而X分子篩選擇性吸附對(duì)二甲苯的性能與其硅鋁比密切相關(guān)。王輝國(guó)等[3]采用脈沖試驗(yàn)研究了BaX分子篩的硅鋁比對(duì)C8芳烴分離系數(shù)的影響,發(fā)現(xiàn)隨著分子篩硅鋁比降低,對(duì)二甲苯相對(duì)于間二甲苯和鄰二甲苯的分離系數(shù)先升高后降低,而對(duì)二甲苯相對(duì)于乙苯的分離系數(shù)逐漸增加。因此,通過降低X分子篩的硅鋁比來調(diào)變其分離性能,尤其是提高對(duì)二甲苯相對(duì)于乙苯的吸附選擇性成為重要的研究方向。
X分子篩的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)為FAU,硅鋁比為2.0~3.0[4]。通常情況下,X分子篩合成體系以氫氧化鈉為堿源,但當(dāng)合成體系的硅鋁比較低時(shí),晶化產(chǎn)物易形成A分子篩雜晶[5];若以氫氧化鈉和氫氧化鉀為混合堿源,則可以在更寬范圍內(nèi)調(diào)變合成體系的硅鋁比,所得X分子篩的硅鋁比可低至2.0[6]。Iwama等[7]認(rèn)為,在水熱條件下合成體系液相中存在大量硅鋁比為2.0的四元環(huán)結(jié)構(gòu);在鉀離子作用下,這些四元環(huán)結(jié)構(gòu)組裝形成X分子篩的次級(jí)結(jié)構(gòu)單元雙六元環(huán),抑制了A分子篩成核。趙東璞等[8]同樣發(fā)現(xiàn)在合成體系中引入鉀離子可有效抑制A分子篩雜晶形成。因此,合成體系中的鉀離子對(duì)低硅X分子篩骨架結(jié)構(gòu)的形成有重要影響。
低硅X分子篩可以采用低溫老化和高溫晶化的兩段法合成[9-10]。低溫老化階段,合成體系中的硅物種、鋁物種發(fā)生可逆縮合反應(yīng),在Si—O—Si、Si—O—Al不斷形成與斷裂的動(dòng)態(tài)過程中逐漸形成晶核[11],老化溫度對(duì)晶核的種類和數(shù)量產(chǎn)生影響,進(jìn)而影響分子篩純度;高溫晶化階段,硅物種、鋁物種在晶核表面發(fā)生縮合-再溶解反應(yīng),晶核逐漸長(zhǎng)大形成三維骨架結(jié)構(gòu),晶核表面縮合反應(yīng)的種類和速率受晶化溫度影響,晶化溫度不適宜也會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)物中形成雜晶[12-13]。
為了獲得結(jié)晶度高、雜晶少的低硅X分子篩,本研究以氫氧化鈉和氫氧化鉀的混合物作為合成體系堿源,系統(tǒng)研究合成體系硅鋁比、堿硅比[n(Na2O+K2O)/n(SiO2) ]、水堿比[n(H2O)/n(Na2O+K2O)]、鉀堿比[n(K2O)/n(Na2O+K2O)]以及老化溫度、晶化溫度對(duì)產(chǎn)物結(jié)晶度、甲苯吸附容量等的影響,并采用X射線衍射(XRD)、X射線熒光光譜(XRF)、掃描電鏡(SEM)、29Si魔角旋轉(zhuǎn)固體核磁共振(29Si MAS NMR)、27Al魔角旋轉(zhuǎn)固體核磁共振(27Al MAS NMR)等手段表征產(chǎn)物的理化性質(zhì)。
氫氧化鈉,分析純,天津市大茂化學(xué)試劑廠產(chǎn)品;氫氧化鉀,優(yōu)級(jí)純,阿拉丁試劑公司產(chǎn)品;水玻璃,中國(guó)石化催化劑有限公司齊魯分公司產(chǎn)品;低堿度偏鋁酸鈉,自制。
按照體系物料比:n(SiO2)/n(Al2O3)=2.05、n(Na2O+K2O)/n(SiO2)=3.25、n(H2O)/n(Na2O+K2O)=17、n(K2O)/n(Na2O+K2O)=0.23,將氫氧化鈉和氫氧化鉀溶解在去離子水中,在強(qiáng)烈攪拌下依次加入水玻璃、低堿度偏鋁酸鈉,繼續(xù)攪拌30 min,得到乳白色均勻合成體系;然后,將其轉(zhuǎn)移至密閉水熱反應(yīng)釜中,在靜態(tài)條件下于70 ℃老化6 h,之后于95 ℃晶化3 h;晶化產(chǎn)物經(jīng)過濾、洗滌至pH為8~9,在120 ℃干燥后得到低硅X分子篩。
為考察單一因素對(duì)產(chǎn)物性質(zhì)的影響,在上述物料配比、溫度、時(shí)間條件下,保持其他因素不變,分別調(diào)整硅鋁比在1.90~2.65、堿硅比在2.25~5.00、水堿比在10~32、鉀堿比在0~0.53、老化溫度在35~80 ℃、晶化溫度在70~150 ℃間變化,得到的分子篩產(chǎn)物分別記作A-a,B-b,C-c,D-d,E-e,F(xiàn)-f,其中a,b,c,d,e,f分別為其他因素不變條件下合成體系中硅鋁比、堿硅比、水堿比、鉀堿比、老化溫度、晶化溫度的數(shù)值。
采用PHILIPS公司生產(chǎn)的X’Pert型X射線衍射儀測(cè)定分子篩樣品的X射線衍射譜圖,Cu靶,管電壓為40 kV,管電流為40 mA,2θ掃描范圍為5°~50°,掃描步長(zhǎng)為0.02°。分子篩的相對(duì)結(jié)晶度(R)為測(cè)試樣品XRD圖譜中2θ為10.0°±0.1°,11.7°±0.1°,15.4°±0.1°,23.3°±0.1°,26.6°±0.1°,30.9°±0.1°處衍射峰高度之和與參比樣品(A-2.05)在對(duì)應(yīng)位置衍射峰高度之和的比值[14]。
分子篩樣品的元素分析采用日本理學(xué)株式會(huì)社生產(chǎn)的ZSX Primus ⅡX射線熒光光譜儀測(cè)定,電壓為50 kV,電流為50 mA。分子篩樣品的形貌采用Hitachi公司生產(chǎn)的S-4800型掃描電子顯微鏡表征,加速電壓為5 kV,電流為10 μA。
分子篩樣品的29Si MAS NMR圖譜在Bruker AVANCE Ⅲ 500 MHz核磁共振儀上測(cè)定,采用7 mm的ZrO2轉(zhuǎn)子,轉(zhuǎn)速為5 kHz,脈沖寬度為2.03 μs,采樣次數(shù)為3 000。27Al MAS NMR圖譜在Bruker AVANCE Ⅲ 600 MHz共振儀上測(cè)定,采用4 mm的ZrO2轉(zhuǎn)子,轉(zhuǎn)速為12 kHz,脈沖寬度為0.51 μs,采樣次數(shù)為5 000。
分子篩樣品的甲苯吸附容量在自建裝置上用動(dòng)態(tài)法測(cè)定。首先將樣品于500 ℃焙燒2 h,再將焙燒后的樣品置于干燥器中降至室溫,然后稱量樣品質(zhì)量(m1),在35 ℃下,用氮?dú)鈱⒓妆秸魵鈹y帶入樣品室,甲苯蒸氣相對(duì)壓力(p/p0)為0.5,16 h后稱量吸附甲苯后的樣品質(zhì)量(m2)。待測(cè)分子篩樣品的甲苯吸附容量(W)為(m2-m1)/m1。
2.1.1硅鋁比
其他條件不變,硅鋁比分別為1.90,2.05,2.20,2.35,2.50,2.65時(shí)所得產(chǎn)物的XRD圖譜如圖1所示。
圖1 合成體系中不同硅鋁比下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
由圖1可以看出:A-1.90在2θ為6.1°,10.0°,11.7°,15.4°,23.3°,26.7°,31.0°附近出現(xiàn)較強(qiáng)的X分子篩特征衍射峰,表明產(chǎn)物中生成了大量的X分子篩[15-16];此外在2θ為7.2°附近出現(xiàn)微弱的衍射峰,表明產(chǎn)物中有極少量A分子篩雜晶形成[17]。通常情況下,A分子篩合成體系的硅鋁比小于或等于2.0,晶化溫度為90 ℃左右[18]。因此,當(dāng)?shù)凸鑈分子篩合成體系的硅鋁比低于2.0時(shí),產(chǎn)物中容易形成A分子篩。當(dāng)合成體系的硅鋁比從2.05逐漸升至2.65時(shí),所得產(chǎn)物均為純的X分子篩,表明當(dāng)合成體系的硅鋁比為2.05~2.65時(shí)均可以合成出純X分子篩。
合成X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度及甲苯吸附容量隨合成體系硅鋁比變化的曲線如圖2所示。由圖2可以看出,合成體系硅鋁比從1.90增加到2.05時(shí),X分子篩的結(jié)晶度從97%增至100%,合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量從200 mg/g增至203 mg/g。依據(jù)Loewenstein規(guī)則[19],分子篩的骨架硅鋁比最低為2.00,當(dāng)合成體系硅鋁比低于2.00時(shí),過量的鋁物種難以進(jìn)入分子篩骨架結(jié)構(gòu),可能以無定形鋁的形式存在于產(chǎn)物中,且產(chǎn)物中存在少量A分子篩雜晶,從而導(dǎo)致A-1.90的結(jié)晶度和甲苯吸附容量均稍低于A-2.05。當(dāng)合成體系的硅鋁比繼續(xù)增加至2.65時(shí),X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量均逐漸下降。這可能是因?yàn)?,?dāng)合成體系的硅鋁比大于2.05、且合成體系的堿硅比保持3.25時(shí),較高的堿濃度不利于X分子篩晶化,導(dǎo)致X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量下降。因此,合成體系的最佳硅鋁比為2.05。
圖2 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系硅鋁比的變化曲線
2.1.2堿硅比
其他條件不變,合成體系的堿硅比分別為2.25,2.75,3.25,4.00,4.50,5.00時(shí)所得產(chǎn)物的XRD圖譜如圖3所示。由圖3可以看出,當(dāng)合成體系堿硅比為2.25~5.00時(shí),所得產(chǎn)物均為純X分子篩,說明在合成體系其他條件不變,堿硅比在較寬范圍內(nèi)變化均能夠獲得純X分子篩。
圖3 合成體系中不同堿硅比下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
合成X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系堿硅比的變化曲線見4。由圖4可以看出,隨著合成體系堿硅比從2.25增至5.00,合成的系列X分子篩樣品的結(jié)晶度和甲苯吸附量呈現(xiàn)出相似的變化趨勢(shì):結(jié)晶度先從86%升至100%再降至92%,甲苯吸附容量先從194 mg/g升至203 mg/g再降至197 mg/g。這可能是因?yàn)楫?dāng)合成體系的堿硅比低于3.25時(shí),合成體系中的硅、鋁物種難以完全結(jié)晶;而當(dāng)合成體系的堿硅比高于3.25時(shí),較高的堿濃度會(huì)對(duì)分子篩的晶體結(jié)構(gòu)造成破壞,進(jìn)而導(dǎo)致產(chǎn)物的結(jié)晶度和甲苯吸附容量降低。這與王輝國(guó)等[20]的研究結(jié)果一致,合適的堿硅比有利于獲得結(jié)晶度較高的X分子篩。因此,合成體系優(yōu)選的堿硅比為3.25。
圖4 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系堿硅比的變化曲線
2.1.3水堿比
其他條件不變,合成體系水堿比分別為10,12,17,22,27,32時(shí)所得產(chǎn)物的XRD圖譜如圖5所示。由圖5可以看出:C-10在2θ為13.9°和24.3°附近出現(xiàn)較強(qiáng)的衍射峰,表明產(chǎn)物中僅形成了SOD分子篩[21];C-12中含X分子篩和SOD分子篩,且SOD分子篩對(duì)應(yīng)的衍射峰強(qiáng)度減弱;C-17為純的X分子篩;C-22中除了形成大量X分子篩,還出現(xiàn)少量A分子篩;C-27中也形成了大量X分子篩,但A分子篩的衍射峰強(qiáng)度增強(qiáng);C-32中僅形成了X分子篩,但是其對(duì)應(yīng)的衍射峰強(qiáng)度顯著減弱。這表明:當(dāng)合成體系的水堿比小于17時(shí),產(chǎn)物中容易形成SOD分子篩雜晶,且隨著水堿比的增大,產(chǎn)物中X分子篩增多,SOD分子篩雜晶減少;當(dāng)合成體系的水堿比大于17時(shí),產(chǎn)物中容易形成A分子篩雜晶,且隨著水堿比繼續(xù)增大,A分子篩雜晶增多;當(dāng)合成體系的水堿比達(dá)到32時(shí),僅形成了少量X分子篩,這可能是因?yàn)楹铣审w系中堿濃度太低,導(dǎo)致硅、鋁物種的晶化難度增大。
圖5 合成體系中不同水堿比下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
合成X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系水堿比的變化曲線見圖6。由圖6可以看出,當(dāng)合成體系的水堿比從10增至17時(shí),X分子篩的結(jié)晶度從0升至100%,甲苯吸附容量從20 mg/g逐漸升至203 mg/g。這是因?yàn)殡S著合成體系水堿比的增大,產(chǎn)物中X分子篩的含量逐漸增加,SOD分子篩雜晶的含量逐漸降低。當(dāng)合成體系的水堿比繼續(xù)增加至32時(shí),產(chǎn)物中A分子篩雜晶的含量增加;尤其是當(dāng)水堿比為32時(shí)所得產(chǎn)物中X分子篩的含量非常低,導(dǎo)致X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量快速下降。因此,合成體系優(yōu)選的水堿比為17。
圖6 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系水堿比的變化曲線
2.1.4鉀堿比
其他條件不變,合成體系鉀堿比分別為0,0.13,0.23,0.33,0.43,0.53時(shí)所得產(chǎn)物的XRD圖譜如圖7所示。由圖7可知:D-0為SOD分子篩;D-0.13主要為X分子篩,并包含A分子篩和SOD分子篩,其中SOD分子篩衍射峰強(qiáng)度較D-0明顯降低,說明其含量較低;D-0.23,D-0.33,D-0.43均為純X分子篩;D-0.53也為純X分子篩,但其衍射峰強(qiáng)度大幅降低。這說明在合成體系中加入一定量的氫氧化鉀可以抑制A分子篩雜晶和SOD分子篩雜晶的形成,有利于獲得純X分子篩產(chǎn)物,但鉀含量過高對(duì)X分子篩的形成不利。這與Iwama等[6]的研究結(jié)果一致。
圖7 合成體系中不同鉀堿比下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
合成X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系鉀堿比的變化曲線見圖8。由圖8可以看出:鉀堿比為0時(shí),所得產(chǎn)物為SOD分子篩,此時(shí)以X分子篩計(jì)的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量均為0;鉀堿比增加至0.13時(shí),X分子篩結(jié)晶度有所增加,但是產(chǎn)物中仍然包含明顯的A分子篩雜晶和SOD分子篩雜晶,導(dǎo)致其甲苯吸附容量仍然較低;當(dāng)鉀堿比增至0.23時(shí),X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量均達(dá)到最高點(diǎn),分別為100%和203 mg/g;繼續(xù)增加鉀堿比至0.53,X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量均快速降低。這是因?yàn)楹铣审w系中鋁物種濃度隨著鉀含量的升高而降低,鋁物種和鈉離子的濃度較低會(huì)降低成核和晶體生長(zhǎng)速率[22],不利于產(chǎn)物中X分子篩結(jié)晶度的提高。因此,合成體系優(yōu)選的鉀堿比為0.23。
圖8 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨合成體系鉀堿比的變化曲線
綜上所述,合成體系的硅鋁比、堿硅比、水堿比和鉀堿比對(duì)合成產(chǎn)物的物相組成、X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量有不同程度的影響。比較而言,保持合成體系的水堿比為17、鉀堿比為0.23不變,在較寬范圍內(nèi)調(diào)變合成體系的硅鋁比和堿硅比時(shí)不易產(chǎn)生雜晶,但所得X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量存在差異;而改變體系的水堿比或鉀堿比,產(chǎn)物中易形成SOD或A分子篩雜晶。當(dāng)合成體系的水堿比小于或等于12時(shí),產(chǎn)物中易形成SOD分子篩雜晶;水堿比超過22時(shí),產(chǎn)物中易形成A分子篩雜晶;水堿比過高(達(dá)32)時(shí),則會(huì)導(dǎo)致分子篩結(jié)晶困難。當(dāng)合成體系的鉀堿比大于或等于0.23時(shí),可以有效抑制SOD和A分子篩雜晶的形成,獲得純X分子篩;但鉀堿比過高時(shí),則不利于X分子篩晶化。因此,合成體系優(yōu)選的硅鋁比為2.05、堿硅比為3.25、水堿比為17、鉀堿比為0.23。
2.2.1老化溫度
其他條件不變,分別在35,50,60,70,80 ℃老化、再在95 ℃晶化后所得產(chǎn)物的XRD圖譜,以及不經(jīng)老化而直接在95 ℃晶化后所得產(chǎn)物(E-95)的XRD圖譜如圖9所示。由圖9可以看出,E-35包含X分子篩和少量A分子篩雜晶,E-50,E-60,E-70,E-80均為純X分子篩,E-95包含X分子篩和少量SOD分子篩雜晶。表明老化溫度為50~80 ℃時(shí)均能夠合成出純X分子篩;老化溫度較低時(shí)(低于50 ℃)容易形成A分子篩雜晶;不經(jīng)過老化而直接在95 ℃晶化,容易形成SOD分子篩雜晶。X,A,SOD分子篩骨架結(jié)構(gòu)中均包含α籠結(jié)構(gòu)單元,區(qū)別在于其相鄰α籠之間的連接方式不同:X分子篩中的相鄰α籠由雙六元環(huán)相連,A分子篩中的相鄰α籠由雙四元環(huán)相連,SOD分子篩中的相鄰α籠直接通過四元環(huán)相連。因此,推斷老化溫度低于50 ℃時(shí)易形成雙四元環(huán),老化溫度為50~80 ℃時(shí)促進(jìn)雙六元環(huán)的形成;不經(jīng)老化而直接95 ℃晶化處理,不利于形成雙六元環(huán)和雙四元環(huán),而是導(dǎo)致形成更為致密的SOD分子篩。
圖9 不同老化溫度下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
合成產(chǎn)物X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨老化溫度的變化曲線見圖10。由圖10可以看出:老化溫度為35 ℃時(shí),X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量較低,分別為95%和188 mg/g,原因在于產(chǎn)物中存在少量A分子篩雜晶;老化溫度達(dá)到50~80 ℃時(shí),X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量較高,分別為99%~100%和202~203 mg/g;不經(jīng)過老化而在95 ℃直接晶化,使X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量快速降低,這是因?yàn)樗卯a(chǎn)物中出現(xiàn)SOD分子篩雜晶。老化階段是分子篩晶核的主要形成時(shí)期,因而老化處理可以有效提高晶化的速率,從而提高產(chǎn)物中X分子篩含量[5,8]。
圖10 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨老化溫度的變化曲線
2.2.2晶化溫度
其他條件不變,晶化溫度分別為70,95,115,130,150 ℃時(shí)所得產(chǎn)物的XRD譜圖如圖11所示。由圖11可以看出:F-70和F-95均僅含X分子篩,表明晶化溫度為70~95 ℃時(shí)均能夠合成出純X分子篩;F-115中除了形成大量X分子之外篩還出現(xiàn)少量SOD分子篩雜晶,F(xiàn)-130中的SOD分子篩含量有所增加,表明晶化溫度為115 ℃時(shí),產(chǎn)物中開始出現(xiàn)SOD分子篩,且SOD分子篩含量隨著晶化溫度的升高而增加;晶化溫度達(dá)到150 ℃時(shí),產(chǎn)物為純SOD分子篩,說明晶化溫度過高時(shí)不能形成X分子篩。這可能是因?yàn)镾OD分子篩較X分子篩更為致密,而在較高晶化溫度下易形成致密相[23]。
圖11 不同晶化溫度下所得產(chǎn)物的XRD圖譜
合成產(chǎn)物X分子篩的相對(duì)結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨晶化溫度的變化曲線見圖12。由圖12可以看出:隨著晶化溫度從70 ℃升至150 ℃,X分子篩的結(jié)晶度和合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量均呈現(xiàn)先升高后降低趨勢(shì);晶化溫度為95 ℃時(shí),X分子篩結(jié)晶度和甲苯吸附容量最高。表明雖然晶化溫度在70~95 ℃時(shí)均能夠合成出純X分子篩,但產(chǎn)物質(zhì)量存在差異。溫度過低(如70 ℃)時(shí),可能由于晶化速率較小而導(dǎo)致合成產(chǎn)物不能完全晶化;而溫度超過115 ℃時(shí),產(chǎn)物中SOD分子篩雜晶含量逐漸增加,導(dǎo)致合成產(chǎn)物的甲苯吸附容量降低。因此,較優(yōu)的晶化溫度為95 ℃。
圖12 合成X分子篩的結(jié)晶度和甲苯吸附容量隨晶化溫度的變化曲線
綜上所述,在較寬的老化和晶化溫度范圍內(nèi),均可以合成出純X分子篩;晶化之前進(jìn)行老化處理是必要的,不經(jīng)老化處理而直接晶化會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)物中出現(xiàn)SOD分子篩雜晶,老化溫度較低時(shí)容易引入A分子篩雜晶;晶化溫度較低時(shí)會(huì)降低X分子篩的晶化速率,而晶化溫度過高則容易形成SOD分子篩雜晶。
基于以上研究結(jié)果,在優(yōu)化的條件下合成了低硅X分子篩,并采用XRF、核磁共振波譜、SEM等手段進(jìn)行表征。由XRF表征結(jié)果可知,所得低硅X分子篩的硅鋁比為1.96,陽離子為鉀和鈉,鉀堿比為0.24,與合成體系的鉀堿比接近。
低硅X分子篩的29Si MAS NMR和27Al MAS NMR表征結(jié)果如圖13所示。由圖13(a)可知,低硅X分子篩在化學(xué)位移為-84附近出現(xiàn)強(qiáng)峰,在化學(xué)位移為-89附近有非常弱的寬峰,分別對(duì)應(yīng)于分子篩骨架結(jié)構(gòu)中的Si(4Al)和Si(3Al)。表明低硅X分子篩骨架結(jié)構(gòu)基本由Si(4Al)組成,僅含極少量的Si(3Al),經(jīng)擬合計(jì)算可知其骨架硅鋁比為2.00[24],與XRF的表征結(jié)果一致。由圖13(b)可知,低硅X分子篩在化學(xué)位移63附近出現(xiàn)強(qiáng)峰,表明樣品中的鋁均以4配位形式存在,不含非骨架鋁[14]。
圖13 低硅X分子篩的29Si MAS NMR和27Al MAS NMR圖譜
圖14為低硅X分子篩的SEM照片。由圖14可以看出,低硅X分子篩為直徑2~5 μm球體,表面凹凸不平,含大量尺寸為0.5~1.5 μm的四面體突起。由于X分子篩通常呈八面體形貌[11],因此可知球體結(jié)構(gòu)是由大量尺寸為0.5~1.5 μm的X分子篩晶粒聚集而成。
圖14 低硅X分子篩的SEM照片
合成低硅X分子篩體系優(yōu)化的硅鋁比、堿硅比、水堿比、鉀堿比分別為2.05,3.25,17,0.23,優(yōu)化的老化溫度為50~80 ℃、晶化溫度為95 ℃。在優(yōu)化條件下,可合成出結(jié)晶度較高的純低硅X分子篩。合成的低硅X分子篩不含非骨架鋁,硅鋁比為2.0,外觀呈直徑2~5 μm的球體形貌,球體由尺寸為0.5~1.5 μm的X分子篩晶粒聚集而成。