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紫外高級氧化技術(shù)去除2-MIB的研究與應用

2022-04-26 11:58:48姜清月王永磊栗靜靜邵明睿趙銀河劉建廣
工業(yè)水處理 2022年4期
關(guān)鍵詞:嗅味紫外光活性炭

姜清月,王永磊,李 雷,張 坤,栗靜靜,金 麗,邵明睿,趙銀河,劉建廣

(1.山東建筑大學市政與環(huán)境工程學院,山東濟南250101;2.青島平度市自來水公司,山東青島266700;3.山東省創(chuàng)新發(fā)展研究院,山東濟南250101;4.山東省水利科學研究院,山東濟南250014)

水體富營養(yǎng)化導致藻類迅速繁殖,產(chǎn)生嗅味物質(zhì),不僅降低飲用水的感官品質(zhì),同時對人類健康產(chǎn)生一定影響。其中,藍藻代謝產(chǎn)物是產(chǎn)生嗅味物質(zhì)的主要因素,放線菌和真菌也會產(chǎn)生一定量的嗅味物質(zhì)〔1〕。2-甲基異莰醇(2-MIB)是最典型、分布最廣泛的嗅味物質(zhì)之一,具有穩(wěn)定的環(huán)狀結(jié)構(gòu),對化學氧化有一定抵抗力。各國的水質(zhì)標準均對2-MIB有限值要求〔2-4〕。而常規(guī)水處理方法無法滿足對嗅味物質(zhì)的處理需求〔5〕,亟需研發(fā)新的技術(shù)以保障供水安全。

近年來,研究者采用生物法、物理法、化學法對2-MIB進行去除。自然生物降解嗅味物質(zhì)的速度在1.0 ng∕(L·d)左右,生物法對2-MIB的去除效果較好,但處理后的濃度仍超出水質(zhì)標準閾值〔6〕。物理法多采用活性炭作吸附劑,通過生物粉末活性炭—超濾組合工藝處理2-MIB,平均去除率可達65.86%〔7〕,但活性炭的回收會加大投資成本。在化學氧化法中,高級氧化工藝(AOPs)可快速降解嗅味物質(zhì)〔8〕,并將其最終礦化為CO2、H2O。

高級氧化技術(shù)包括光化學過程、電化學過程、電離輻射的聲波分解等。其中,基于紫外光的高級氧化技術(shù)具有無二次污染、污染物降解效率高等特點〔9〕。筆者綜述了基于紫外光的高級氧化技術(shù)對2-MIB的去除機理、相關(guān)研究進展,以及高級氧化聯(lián)用技術(shù)的應用情況,并對基于紫外光的高級氧化技術(shù)處理2-MIB的發(fā)展應用前景進行展望。

1 去除2-MIB的紫外高級氧化技術(shù)

紫外高級氧化技術(shù)通過產(chǎn)生無選擇性且氧化性強的自由基,如羥基自由基(·OH)、硫酸根自由基(SO4·-)、氯自由基(Cl·)等,直接礦化有機污染物或提高其可生化性。該過程反應快速、選擇性低,不會引進新物質(zhì)。

1.1 UV∕H 2O2

UV∕H2O2是近年來新興的高級氧化技術(shù),降解機理包括紫外光直接光解、H2O2直接氧化和自由基氧化〔10-11〕。UV除能活化H2O2分解,還具有消毒作用。E.J.ROSENFELDT等〔12〕發(fā)現(xiàn)UV∕H2O2體系中產(chǎn)生的·OH可降解2-MIB,且·OH起到主要作用〔13〕。C.H.JO等〔14〕用UV∕H2O2工藝處理水中嗅味物質(zhì),直接UV光解時2-MIB濃度降低20%;UV與H2O2聯(lián)用具有協(xié)同作用,對于初始質(zhì)量濃度為100 ng∕L的2-MIB,紫外光輻射強度為1 200 mJ∕cm2、H2O2為6 mg∕L時2-MIB降解率為65%;輻射強度為2 700 mJ∕cm2時降解率可提升至90%??梢姡琔V∕H2O2工藝對嗅味物質(zhì)有很好的去除效果,且隨著紫外光輻射強度的增加,去除率提高。

王昊〔15〕采用濟南玉清水廠砂濾池出水進行2-MIB降解中試研究,當進水流量為2.9 m3∕h、UV功率為2.0 kW、H2O2質(zhì)量濃度為6 mg∕L時,UV∕H2O2工藝對2-MIB的去除率最高,可達99.26%,2-MIB質(zhì)量濃度降至5 ng∕L以下,可滿足國家飲用水質(zhì)量標準要求。

1.2 UV∕Cl

UV∕Cl技術(shù)是在氯消毒的基礎上增加UV輻射,光解產(chǎn)物為·OH和Cl·等,可有效處理水中的污染物質(zhì)〔16〕。在UV∕Cl工藝處理2-MIB過程中,UV直接光解與·OH氧化起到關(guān)鍵作用,原因在于:Cl·雖為親電物種,可通過電子轉(zhuǎn)移與有機化合物發(fā)生反應,但2-MIB缺少電子,Cl·可能不易與2-MIB反應〔2〕。

T.K.KIM等〔2〕比較了單獨氯化、單獨UV光解和UV∕Cl對2-MIB的處理效果。單獨氯化時,在氯質(zhì)量濃度較低(0.5 mg∕L)、較高(2 mg∕L)條件下2-MIB含量無明顯變化。有報道指出常見的氧化劑如Cl2、ClO2、KMnO4對2-MIB的去除無效〔17〕。2-MIB分子中的發(fā)色團對紫外線的吸收能力較差,在254 nm處的光敏性較低〔12〕,因此單獨采用UV光解時需要相當大的能量。UV與Cl聯(lián)用時,通過UV直接光解、HOCl光解、Cl·與水反應可產(chǎn)生更多·OH,p H為5~7時2-MIB可在1 h內(nèi)被完全去除。

張燚〔18〕研究發(fā)現(xiàn)VUV(真空紫外)∕Cl去除2-MIB的效果比UV∕Cl的好。單獨VUV光源作用下的反應速率常數(shù)約為UV光源的9倍。單獨VUV光源不僅可通過光解去除部分2-MIB,還可通過VUV中的185 nm紫外光輻射水體產(chǎn)生·OH。采用VUV∕Cl聯(lián)用工藝,在pH為5、嗅味物質(zhì)初始質(zhì)量濃度為400 ng∕L條件下,反應10 min 2-MIB去除率可達95%,反應30 min去除率達到98%。

有報道稱UV∕Cl工藝對2-MIB的降解效果優(yōu)于UV∕H2O2,但UV∕Cl工藝可能形成氯化副產(chǎn)物。因此,該工藝投入使用前需考慮反應過程中的副產(chǎn)物或中間產(chǎn)物的影響。

1.3 UV∕PS

SO4·-的氧化還原電位(2.5~3.1 V)與·OH相當,逐漸引起人們關(guān)注。與·OH相比,SO4·-的選 擇 性 更強,能與許多有機底物快速反應。UV輻照活化過硫酸鹽(UV∕PS)工藝可產(chǎn)生SO4·-而 不產(chǎn)生·OH〔19-20〕,但在無自由基抑制劑條件下,SO4·-會與水、氫氧根反應生成·OH。

Pengchao XIE等〔21〕研究了pH為7、2-MIB為40 μg∕L條件下UV∕PDS(過二硫酸鹽)的降解效果,并與單獨PDS、單獨UV光解體系進行對比。結(jié)果表明,PDS為200μmol∕L、反應時間為1 800 s時,2-MIB降解率可忽略不計,表明2-MIB幾乎不被PDS直接氧化;在紫外光單獨照射下,900 s內(nèi)2-MIB降解率不足3%;接觸時間為600 s、PDS濃度為10 μmol∕L時,UV∕PDS體 系 對2-MIB的 降 解 率 為86.0%,其中·OH對2-MIB的降解貢獻為SO4·-的3.5倍。史路肖〔22〕發(fā)現(xiàn),同等反應條件下VUV∕PS工藝對2-MIB的降解率優(yōu)于UV∕PS工藝,能耗也低于UV∕PS工藝。相似條件下(pH為6.8~7.2、2-MIB初始質(zhì)量濃度為200 ng∕L、PS為0.5 mmol∕L、VUV光強為487.6μW∕cm2、UV光強為524.3μW∕cm2),UV∕PS對2-MIB的降解率比VUV∕PS低將近15%,且電能消耗高于VUV∕PS。

在實際水處理中,碳酸氫鹽和天然有機物(NOM)是主要的自由基清除劑,會消耗·OH和SO4·-,且對·OH的影響比SO4·-更明顯。市政管網(wǎng)中存在的多種有機物及無機離子會競爭消耗體系中的SO4·-,導致2-MIB的去除率降低,因此蒸餾水體系中2-MIB的去除率要明顯高于市政管網(wǎng)。

1.4 UV∕O3

UV∕O3工藝將UV直接光降解與O3氧化分解結(jié)合起來產(chǎn)生大量·OH,可去除水中大部分難降解有機污染物〔23-24〕。由于該工藝無需添加催化劑、反應速率快,在處理飲用水方面有廣闊的應用前景〔25〕,成為水處理領域的研究熱點。

S.W.JUNG等〔26〕投加3.8 mg∕L臭氧處理初始質(zhì)量濃度為100 ng∕L的2-MIB,接觸時間為6.4 min時2-MIB去除率達到84.8%。K.ZOSCHKE等〔27〕研究發(fā)現(xiàn),O3投加量為2~3 mg∕L、UV輻射光強為5 000~6 000 J∕m2、接觸時間為2~3 min條件下,UV∕O3工藝對200~500 ng∕L 2-MIB的降解率達到90%??梢奤V∕O3工藝對2-MIB的降解效果比單獨O3更好。

VUV∕O3工藝可處理水中的嗅味化合物,并減少副產(chǎn)物的產(chǎn)生。VUV產(chǎn)生的少量臭氧能夠氧化VUV照射過程中形成的亞硝酸鹽,并阻止溴酸鹽的形成。優(yōu)化VUV∕O3工藝可降低能耗,最小化亞硝酸鹽的生成。但由于VUV輻射在水中的吸收截面高,該體系僅限于小規(guī)模應用〔27〕。

1.5 UV∕TiO2

何燕等〔28〕研究了380 nm紫外光下TiO2對2-MIB的光催化降解效果。結(jié)果表明UV∕TiO2體系對2-MIB有明顯降解作用,紫外照射60 min后可去除95%的2-MIB;水中共存的低濃度腐殖酸(≤0.5 mg∕L)可提高UV∕TiO2體系對2-MIB的降解率;在254、312 nm下,UV∕TiO2體系可大幅降低2-MIB濃度〔29〕。

1.6 降解效果對比

紫外高級氧化技術(shù)處理2-MIB的參數(shù)與效果對比如表1所示。相比于傳統(tǒng)氧化技術(shù),紫外高級氧化技術(shù)在去除2-MIB方面有很大優(yōu)勢,各組合工藝均能較好地降解2-MIB,但都存在一些劣勢,需進一步優(yōu)化。

表1 不同技術(shù)對2-MIB的處理效果對比Table 1 Comparison of treatment effects of different technologies on 2-MIB

UV∕H2O2工藝的缺點在于H2O2殘留,處理結(jié)束時H2O2濃度幾乎與初始濃度相等,而從毒理學角度考慮,環(huán)境中不能存在高濃度的H2O2〔30〕。因此,在殘留過氧化物猝滅成本及二次消毒方面存在挑戰(zhàn)〔31〕。

當氧化劑投加量均為10μmol∕L、反應600 s時,UV∕H2O2體系對2-MIB的降解率為74.2%,UV∕PS體系的降解率達到85.9%。重碳酸根對UV∕H2O2及UV∕PS體系降解2-MIB具有抑制作用,且在UV∕PS體系中表現(xiàn)得更顯著;NOM對上述2個體系也有影響〔32〕。

2 紫外高級氧化組合技術(shù)

UV∕H2O2工藝易出現(xiàn)H2O2殘存,因此在實際工程應用中一般與其他技術(shù)聯(lián)用。

2.1 UV∕H 2O2∕活性炭

A.ZAMYADI等〔33〕將UV∕H2O2與 顆 粒 活 性 炭(GAC)聯(lián)用對殘余H2O2進行催化還原,以免殘余H2O2消耗余氯而影響出水水質(zhì),同時避免H2O2競爭消耗·OH,研究結(jié)果顯示UV∕H2O2∕GAC工藝可很大程度提高出水水質(zhì)。

山東德州雙龍湖水廠出水呈現(xiàn)季節(jié)性嗅味問題,春夏季2-MIB質(zhì)量濃度高達22.4 ng∕L。為解決該問題、提高出水水質(zhì)及口感,該水廠采用UV∕H2O2∕BAC(生物活性炭)進行深度處理〔34〕。實際運行結(jié)果表明,在H2O2最佳質(zhì)量濃度為15~20 mg∕L、UV最佳強度為400 mJ∕cm2條件下,2-MIB去除率提高了85%,出水中的2-MIB保持在3.3 ng∕L以下。該工藝可應對藻類、嗅味物質(zhì)、有機污染等復雜水質(zhì)問題,同時能有效規(guī)避溴酸鹽的生成風險。具體工藝流程如圖1所示。

圖1 雙龍湖水廠凈水工藝流程Fig.1 Water purification process of Shuanglong Lake Water Plant

2.2 UV∕H 2O2+Cl2∕NaClO

焦浩等〔35〕將NaClO與UV∕H2O2工藝聯(lián)用處理濟南鵲華水廠的濾后水,通過加氯中和處理殘余的H2O2,對NaClO投加量進行控制以保證出水余氯含量要求。濾后水中的2-MIB質(zhì)量濃度為275 ng∕L,在紫外光輻射強度為350 mJ∕cm2、H2O2質(zhì)量濃度為6 mg∕L、NaClO投加量為7.5 mg∕L的運行條件下,2-MIB去除率達到96.95%,最終出水水質(zhì)可滿足《生活飲用水衛(wèi)生標準》(GB 5749—2006)要求。當水廠出現(xiàn)偶發(fā)性嗅味超標時,可優(yōu)先考慮UV∕H2O2+Cl2∕NaClO組合技術(shù)作為應急措施。

3 結(jié)論與展望

研究發(fā)現(xiàn)紫外高級氧化技術(shù)可有效去除水中嗅味物質(zhì)2-MIB,充分彌補傳統(tǒng)氧化處理的不足。但目前多數(shù)水廠采用臭氧—活性炭工藝,或臨時投加活性炭處理突發(fā)嗅味污染,采用高級氧化工藝的水廠較少。因此,加強紫外高級氧化技術(shù)對不同水質(zhì)的適用性,可擴大該技術(shù)在水廠中的應用范圍。

(1)UV∕H2O2技術(shù)相對環(huán)保,但H2O2易分解且反應后存在較多殘留。其與其他技術(shù)聯(lián)用可消除殘余H2O2對余氯的影響,有利于推廣應用。UV∕O3工藝中臭氧利用率低,應研究尋找提高利用率的方法。UV∕TiO2技術(shù)對紫外光的利用不充分,催化性不強,應提高TiO2對紫外光的利用率和光催化活性。

(2)關(guān)于紫外高級氧化技術(shù)處理嗅味物質(zhì)中間產(chǎn)物的研究有限。未來應重視對中間產(chǎn)物的研究,掌握污染物變化歷程,有助于提高處理出水水質(zhì)。

(3)實驗室中對紫外高級氧化的研究較為局限。鑒于實際水體中污染物種類多、結(jié)構(gòu)復雜,計算機建模有助于找到具有針對性且經(jīng)濟性的技術(shù),建立可靠數(shù)學模型對未來的研究和應用有極大作用。

(4)尋找環(huán)境友好型氧化劑可彌補高級氧化技術(shù)的不足,有助于該技術(shù)的廣泛應用。

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