畢玉保 王慧芳 張海軍
1)河南科技大學高溫材料研究院 河南洛陽471000
2)山西工程技術(shù)學院 山西陽泉045000
3)武漢科技大學省部共建耐火材料與冶金國家重點實驗室 湖北武漢430081
作為含碳耐火材料的常用碳源,石墨的抗氧化性直接關(guān)乎含碳耐火材料的性能[1-3]。研究石墨的氧化行為,分析其氧化機制,將有助于改進含碳耐火材料的防氧化問題。
對物質(zhì)微觀電子結(jié)構(gòu)的分析可以對物質(zhì)所表現(xiàn)出的宏觀特性賦予合理的解釋,第一性原理就是在此基礎(chǔ)上逐步發(fā)展起來的。近年來,隨著計算機技術(shù)的不斷發(fā)展與完善,第一性原理的計算精度與效率也越來越高,在材料合成、設(shè)計、評價與模擬等方面取得了大量突破性的進展[4-10]。
本工作中,基于第一性原理,采用Materials Studio軟件的CASTEP模塊對石墨的氧化機制進行了探討,并進行了試驗驗證。
基于第一性原理,利用Materials Studio軟件的CASTEP模塊進行計算,在構(gòu)建合適的模型后進行幾何優(yōu)化。計算過程采用廣義梯度近似(GGA)的超軟贗勢來描述微觀粒子間的相互作用;采用GGA的PBE(Perdew Burke Ernzerhof)泛函計算方法來處理電子之間的交換關(guān)聯(lián)能。平面波基函數(shù)的截斷能取340 eV;采用Monkhorsk-Pack方法對對應(yīng)布里淵區(qū)特殊點K-points采樣,設(shè)置為3×3×1;每個原子能量收斂標準為1.0×10-5eV,原子間相互作用力收斂標準為3.0×10-1eV·nm-1,每個原子自洽循環(huán)收斂精度(SCF)設(shè)為1.0×10-6eV,原子最大位移收斂標準為1.0×10-4nm,晶體內(nèi)壓力收斂標準為5.0×10-3GPa[11-12]。
石墨的氧化過程是石墨表層的C原子與吸附在其上的O原子發(fā)生反應(yīng)生成CO而從原來位置脫離并留下空位的過程。在圖1所示的層狀石墨三層C原子的初始結(jié)構(gòu)模型的基礎(chǔ)上,固定下部兩層C原子,對其結(jié)構(gòu)進行幾何優(yōu)化,并根據(jù)下述兩類計算方法來表征不同構(gòu)型的穩(wěn)定性:1)空位型。同時失去石墨表層六個不同位置的C原子,計算體系能量的變化,再根據(jù)系統(tǒng)能量的高低找出最穩(wěn)定的結(jié)構(gòu),以此找出C原子最易失去的位置。2)吸附型。在石墨表層六個不同位置同時吸附O原子,計算體系能量的變化,同樣找出O原子最易被吸附的位置。
圖1 層狀石墨的初始構(gòu)型Fig.1 Initial configuration of graphite
構(gòu)建了同時失去六個C原子的六種空位型構(gòu)型GV-1、GV-2、GV-3、GV-4、GV-5和GV-6,它們幾何優(yōu)化前后的結(jié)構(gòu)模型見圖2,圖中灰度較低的表示失去的C原子。結(jié)果表明,優(yōu)化后表面剩余C原子的位置均發(fā)生了明顯的變化,表明不同位置C原子的失去會對其表面結(jié)構(gòu)產(chǎn)生較大的影響。
圖2 幾何優(yōu)化前后六種空位型構(gòu)型Fig.2 Six vacancy configurations before and after optimization
通過計算對應(yīng)構(gòu)型的單點能,得到圖3所示的六種空位構(gòu)型所對應(yīng)的體系能量。
圖3 優(yōu)化后各空位型結(jié)構(gòu)模型對應(yīng)的體系能量Fig.3 Energy of vacancy configurations after optimization
從圖3可以看出:GV-1型與GV-3型結(jié)構(gòu)所對應(yīng)的能量最低,表明失去此兩類位置處的C原子后易形成穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)。
與空位型構(gòu)型相類似,同樣構(gòu)建了同時吸附六個O原子的六種結(jié)構(gòu)模型GS-1、GS-2、GS-3、GS-4、GS-5和GS-6。六種吸附型構(gòu)型幾何優(yōu)化前后的結(jié)構(gòu)模型見圖4,灰度較高的表示O原子在C原子表層的吸附位置??梢钥闯?,幾何優(yōu)化后O原子大多傾向于以O(shè)原子對的形式存在于石墨的表面,其吸附位置均發(fā)生了較大的改變,有明顯的取向性。
圖4 幾何優(yōu)化前后六種吸附型構(gòu)型Fig.4 Six adsorption configurations before and after optimization
通過計算對應(yīng)構(gòu)型的單點能,得到圖5所示的六種吸附型構(gòu)型所對應(yīng)的體系能量??梢钥闯?,GS-1型與GS-3型吸附模型的體系能量最低,表明O原子最易在這兩類位置處與C原子吸附,形成穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)。
圖5 幾何優(yōu)化后各吸附型結(jié)構(gòu)模型對應(yīng)的體系能量Fig.5 Energy of adsorption configurations after optimization
以上計算結(jié)果表明,無論是以C原子缺失形成的空位構(gòu)型還是以O(shè)原子吸附形成的吸附構(gòu)型,六邊形孔洞或條形孔洞是較易形成的結(jié)構(gòu)。因此,在實際氧化情況下,O原子應(yīng)該優(yōu)先吸附在六元環(huán)上或呈條形分布的C原子上并發(fā)生氧化反應(yīng),導(dǎo)致C原子的氧化失去,形成相應(yīng)的六邊形孔洞或條形溝槽。
為驗證上述計算結(jié)果,將鱗片石墨(≤0.15 mm)在973 K空氣氣氛中加熱30 min,然后用掃描電鏡(JSM-6610,日本)觀察石墨表面的顯微結(jié)構(gòu),結(jié)果見圖6??梢钥闯觯菏趸瘯r表現(xiàn)出部分缺失的現(xiàn)象,且缺失的部分呈六邊形,見圖6(a);部分區(qū)域缺失的六邊形孔洞連接成線,且呈條形排列,見圖6(b),并且從低倍SEM照片下觀察更明顯,見圖6(c)。這一試驗結(jié)果與上述通過計算得到的石墨表面活性位點出現(xiàn)位置相符。
圖6 石墨經(jīng)973 K氧化30 min后的SEM形貌Fig.6 SEM images of graphite oxidized at 973 K for 30 min
通過構(gòu)建石墨表層C原子的不同缺失構(gòu)型,基于第一性原理的廣義梯度近似方法,計算了不同構(gòu)型下體系的穩(wěn)定性。計算結(jié)果顯示:
(1)當層狀石墨以六邊形或條形方式失去C原子,導(dǎo)致結(jié)構(gòu)缺失時,體系的能量最低,結(jié)構(gòu)最穩(wěn)定。
(2)當石墨表面C原子與O原子結(jié)合發(fā)生氧化反應(yīng)時,O原子更易與六邊形或條形方向的C原子結(jié)合。
(3)石墨的實際氧化行為較好地驗證了該計算結(jié)果。