汪瀟,金彪,張小婷,張建武,王宇斌,苑冬冬,楊留栓
(1 河南城建學(xué)院材料與化工學(xué)院,河南 平頂山 467036;2 西安建筑科技大學(xué)資源工程學(xué)院,陜西 西安 710055)
近年來,利用煙氣濕法脫硫石膏(flue-gas desulfurization gypsum,F(xiàn)GD gypsum)為原料制備高附加值的脫硫石膏晶須是實現(xiàn)其綠色高質(zhì)利用的重要途徑之一;采用水熱法并通過陽離子調(diào)控晶須的結(jié)晶,進而探討其作用機理已成為該領(lǐng)域研究的熱點。如Liu 等以分析純CaSO·2HO 為原料制備半水硫酸鈣晶須,研究了Al(SO)·18HO、Fe(SO)、NaSO和MgSO對晶須結(jié)晶形貌的影響;Mao 等以分析純CaCl和HSO為原料,系統(tǒng)地研究了NaCl、KCl、MgCl·6HO、AlCl·6HO、FeCl、CaCl、NaSO和MgCl濃度對半水石膏晶須形貌和尺寸的影響;Hou等以純度為99.0%的CaSO·2HO為原料,分別研究了MgCl、CuCl·2HO和NaCl對制備硫酸鈣晶須長徑比的影響;Yang等以脫硫石膏為原料,分別研究了NaCl、KCl、KSO、MgSO、CuCl·2HO 和MgCl·6HO 對硫酸鈣晶須生長行為和結(jié)晶的影響;Zhao等以牡蠣殼制備的二水硫酸鈣為原料,采用水熱法研究了AlCl對半水硫酸鈣晶須的形態(tài)和長徑比的影響。
上述研究還較為深入地探討了陽離子在晶須結(jié)晶過程中的作用機理。如Liu等認(rèn)為,Na的存在不影響晶須的結(jié)晶形態(tài),Mg、Fe和Al不進入晶須晶格,而是選擇性吸附在(002)晶面上,從而抑制晶須沿軸生長。Mao等研究認(rèn)為,Na可進入晶須晶格,Mg和K可以吸附到晶體新形成的表面上;Hou等的研究發(fā)現(xiàn),Mg通過吸附和摻雜促進了晶須的一維生長。楊娜等的研究表明,Mg與Ca易發(fā)生類質(zhì)同晶取代現(xiàn)象,對晶須的生長無明顯促進作用。Guan 等的研究結(jié)果表明,Cu通過在硫酸鈣晶須側(cè)面配位吸附而阻礙Ca的吸附,促使晶須沿軸方向生長。Wang 等的結(jié)果表明,適量的CuCl可以改善脫硫石膏晶須的結(jié)晶及其長徑比的均勻性,但進一步增加CuCl用量將會引起反應(yīng)溶液中離子強度和溶解度的顯著改變,使得脫硫石膏晶須長徑比降低。
綜上可見,對于相同的陽離子,由于原料性質(zhì)的差異和制備工藝技術(shù)的不同,可能呈現(xiàn)出不同的作用機制。此外,先前的研究還表明:以預(yù)處理后的脫硫石膏為原料,采用無機鹽調(diào)控水熱制備脫硫石膏晶須時,陰離子不僅會影響脫硫石膏晶須結(jié)晶形貌,還會影響陽離子與晶須表面作用形式和作用程度,進而影響晶須的結(jié)晶;與SO和NO相比,Cl對陽離子與晶須表面作用形式和作用程度的影響較小,有利于高品質(zhì)晶須的制備。因此,現(xiàn)有陽離子調(diào)控晶須結(jié)晶的研究成果是否適用于脫硫石膏晶須的水熱制備,仍需進一步探討。
鑒于此,本文以脫硫石膏為原料,研究Cl存在條件下Na、Cu和Al對晶須結(jié)晶的影響,綜合運用多種先進表征技術(shù),結(jié)合溶液化學(xué)分析,探討并揭示其在脫硫石膏晶須水熱制備過程中的作用機理,為脫硫石膏晶須的結(jié)晶調(diào)控提供理論依據(jù)。
試驗原料來自平頂山某電廠煙氣濕法脫硫產(chǎn)生的工業(yè)副產(chǎn)石膏;因同一電廠不同季節(jié)排放的脫硫石膏中二水硫酸鈣的含量、雜質(zhì)種類與含量、顆粒粒徑及分布等均有所不同,不利于其綠色高質(zhì)利用。試驗前對原料進行篩分、球磨、酸洗、浮選預(yù)處理。預(yù)處理后其二水硫酸鈣含量為95%,粉末粒度更均勻,預(yù)處理前后脫硫石膏的化學(xué)組成如表1所示。添加劑分別為NaCl(洛陽化學(xué)試劑有限公司)、CuCl·2HO(天津市東麗區(qū)天大化學(xué)試劑廠)、AlCl·6HO(河北區(qū)海晶精細(xì)化工廠),均為分析純試劑。HSO(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%,洛陽化學(xué)試劑有限公司)。
表1 預(yù)處理前后脫硫石膏的化學(xué)組成(質(zhì)量分?jǐn)?shù))單位:%
將預(yù)處理后的脫硫石膏球磨4h 后轉(zhuǎn)移至反應(yīng)釜內(nèi),以0.1mol/L 硫酸溶液調(diào)節(jié)pH 至預(yù)定值,同時加入適量的添加劑于130℃水熱反應(yīng)6min,其中對照組未加入添加劑,其他添加劑的用量均為脫硫石膏1.50%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),對照組和添加劑為NaCl、CuCl的反應(yīng)料漿,pH 調(diào)節(jié)至3,添加劑為AlCl的反應(yīng)料漿pH 調(diào)節(jié)至5。反應(yīng)結(jié)束后過濾、洗滌、干燥,并對樣品進行檢測分析。
采用ZSXPrimusⅡ型波長色散X 射線熒光光譜儀(XRF,日本理學(xué))分析試樣化學(xué)組成,采用QUANTA450 型掃描電子顯微鏡(SEM,荷蘭FEI公司)觀測樣品的微觀形貌;X′PertPrOMPD 型X射線衍射儀(XRD,荷蘭帕納科公司)分析樣品物相,檢測時采用鎳濾波片、Cu 靶,管電壓和管電流分別為40kV 和40mA;NicoletiS10 型傅里葉變換紅外光譜儀(FTIR,賽默飛世爾科技公司)檢測樣品表面基團,掃描范圍4000~400cm,波數(shù)精度±0.01cm,最小分辨率0.09cm;表面元素及其結(jié)合能利用K-Alpha型X射線光電子能譜儀(XPS,賽默飛世爾科技公司)檢測,Al 靶,激發(fā)源能量1436.8eV,分辨率0.1eV。將試樣SEM 照片導(dǎo)入繪圖軟件中用于測量晶須的長度和直徑,至少選取50 根以上的硫酸鈣晶須,分別在放大300 倍、3000 倍倍率下測定其長度和直徑,并將測量結(jié)果導(dǎo)入Excel,統(tǒng)計長徑比的分布區(qū)間,并按照95%的置信區(qū)間,得出晶須的長徑比。
為研究陽離子對晶須結(jié)晶形貌和品質(zhì)的影響,對不同水熱條件下制備的晶須試樣進行了SEM 分析,其結(jié)果如圖1所示。
由圖1 可知,在Cl存在條件下,Na、Cu、Al均可改善晶須的結(jié)晶品質(zhì),但作用效果明顯不同,所制備的水熱產(chǎn)物微觀形貌差異顯著。無添加劑時,水熱產(chǎn)物存在顆粒狀、短柱狀等多種形貌共存的現(xiàn)象;經(jīng)Na作用后水熱產(chǎn)物中顆粒狀形貌基本消失,但水熱產(chǎn)物出現(xiàn)粗化現(xiàn)象;經(jīng)Cu作用后水熱產(chǎn)物長度顯著增加、直徑明顯減小,其分布更加均勻,此時晶須表面更加光潔,無明顯缺陷存在,并且除晶須外水熱產(chǎn)物中無其他形貌出現(xiàn);經(jīng)Al作用后水熱產(chǎn)物出現(xiàn)分叉現(xiàn)象。這表明,在Cl存在條件下,水熱反應(yīng)過程中Na、Cu、Al對脫硫石膏晶須的結(jié)晶和品質(zhì)影響較大。
脫硫石膏晶須長徑比與陽離子的關(guān)系如圖2所示。當(dāng)無添加劑時,制備出的脫硫石膏晶須長徑比較小,約54;經(jīng)Na、Cu和Al作用后的脫硫石膏晶須長徑比分別為70、200和85。結(jié)合圖1可以發(fā)現(xiàn),以預(yù)處理后的脫硫石膏為原料,采用水熱法制備脫硫石膏晶須時,NaCl、CuCl、AlCl均可提高晶須長徑比并改善其品質(zhì),但作用效果差異明顯,呈Cu、Al、Na依次減弱的規(guī)律。
圖1 不同陽離子作用下水熱制備脫硫石膏晶須的SEM照片
圖2 不同陽離子作用下水熱制備的脫硫石膏晶須的長徑比
為闡明陽離子對晶須晶體結(jié)構(gòu)的影響,對脫硫石膏晶須樣品進行了XRD 分析及(200)、(020)、(400)晶面對應(yīng)的特征衍射峰峰位窄譜圖分析。
由圖3可知,經(jīng)不同陽離子作用后的水熱產(chǎn)物均未有其他物相出現(xiàn),但其主要特征衍射峰的強度、峰形及峰位存在一定差別。與無添加劑時制備的晶須樣品相比,經(jīng)Na作用后水熱產(chǎn)物的特征衍射峰峰位未發(fā)生偏移,但其(200)、(020)和(400)晶面的特征衍射峰均出現(xiàn)峰形鈍化、強度減弱的現(xiàn)象,表明Na并未進入晶體晶格,但會抑制上述晶面的生長,使晶須結(jié)晶程度劣化。在Cu作用下,水熱產(chǎn)物的結(jié)晶程度較好,其主要晶面特征衍射峰峰形尖銳,峰位發(fā)生明顯偏移,對應(yīng)的2角均呈增大趨勢。表明少量的Cu取代Ca進入晶須晶格,改善了晶須結(jié)晶程度,使晶面間距縮小,晶須直徑細(xì)化。經(jīng)Al作用后晶須特征衍射峰強度、峰形及峰位并未發(fā)生明顯改變。由此可見,在Cl存在條件下,Na、Cu和Al對脫硫石膏晶須結(jié)晶形貌和晶體結(jié)構(gòu)的影響并不完全相同,這可能是陽離子自身性能差異所致。
圖3 脫硫石膏晶須的XRD衍射圖譜和主要晶面窄譜圖
為研究Cl存在條件下Na、Cu、Al對脫硫石膏晶須表面特性的影響,揭示其作用機理,對脫硫石膏水熱產(chǎn)物進行了FTIR分析,結(jié)果如圖4所示。
由圖4可知,在不同陽離子作用下制備的水熱產(chǎn)物,其紅外光譜特征峰峰位和峰強度均發(fā)生不同程度的變化。與未添加陽離子制備的水熱產(chǎn)物相比,經(jīng)Na、Cu和Al作用后的水熱產(chǎn)物,位于3613.95cm和1621.84cm處結(jié)晶水的羥基伸縮振動峰和變角振動吸收峰,3556.10cm處吸附水的羥基吸收峰的峰位均無明顯變化;位于664.16cm和601.68cm處SO的不對稱變角振動吸收峰峰強度均增強。同時,位于1208.61cm處的SO基團的反對稱伸縮振動吸收峰的峰位均出現(xiàn)了向低波數(shù)偏移的現(xiàn)象,而位于1010.52cm處的SO對稱伸縮振動吸收峰強度明顯增強,其中Cu的增強現(xiàn)象更顯著。由此可見,Cu對脫硫石膏晶須的表面特性影響顯著,Al、Na次之。為深入探索陽離子對SO基團的作用,對其進行了分峰處理,結(jié)果如圖5所示。
圖4 脫硫石膏水熱產(chǎn)物的紅外光譜圖和局部放大圖
由圖5可以看出,經(jīng)Na和Al作用后水熱產(chǎn)物表面未出現(xiàn)新的SO特征吸收峰,經(jīng)Cu作用后水熱產(chǎn)物表面出現(xiàn)了硫酸銅中SO的特征吸收峰,這表明Cu化學(xué)吸附于脫硫石膏晶須表面,與SO發(fā)生反應(yīng)生成CuSO。由于Cu的極化率大于Ca,與SO的反應(yīng)可使其電子云發(fā)生漂移,導(dǎo)致其鍵型由離子鍵向共價鍵轉(zhuǎn)化,從而降低了離子間的晶格能,使SO的鍵長增大,進而使其吸收峰增強。Na和Al因與Ca的電價差異,更易在晶須表面發(fā)生物理吸附,從而使SO基團峰位均向低波數(shù)漂移。由此可見,Cu通過化學(xué)吸附作用于脫硫石膏晶須表面,Na和Al則通過物理吸附作用于脫硫石膏晶須表面。
圖5 不同陽離子作用下SO42-官能團的紅外分峰擬合圖
為進一步研究陽離子與脫硫石膏晶須表面的作用方式和作用程度,對水熱產(chǎn)物進行了XPS 分析,結(jié)果如圖6、圖7所示。
由圖6 可知,脫硫石膏晶須表面主要由Ca、S和O 等元素組成。與無陽離子作用下水熱產(chǎn)物相比,經(jīng)Na、Cu、Al分別作用下的水熱產(chǎn)物,其XPS 全譜圖未發(fā)現(xiàn)明顯區(qū)別。然而,圖7 與表2 所示的試樣氧元素電子結(jié)合能窄譜分析結(jié)果表明,經(jīng)Cu和Al作用后的水熱產(chǎn)物表面分別出現(xiàn)了Cu—O鍵和Al—O 鍵,結(jié)合能比例分別為氧元素電子結(jié)合能狀態(tài)的10.71%和16.74%。這表明Cu和Al均可吸附在晶須表面與SO相互作用。此外,經(jīng)Na、Cu、Al作用后的晶須樣品表面氧元素結(jié)合能發(fā)生了漂移,分別從531.58eV 漂移至531.42eV、531.62eV和531.53eV。
表2 氧的價鍵形式及其分布
圖6 脫硫石膏晶須XPS全譜圖
圖7 不同陽離子作用下脫硫石膏晶須樣品中氧元素的XPS窄譜圖
上述研究結(jié)果表明,在Cl存在條件下,Na、Cu、Al對脫硫石膏晶須結(jié)晶形貌、結(jié)晶程度、表面特性均有一定影響,且其與晶須表面作用方式和作用程度明顯不同。這可能與陽離子自身特性及其在反應(yīng)溶液中的存在形式有重要關(guān)系。為深入探索陽離子在脫硫石膏晶須水熱制備過程中的作用機理,分別對Cu和Al的相對含量與pH的關(guān)系進行了研究,其結(jié)果如圖8所示。
由圖8(a)可知,Cu在溶液中以Cu、Cu(OH)、Cu(OH)、Cu(OH)、Cu(OH)形式存在。當(dāng)以CuCl為添加劑時,反應(yīng)溶液的pH 為3,此時溶液中全部為Cu。溶液中的Cu進入晶體晶格,其與Ca競爭結(jié)合水的能力加強,促進了Ca的去溶劑化,加快晶須的形核與生長。由于Cu(0.073nm)的半徑小于Ca(0.100nm)的半徑,其半徑差為26.8%,與SO作用時會導(dǎo)致其鍵強增大,使平行于軸的晶面呈收縮趨勢,導(dǎo)致(200)、(020)和(400)晶面間距縮小,從而阻礙了生長基元Ca和SO在這些晶面的生長,使得脫硫石膏晶須徑向生長受阻,長徑比增大。這與XRD 和晶須的長徑比分析結(jié)果一致。同時,由于硫酸鈣晶須的(200)面、(400)面和(020)面均平行于軸,這三個晶面Ca與SO的數(shù)量之比分別為0.79、0.79 和0.91,整體均呈負(fù)電。因此溶液中Cu可與上述晶面發(fā)生化學(xué)吸附形成CuSO膜層,圖5 中SO官能團的紅外分峰圖譜證實了這一點。此外,由于(002)晶面具有更高的原子排列密度,(020)晶面次之,(200)晶面則最低,使得反應(yīng)溶液中Na、Cu、Al更易在(200)晶面周圍聚集,(020)次之,迫使Ca向(002)晶面移動,加快晶須沿軸生長,導(dǎo)致(002)晶面附近溶液中Ca和SO濃度相對降低,在濃度梯度的作用下,Ca和SO向(002)晶面遷移速度加快,進一步促使晶須沿軸生長。因此,Cu不僅可以進入晶須晶格,還在晶須表面形成CuSO膜層,在二者協(xié)同作用下促進了脫硫石膏晶須的結(jié)晶生長。
由圖8(b)還可知,Al在溶液中主要以Al、Al(OH)、Al(OH)、Al(OH)、Al(OH)形式存在。當(dāng)以AlCl為添加劑、反應(yīng)溶液pH 為5 時,Al和Al(OH)占優(yōu),同時溶液中存在少量Al(OH)、Al(OH)。因此,綜合Al的成分分布系數(shù)[圖8(b)]和XPS分析結(jié)果[圖7(d)]可知,Al的羥基化反應(yīng)是導(dǎo)致晶須表面Al—O鍵形成的原因所在。為了證實AlCl的加入會影響水熱產(chǎn)物表面羥基的存在形式,進一步對不同陽離子作用下試樣的羥基官能團進行了紅外分峰擬合,其結(jié)果如圖9所示。
圖8 pH與Cu2+和Al3+成分分布系數(shù)圖
由圖9 可以發(fā)現(xiàn),經(jīng)NaCl 和CuCl作用后水熱產(chǎn)物表面未出現(xiàn)新的羥基基團,而以AlCl為添加劑制備的脫硫石膏晶須表面出現(xiàn)了氫氧化鋁的羥基。由于Al可吸附在帶負(fù)電的(200)、(400)和(020)晶面,與反應(yīng)溶液中的OH發(fā)生羥基化反應(yīng)生成Al(OH)和Al(OH),降低這些晶面的表面能。同時,結(jié)合XPS分析可知,Al—O間形成羥基化同時,由于Al(0.054nm)與Ca(0.100nm)相比,半徑更小,且電價更高,極化力遠(yuǎn)強于Ca,使其很難取代Ca進入晶須晶格,這與XRD、XPS和紅外光譜分析結(jié)果一致。
圖9 不同陽離子作用下試樣羥基官能團的紅外分峰擬合圖
Mao等和本研究結(jié)果表明,Na和Al在晶須不同晶面上的選擇性吸附是造成水熱產(chǎn)物結(jié)晶形貌和長徑比差異的主要原因。然而,Rabizadeh 等研究認(rèn)為Na可以進入晶須晶格,而Al通過在(100)、(110)晶面的吸附和在晶體中的摻雜改變產(chǎn)物的結(jié)晶形貌。Guan等的研究表明,Cu可優(yōu)先吸附在(110)晶面上促使α-CaSO·0.5HO 晶須沿軸生長。本研究則表明,Cu不僅可化學(xué)吸附在晶須表面,還可取代Ca進入晶須晶格,從而形成Cu—O—S鍵;而Na和Al均通過靜電吸附形式作用于晶須,且Al的羥基化反應(yīng)導(dǎo)致了晶須表面Al—O—H 的產(chǎn)生,這也是Na和Al降低晶須表面氧元素的結(jié)合能,而Cu增加其結(jié)合能的原因所在。因此,現(xiàn)有的研究結(jié)果表明,原料性質(zhì)的差異和制備工藝技術(shù)的不同,可能會導(dǎo)致相同陽離子呈現(xiàn)出不同的作用機制,這仍值得深入探討。
(1)以預(yù)處理后的脫硫石膏為原料,以NaCl、CuCl、AlCl為添加劑采用水熱法制備脫硫石膏晶須時,在Cl存在條件下,Na、Cu、Al對晶須的結(jié)晶形貌、物相、表面特性和長徑比均有影響,但作用效果明顯不同,呈Cu、Al、Na依次減弱的規(guī)律。
(2)在Cl存在條件下,Cu不僅可以化學(xué)吸附在晶須(200)、(400)和(020)晶面,形成CuSO膜層使其徑向生長受阻;少部分還可取代Ca進入晶須晶格,兩種方式協(xié)同作用改善了脫硫石膏晶須的結(jié)晶生長,提高了其長徑比。
(3)在Cl存在條件下,Na和Al均通過靜電吸附形式作用于脫硫石膏晶須(200)、(400)和(020)晶面而阻礙脫硫石膏徑向生長。此外,Al與溶液中的OH通過羥基化反應(yīng)生成Al(OH)和Al(OH)+并吸附在帶負(fù)電的(200)、(400)和(020)晶面,降低了這些晶面的表面能,從而促進脫硫石膏晶須沿軸生長。