李海升,劉 坤,李文亞,吳 東,顏 華
(1. 成都飛機(jī)工業(yè)(集團(tuán))有限責(zé)任公司,四川 成都 610092;2. 西北工業(yè)大學(xué) a.凝固技術(shù)國家重點實驗室, b.陜西省摩擦焊接工程技術(shù)重點實驗室,陜西 西安 710072)
微動磨損是指緊固連接的結(jié)構(gòu)件之間發(fā)生的微小幅度震蕩位移(通常為微米級)引起的材料磨損,往往導(dǎo)致材料發(fā)生剝落、腐蝕和開裂等破壞形式[1]。據(jù)估計在航空結(jié)構(gòu)破壞中涉及微動損傷的比例高達(dá)90%[2]。鈦及鈦合金作為航空航天領(lǐng)域應(yīng)用最為廣泛的材料[3],因其摩擦系數(shù)高、耐磨性差,常常面臨著微動磨損失效的威脅。TC4 鈦合金(Ti - 6Al - 4V)是一種雙相合金,因其具有出色的綜合性能成為航空航天領(lǐng)域應(yīng)用范圍最廣、用量最大的王牌合金[4]。表面涂層和表面改性技術(shù)是提高鈦合金微動損傷抗力的常用方法,CuNiIn是一種軟質(zhì)合金,涂層硬度較低,有助于增大接觸面積從而降低接觸應(yīng)力,且易于剪切,從而在配副材料表面形成覆蓋接觸區(qū)的摩擦轉(zhuǎn)移層,降低副配材料對基體微動損傷,因此通常用作壓氣機(jī)葉片的工作面抗微動磨損涂層[5, 6]。常用的CuNiIn涂層制備方法有超音速火焰噴涂、等離子噴涂以及爆炸噴涂等[7-11]。然而,這些熱噴涂方法均存在過高的熱輸入問題,不可避免地會影響涂層與基體性能。冷噴涂作為一種固相沉積技術(shù),工作溫度低于噴涂材料熔點,沉積效率高,受到專家學(xué)者與企業(yè)的廣泛關(guān)注。目前關(guān)于冷噴涂CuNiIn的公開報道只有1篇,Li等[12]最早利用氬氣送粉、空氣作為加速氣體在TC4表面冷噴涂制備了CuNiIn涂層,涂層孔隙率低于大部分熱噴涂層,說明了冷噴涂技術(shù)在CuNiIn涂層制備中具有很大的潛力。本研究在此基礎(chǔ)上使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏w,進(jìn)一步研究冷噴涂技術(shù)制備的CuNiIn涂層的組織特征、顯微硬度及微動磨損性能,為后續(xù)研究與應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。
冷噴涂試驗所用基板為TC4鈦合金板材,微動磨損試樣基板尺寸為φ24.0 mm×7.6 mm。噴涂所用粉末為Amdry 500F CuNiIn粉,粉末宏微觀形貌及粒徑分布如圖1所示,粉末球形度較高,粒徑較大的顆粒表面呈發(fā)達(dá)的近似等軸花瓣狀的胞狀枝晶組織,部分顆粒外表附著有少量的“衛(wèi)星粉”。圖1c為粉末顆粒經(jīng)5 mL FeCl3+10 mL HCl+100 mL H2O腐蝕液腐蝕后的截面形貌,粉末內(nèi)部主要以細(xì)小的樹枝晶為主。圖1d為采用Winner2000ZDE激光粒度儀測試的粉末粒徑分布結(jié)果,粉末平均粒徑D50=40 μm。
圖1 CuNiIn粉末宏微觀形貌及粒徑分布
冷噴涂試驗依托西北工業(yè)大學(xué)自主搭建的冷噴涂系統(tǒng)完成,使用ABB六軸機(jī)械手控制基板移動來實現(xiàn)涂層制備,冷噴涂參數(shù)如下:氣體種類為氮?dú)猓瑖娡繙囟?00 ℃,噴涂壓力3.0 MPa,噴涂距離20 mm,送粉速率1 r/min。噴涂前使用酒精對基板進(jìn)行超聲清洗,并使用60目的剛玉砂礫對基板進(jìn)行噴砂處理,噴砂氣壓為0.6 MPa。
使用線切割對制得的CuNiIn涂層截取橫截面,經(jīng)鑲嵌、研磨、拋光后,用OLYMPUS - GX71光學(xué)顯微鏡(OM)和VEGA3 TESCAN掃描電鏡(SEM)觀察涂層的宏/微觀組織形貌和涂層與基體界面結(jié)合情況。
使用Image - Pro圖像處理軟件對涂層孔隙率進(jìn)行統(tǒng)計分析。
采用LECO維氏硬度計測量涂層的顯微硬度,壓頭載荷2 N,保壓時間15 s。在涂層一側(cè),沿厚度方向每隔100 μm取1條直線,在該直線上均勻選取15個點測量硬度值,最后根據(jù)測量值計算涂層平均硬度以及涂層硬度沿厚度方向的變化。
微動磨損試驗在SRV - Ⅳ微動磨損試驗機(jī)上進(jìn)行,采用球/平面接觸方式,摩擦副配材料選用φ=10 mm的TC4球,以往復(fù)運(yùn)動的形式進(jìn)行,試驗參數(shù)如下:室溫,行程100,400 μm,載荷100 N,頻率10 Hz,時長60,30 min。測試完成后使用光學(xué)顯微鏡對試樣磨損形貌進(jìn)行觀察,并對磨痕深度進(jìn)行測量。
圖2為冷噴涂CuNiIn涂層組織形貌。從光學(xué)顯微鏡照片(圖2a)可以明顯看出涂層內(nèi)部的孔洞缺陷,通過Image - Pro圖像處理軟件采用面積法測定涂層中的孔隙率為2.8%,從光鏡照片還可以看出涂層孔隙率沿厚度方向發(fā)生變化,靠近基體處最低,越接近涂層表面孔隙率越高,以圖2a中虛線為界,靠近基體一側(cè)涂層孔隙率約為2.1%,遠(yuǎn)離基體一側(cè)孔隙率約為3.0%,這是由于所采用的粉末顆粒尺寸較大以及后續(xù)沉積的顆粒對已沉積涂層表面的夯實作用導(dǎo)致的[13]。從圖2b所示的涂層SEM形貌中可以明顯看出涂層組織的不同取向,從而分辨出顆粒邊界,顆粒越小,變形越嚴(yán)重,這一邊界就會愈發(fā)模糊甚至消失,這說明在絕熱剪切失穩(wěn)效應(yīng)下顆粒之間形成了冶金結(jié)合[14]。涂層晶粒組織較粉末組織有明顯細(xì)化,這是顆粒變形中動態(tài)再結(jié)晶的結(jié)果[15]。同時涂層與基體界面存在明顯的未結(jié)合界面,這主要是因為CuNiIn顆粒與基體主要以機(jī)械咬合的方式形成沉積,粉末顆粒變形產(chǎn)生的機(jī)械咬合力不足以抵抗顆粒撞擊基板產(chǎn)生的應(yīng)力,也正是這個原因,噴涂前必須對基板進(jìn)行噴砂處理以達(dá)到增加表面粗糙度、活化表面的目的。
圖2 涂層形貌
測得涂層沿厚度方向與基體距離100,200,300 μm處硬度分別為274,300,297 HV2 N。沿厚度方向涂層硬度呈增大趨勢,接近基體涂層硬度平均值為274 HV2 N,但是距離基體較遠(yuǎn)的涂層的硬度變化并不明顯。這是由于最先沉積到基板的涂層受到后續(xù)沉積涂層的持續(xù)熱輸入影響,殘余應(yīng)力釋放較表面涂層更充分,越靠近表面涂層散熱越快,殘余應(yīng)力釋放較小。對于冷噴涂制備的涂層而言,硬度在較大程度上受應(yīng)力影響,本研究的應(yīng)力分布狀態(tài)與之前的研究結(jié)果吻合[16]。因此在靠近基體處硬度值較小,而靠近表面硬度增大,這與Balani等[17]的研究結(jié)果類似。可以確定的是,當(dāng)涂層厚度繼續(xù)增加時表面涂層硬度值將穩(wěn)定在300 HV2 N左右。典型的硬度壓痕形貌如圖3所示。
圖3 涂層顯微硬度典型壓痕形貌
圖4為100 μm和400 μm微動行程下涂層摩擦系數(shù)隨微動循環(huán)次數(shù)的變化曲線。
圖4 微動過程中涂層摩擦系數(shù)變化曲線
剛開始的數(shù)個循環(huán)由于涂層表面氧化膜在摩擦作用下發(fā)生破碎,涂層摩擦系數(shù)迅速升高至0.79和0.98。隨后摩擦系數(shù)急劇減小,是由于黏著磨損的發(fā)生產(chǎn)生了第三體粒子,具有一定的潤滑作用[18]。涂層的摩擦系數(shù)表現(xiàn)出劇烈的浮動,表明涂層處于磨粒磨損狀態(tài),在摩擦作用下循環(huán)發(fā)生第三體磨粒的產(chǎn)生和轉(zhuǎn)移過程。顯然,400 μm行程參數(shù)下涂層的磨粒磨損更為嚴(yán)重。100 μm行程參數(shù)下涂層的摩擦系數(shù)變化曲線相對穩(wěn)定平滑,說明經(jīng)過前期的磨粒磨損過程后,涂層處于長期的黏著磨損狀態(tài)。
圖5為掃描電鏡下涂層磨損區(qū)二維形貌。100 μm位移條件下的磨損形貌為橢圓形,與400 μm條件下磨損形貌比較,沿著微動方向并無太大差別,但是垂直于微動方向,400 μm位移下的涂層損傷區(qū)域明顯擴(kuò)大,磨損形貌接近于圓形,說明該位移下涂層磨損過程中材料流動比較充分。
圖5 磨痕表面形貌
圖6為涂層磨損深度沿垂直于微動方向的變化曲線。100 μm位移下涂層的最大磨損深度為43.1 μm,400 μm位移下涂層最大磨損深度為115.1 μm,最大深度都為磨損的中心區(qū)域。值得關(guān)注的是,由于黏著磨損作用,100 μm位移下磨屑在磨痕的邊緣堆積形成高度不一的山脊輪廓,并且在圖5c中可以看到?jīng)]明顯的硬化層,而圖5d中400 μm位移下的磨痕并無硬化層的產(chǎn)生,這也印證了位移較大時涂層的磨損主要與磨粒磨損過程有關(guān)。
圖6 磨痕深度變化曲線
(1)在當(dāng)前噴涂工藝參數(shù)與所用粒度較大粉末條件下,所制備CuNiIn涂層孔隙率約2.8%,靠近基體一側(cè)涂層孔隙率低于遠(yuǎn)離基體側(cè)。變形量較大的顆粒在絕熱剪切失穩(wěn)作用下形成冶金結(jié)合,部分顆粒處于機(jī)械咬合狀態(tài),涂層組織較粉末原始組織細(xì)化,涂層與基體以機(jī)械咬合的形式形成沉積。
(2)涂層顯微硬度沿厚度方向呈增大趨勢??拷w一側(cè)涂層硬度平均值為274 HV2 N,隨著厚度增加涂層硬度增大到300 HV2 N并保持穩(wěn)定。
(3)微動磨損試驗表明,100 μm位移和400 μm位移條件下涂層的微動磨損機(jī)制有明顯區(qū)別。100 μm位移時涂層的磨損形貌為橢圓形,微動磨損失效方式以黏著磨損為主,400 μm位移條件下涂層磨損形貌接近圓形,涂層失效方式以磨粒磨損為主。隨著位移增大涂層磨損過程中材料流動更充分,磨損深度增加。