周子牛,敬 成,魯金科,趙 浩
(1.三峽大學(xué) 電氣與新能源學(xué)院,湖北 宜昌 443000;2.國網(wǎng)廣元供電公司,四川 廣元 628000)
相較于傳統(tǒng)Si 基器件,GaN 器件因其開關(guān)頻率高、導(dǎo)通電阻低的優(yōu)點(diǎn),在高頻、高功率密度的變換器中有著廣闊的應(yīng)用前景[1]。但是氮化鎵器件在實(shí)際應(yīng)用中面臨一系列可靠性問題,動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象是其中重要的問題之一[2]。
動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象指的是當(dāng)?shù)壠骷母邏鹤钄酄顟B(tài)進(jìn)入到導(dǎo)通狀態(tài)后,由于“虛柵”效應(yīng)以及熱電子注入現(xiàn)象,導(dǎo)致導(dǎo)通電阻大于靜態(tài)導(dǎo)通電阻(即標(biāo)稱導(dǎo)通電阻)[3]。動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象會增大氮化鎵器件的通態(tài)損耗并降低變換器效率,同時(shí)也會導(dǎo)致器件的溫升更加嚴(yán)重[2]。研究動態(tài)導(dǎo)通電阻的變化規(guī)律,有利于準(zhǔn)確評估氮化鎵器件通態(tài)損耗、優(yōu)化變換器散熱設(shè)計(jì)以及提高變換器功率密度。
目前已有文獻(xiàn)研究了不同工作條件下氮化鎵器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的變化規(guī)律。文獻(xiàn)[4]利用雙脈沖測試電路評估了氮化鎵器件的動態(tài)導(dǎo)通電阻變化規(guī)律,但是雙脈沖測試電路存在斷態(tài)電壓應(yīng)力時(shí)間無法控制的問題,且注入被測器件的電流會隨時(shí)間變化,會在被測器件上產(chǎn)生壓降,影響測試精度。文獻(xiàn)[5]利用電壓源與被測器件、電阻相串聯(lián)的方式研究了斷態(tài)電壓大小對被測器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的影響,但是注入被測器件的電流未經(jīng)過反饋控制,會隨著被測氮化鎵器件導(dǎo)通電阻的變化而發(fā)生變化。變化的測量電流會影響導(dǎo)通電阻測量的精度。相比之下,使用恒流源測試可避免因電流變化導(dǎo)致的測量誤差?,F(xiàn)有的恒流源測試方案[6]中所設(shè)計(jì)的恒流源性能如表1 所示,這些恒流源穩(wěn)定時(shí)間較長且輸出電流能力有限,不僅難以滿足在線監(jiān)測導(dǎo)通電阻的需求,而且使得導(dǎo)通電壓的測量較為困難。
表1 現(xiàn)有恒流源測試方案的性能
針對上述問題,本文提出一種基于高速脈沖恒流源的脈沖電流?電壓測試平臺及其測試方法。所設(shè)計(jì)的恒流源輸出能力強(qiáng),穩(wěn)定速度快,不僅使得測量被測器件導(dǎo)通電壓較為容易,還具有在線監(jiān)測高頻下GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻變化的潛力。此外,通過所設(shè)計(jì)的測試平臺,從溫度、斷態(tài)電壓應(yīng)力和斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間等方面對兩款增強(qiáng)型GaN 器件做了較為詳細(xì)的動態(tài)導(dǎo)通電阻測量。
本文采用的測試平臺結(jié)構(gòu)如圖1a)所示,該平臺由半橋電路、高速脈沖恒流源、加熱臺以及鉗位電路構(gòu)成。其中半橋電路的上管Q1為輔助管,下管Q2為被測器件。在該平臺中,半橋電路為被測器件提供測試條件,高速脈沖恒流源為被測器件注入恒定的測試電流,鉗位電路用以獲取被測器件的導(dǎo)通電壓,加熱臺用以模擬被測器件的環(huán)境溫度。通過所提出的測試平臺,可以評估斷態(tài)電壓及溫度變化時(shí)氮化鎵器件的動態(tài)導(dǎo)通電阻的變化情況。平臺測試的時(shí)序圖如圖1b)所示。
圖1 GaN 動態(tài)導(dǎo)通電阻測試平臺及測試時(shí)序圖
1.1.1 高速脈沖恒流源
測試平臺中的高速脈沖恒流源電路如圖2a)所示。該高速脈沖恒流源由差動放大電路、PI(比例?積分)調(diào)節(jié)電路以及控制電路構(gòu)成,可以輸出高精度、低延時(shí)的測試電流。Rs為電流采樣電阻,P 型MOS 管T 用于電流控制,R3、R4、C2和運(yùn)算放大器OP2構(gòu)成PI 調(diào)節(jié)電路,R1、R2與運(yùn)算放大器OP1構(gòu)成差動放大電路。當(dāng)被測器件導(dǎo)通時(shí),電流經(jīng)Rs和二極管D1輸出,在Rs上產(chǎn)生的電壓被差動放大器采樣,運(yùn)算放大器OP1的輸出電壓與參考電壓VC比較并經(jīng)過PI 調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)后,運(yùn)算放大器OP2的輸出電壓控制T 在飽和區(qū)的飽和程度以調(diào)節(jié)輸出電流。通過設(shè)定R1、R2、Rs及VC可以調(diào)節(jié)輸出電流。
圖2 高速脈沖恒流源
恒流源輸入側(cè)的超級電容C1用于維持輸出電流,PI調(diào)節(jié)器參數(shù)需要妥善配置以防止輸出電流振蕩。為了確保輸出電流的高精度,采樣電阻的精度設(shè)置為0.1%,溫漂為25 ppm。運(yùn)算放大器OP1和OP2具有較高的壓擺率,保障了輸出電流的低延時(shí)以及快速穩(wěn)定能力。所設(shè)計(jì)的恒流源輸出電流為20 A,輸出電流可在0.5 μs 左右達(dá)到穩(wěn)定值,測試波形如圖2b)所示。
1.1.2 鉗位電路
導(dǎo)通電阻的測量基于被測器件漏源極導(dǎo)通電壓和漏極電流的測量。在本文中,漏極電流由高速脈沖恒流源設(shè)定并通過采樣電阻實(shí)現(xiàn)測量,故只需要測量漏源極導(dǎo)通電壓即可測得導(dǎo)通電阻。導(dǎo)通電壓的測量則面臨開關(guān)前后壓差過大引起的測量誤差問題[9],為了解決這一問題,本文采用一種鉗位電路,既能鉗位被測器件的斷態(tài)電壓應(yīng)力,又可以準(zhǔn)確反映被測器件的導(dǎo)通電壓。
本文采用的鉗位電路圖如圖1a)所示,該電路由N溝道MOSFET M、穩(wěn)壓二極管Dz、附加電壓源VG構(gòu)成。其工作原理如下:當(dāng)被測器件關(guān)斷時(shí),電流流經(jīng)M 和Dz,M 的源極升高,M 的VGS降低,流經(jīng)Dz的電流降低,最終,測量電壓VDS,m即Dz的電壓,會穩(wěn)定在VG-Vth,M(Vth,M為M的閾值電壓);當(dāng)被測器件導(dǎo)通時(shí),M 漏極和源極之間的電壓下降,穩(wěn)壓管電壓值小于穩(wěn)壓值,M 的VGS>Vth,M,M完全導(dǎo)通,但M 漏源極壓差很小,流經(jīng)M 的電流極小,M上的壓降可以忽略,此時(shí)Dz的電壓即為導(dǎo)通電壓。利用鉗位電路測得的被測器件的導(dǎo)通電壓如圖2b)所示。
本文的測試平臺利用圖1a)中開關(guān)管Q1控制被測器件Q2的斷態(tài)電壓,具體工作時(shí)序如圖1b)所示。t1~t2時(shí)段中Q1導(dǎo)通,Q2關(guān)斷,Q2承受斷態(tài)電壓VIN。為了防止Q1、Q2同時(shí)導(dǎo)通,引入死區(qū)時(shí)段t2~t3;t3~t4時(shí)段中,Q1關(guān)斷,Q2導(dǎo)通,恒流源為Q2注入電流,此時(shí)測量Q2導(dǎo)通電壓并計(jì)算導(dǎo)通電阻。記t1~t2時(shí)段為施加應(yīng)力時(shí)段ts,t3~t4為測試時(shí)間tm,調(diào)整ts時(shí)長可以調(diào)整被測器件的斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間,調(diào)整VIN可以調(diào)整被測器件承受斷態(tài)電壓的大小。
當(dāng)施加應(yīng)力時(shí)間ts為1 μs,測試時(shí)間tm為1 μs 時(shí),本測試平臺可以用于500 kHz 高頻下GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的在線監(jiān)測。
基于上述測試方法,選取額定電壓分別為650 V 的GS66508B 和200 V 的EPC2019 兩種增強(qiáng)型GaN 器件進(jìn)行動態(tài)導(dǎo)通電阻測試,二者的標(biāo)稱導(dǎo)通電阻分別為50 mΩ 和42 mΩ。被測器件封裝形式分別為GaNPX 和BGA,根據(jù)被測器件的封裝特點(diǎn),分別設(shè)計(jì)并優(yōu)化測試平臺,完成兩款測試平臺的搭建。通過示波器讀取鉗位電路測得的導(dǎo)通電壓VDS,m與恒流源輸出電流ICS,如圖2b)所示,并計(jì)算導(dǎo)通電阻Ron=VDS,m/ICS。按照圖1b)的測試時(shí)序設(shè)置不同的測試條件,測試對應(yīng)條件下GaN器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的變化,繪制以影響因素為自變量,以tm時(shí)段內(nèi)平均導(dǎo)通電阻與標(biāo)稱導(dǎo)通電阻的歸一化導(dǎo)通電阻之比Ron/Rdc為因變量的動態(tài)導(dǎo)通電阻變化曲線。測試內(nèi)容包括斷態(tài)電壓應(yīng)力、斷態(tài)電壓應(yīng)力持續(xù)時(shí)間和溫度。
設(shè)定ts為1 s,tm為10 ms,設(shè)定被測器件的環(huán)境溫度為30 ℃,改變斷態(tài)電壓應(yīng)力,分別測量兩款被測器件的導(dǎo)通電壓,計(jì)算出各自對應(yīng)的導(dǎo)通電阻并繪制曲線,如圖3 所示。橫軸表示以額定電壓為基準(zhǔn)值的斷態(tài)電壓應(yīng)力,縱軸表示歸一化的平均導(dǎo)通電阻。隨著斷態(tài)電壓應(yīng)力的升高,兩款被測器件的導(dǎo)通電阻隨之增加,其中EPC2019 的歸一化導(dǎo)通電阻從1 變化至1.25,而GS66508B 的歸一化導(dǎo)通電阻從1 變化至1.15。
圖3 導(dǎo)通電阻隨斷態(tài)電壓的變化曲線
設(shè)定斷態(tài)電壓為100 V,tm為10 ms,被測器件的環(huán)境溫度為30 ℃,改變ts時(shí)段的時(shí)長,分別測量兩款被測器件的導(dǎo)通電壓,計(jì)算各自的導(dǎo)通電阻并繪制曲線,如圖4 所示。橫軸表示斷態(tài)電壓應(yīng)力持續(xù)時(shí)間,縱軸表示歸一化的平均導(dǎo)通電阻。由圖4 可知:斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間在1 s 以下時(shí),GS66508B 導(dǎo)通電阻基本不變,而EPC2019 的歸一化導(dǎo)通電阻從1.05 升高至1.27;而斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間在1 s 以上時(shí),GS66508B 的歸一化導(dǎo)通電阻從1.02 升高至1.4,而EPC2019 的歸一化導(dǎo)通電阻從1.27 升高至1.81。
圖4 導(dǎo)通電阻隨斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間的變化曲線
設(shè)定斷態(tài)電壓為100 V,ts為1 s,tm為10 ms,調(diào)整加熱臺溫度來改變被測器件的環(huán)境溫度,分別測量兩款被測器件的導(dǎo)通電壓,計(jì)算各自的導(dǎo)通電阻并繪制曲線,如圖5 所示。橫軸表示環(huán)境溫度,縱軸表示歸一化的平均導(dǎo)通電阻。隨著溫度的升高,兩款被測器件的導(dǎo)通電阻都呈現(xiàn)上升趨勢,GS66508B 的歸一化導(dǎo)通電阻從1.05 增加至2.01,EPC2019 的歸一化導(dǎo)通電阻從1.15 升高至2.05。
圖5 導(dǎo)通電阻隨溫度的變化曲線
綜合上述測試結(jié)果,斷態(tài)電壓應(yīng)力、斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間以及溫度都會影響GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻,但是各因素影響程度不同。具體而言,被測器件的環(huán)境溫度對動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象影響最明顯,斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間對動態(tài)導(dǎo)通電阻的影響僅次于溫度,而斷態(tài)電壓應(yīng)力的影響最小。
基于測試結(jié)果,在GaN 器件應(yīng)用層面,可考慮以下方法優(yōu)化動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象造成的影響:
1)隨著斷態(tài)電壓應(yīng)力的增大,被測器件的導(dǎo)通電阻持續(xù)增大。因此,GaN 器件的工作電壓不宜過大。
2)隨著斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間的增大,兩款被測器件的導(dǎo)通電阻呈現(xiàn)增大趨勢。顯然,在實(shí)際應(yīng)用中,GaN器件的開關(guān)頻率不宜太小。
3)隨著測試溫度的升高,被測器件的導(dǎo)通電阻也出現(xiàn)較大的升高,而導(dǎo)通電阻的升高又會進(jìn)一步強(qiáng)化熱效應(yīng),因而GaN 器件在應(yīng)用時(shí)對散熱設(shè)計(jì)有較高的要求。
本文提出了一種基于高速脈沖恒流源的GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的測試方法及相應(yīng)測試平臺,在不同影響因素(包括斷態(tài)電壓應(yīng)力、斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間和溫度)下,對兩款器件進(jìn)行動態(tài)導(dǎo)通電阻測試。所設(shè)計(jì)的恒流源具有輸出能力強(qiáng)、穩(wěn)定速度快的特點(diǎn),具有在線監(jiān)測GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻的潛力。測試結(jié)果表明,斷態(tài)電壓應(yīng)力、斷態(tài)電壓持續(xù)時(shí)間以及溫度會對GaN 器件動態(tài)導(dǎo)通電阻現(xiàn)象造成不同程度的影響。因此,GaN 器件應(yīng)用中應(yīng)綜合考慮電壓應(yīng)力、開關(guān)頻率、工作溫度和散熱設(shè)計(jì)等多種因素,盡量讓器件工作時(shí)的導(dǎo)通電阻足夠小,以確保變換器性能處于最優(yōu)區(qū)間。