田曉光，姜 哲

(江蘇大學(xué) 振動(dòng)噪聲研究所，江蘇 鎮(zhèn)江 212013)

由結(jié)構(gòu)振動(dòng)引起的聲輻射問題一直是聲學(xué)領(lǐng)域重要的研究課題。Fuller等［1］提出有源結(jié)構(gòu)聲學(xué)控制(Active structure acoustic control，ASAC)后，國(guó)內(nèi)外許多學(xué)者圍繞這個(gè)問題進(jìn)行了廣泛的研究。其中利用結(jié)構(gòu)模態(tài)展開研究已經(jīng)取得了豐碩的成果，但是因?yàn)楦麟A結(jié)構(gòu)模態(tài)聲輻射的相互耦合，使得在有些頻率下即使削減了某幾階主要的結(jié)構(gòu)模態(tài)的幅值，也不能保證結(jié)構(gòu)輻射聲功率的降低［2］。黎勝、趙德友［3］討論了結(jié)構(gòu)振動(dòng)模態(tài)耦合對(duì)聲功率的影響并解決了聲輻射模態(tài)公式中特征頻率解得不唯一問題。上世紀(jì)90年代初，有學(xué)者提出了用聲輻射模態(tài)來研究結(jié)構(gòu)輻射的聲功率［4-6］，各階模態(tài)聲輻射之間沒有相互耦合，很適合研究結(jié)構(gòu)振動(dòng)引起的聲輻射問題。李雙、陳克安［7］研究了結(jié)構(gòu)模態(tài)與聲輻射模態(tài)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。毛崎波等［8］利用聲輻射模態(tài)提出了針對(duì)控制前k階聲輻射模態(tài)降低聲功率的控制策略。李雙等［9］在聲輻射模態(tài)基礎(chǔ)上研究了作動(dòng)器的位置對(duì)控制效果的影響。靳國(guó)永等［10］通過聲輻射模態(tài)建立了彈性封閉空間聲輻射有源控制模型。黎勝、趙德友［11］討論了以剛性表面和柔性表面為界的半空間內(nèi)的輻射問題。吳經(jīng)彪等［12］提出了基于聲輻射模態(tài)有源控制解耦，在簡(jiǎn)支矩形板上利用作動(dòng)器的布放位置使得控制過程解耦。

本文在聲輻射模態(tài)主動(dòng)控制的基礎(chǔ)上進(jìn)行研究，對(duì)比解耦和不解耦兩種控制方式，發(fā)現(xiàn)解耦控制所需控制能量小，控制簡(jiǎn)單，穩(wěn)定。兩者在頻率較低時(shí)都能取得良好的控制效果，在頻率較高時(shí)都會(huì)出現(xiàn)控制溢出。通過分析各階聲輻射模態(tài)輻射效率，作動(dòng)器布置位置對(duì)稱形式與聲輻射模態(tài)對(duì)稱形式的對(duì)應(yīng)關(guān)系，揭示了解耦控制溢出的機(jī)理。

1 基于聲輻射模態(tài)的有源控制解耦

由聲輻射理論可知，聲輻射模態(tài)是輻射體表面的一種可能的輻射形式，是給定輻射物體所固有的性質(zhì)，由輻射體的幾何形狀和激勵(lì)頻率決定，與輻射體本身的材料特性無關(guān)［6］。各階聲輻射模態(tài)相互正交，每階聲輻射模態(tài)對(duì)應(yīng)一個(gè)獨(dú)立的輻射聲功率，輻射的總聲功率可以表示為:

其中:qi表示第i階的聲輻射模態(tài);U為結(jié)構(gòu)表面振速;yi是第i階聲輻射模態(tài)的伴隨系數(shù)，是結(jié)構(gòu)表面振速在對(duì)應(yīng)聲輻射模態(tài)上的投影;Wi表示第i階模態(tài)對(duì)應(yīng)的聲功率;λi與實(shí)對(duì)稱正定矩陣的特征值成正比。各階聲輻射模態(tài)的輻射效率為［8］:

其中:ρ為介質(zhì)密度，c為介質(zhì)中的聲速，Δs為劃分的單元面積。

聲輻射模態(tài)在各階時(shí)，對(duì)應(yīng)的輻射效率隨著階數(shù)的增加而迅速降低［8］。前幾階聲輻射模態(tài)輻射的聲功率在總的聲功率中占據(jù)絕對(duì)大的分量。引入控制力改變結(jié)構(gòu)的表面振速分布，在低頻時(shí)，如果能夠使得前k階輻射模態(tài)伴隨系數(shù)同時(shí)為零，控制后結(jié)構(gòu)總的聲功率必然會(huì)大幅降低［8］。即:

假設(shè)在原始激勵(lì)力作用下板的法向振速寫成Up，在控制力下的板的法向振速寫成Uc，根據(jù)疊加原理表面法向振速U可以寫成［8］:

用壓電陶瓷片為作動(dòng)器提供控制力，施加控制電壓E(t)，板的振動(dòng)響應(yīng)寫成:

v(x，y)是作動(dòng)器施加電壓與板的表面振速之間的傳遞函數(shù)［13］。式中i為虛數(shù)單位是板的質(zhì)量密度;d31為壓電應(yīng)變常數(shù);M、N為考慮的般的結(jié)構(gòu)振動(dòng)模態(tài)數(shù);C0為應(yīng)變–彎矩耦合常數(shù);Lx和Ly為板的長(zhǎng)和寬;he為壓電片厚度;x1，x2，y1和y2分別對(duì)應(yīng)壓電片位置的橫、縱坐標(biāo)的最大值和最小值，同時(shí)反映壓電片的大小。αm=mπ/Lx;βn=nπ/Ly;φmn(x，y)=sin(αmx)sin(βny)為板的結(jié)構(gòu)振動(dòng)模態(tài);Hm，n(ω)=(ω2m，n-ω2+i2ξm，nωωm，n)-1，稱為頻響函數(shù);ξm，n為模態(tài)阻尼比系數(shù)。

在控制力作用下板的法向振速為:

其中k表示控制力個(gè)數(shù)，Vi為第i個(gè)作動(dòng)器在施加控制電壓Ei的傳遞函數(shù)向量，由式(7)確定。

將式(5)，式(8)代入式(4):得到k個(gè)方程組成的方程組，可以解得k個(gè)控制電壓。輸入控制電壓，就能控制前k階模態(tài)輻射的聲功率。

取k=4，圖1表示任意布置4個(gè)(組)壓電陶瓷片作動(dòng)器 PZTI、PZTII、PZTIII、PZTIV 位置。坐標(biāo)下標(biāo)第一位為作動(dòng)器標(biāo)號(hào)，第二位為壓電片的橫、縱坐標(biāo)的最大值和最小值。由方程(9)解得4個(gè)輸入控制電壓，可以控制4階聲輻射模態(tài)輻射的聲功率。由于方程(9)是耦合的，需聯(lián)合求解方程(9)得到各個(gè)控制電壓Ei。因此，作動(dòng)器在控制過程中相互影響，相互制約，使得作動(dòng)器有多余的動(dòng)作，導(dǎo)致輸入能量大，控制系統(tǒng)不穩(wěn)定。并且控制效果隨著作動(dòng)器位置的變化而變化，無法確定最優(yōu)布放位置。這就是非解耦控制方案。

圖2表示解耦控制4組(9個(gè))作動(dòng)器PZT1、PZT2、PZT3、PZT4布置位置［12］。第1組作動(dòng)器 PZT1是將1個(gè)壓電陶瓷片粘貼在矩形板的中心，陶瓷片的兩中心線與板的兩中心線重合;第2組作動(dòng)器PZT2是將2個(gè)規(guī)格相同的壓電陶瓷片關(guān)于x=0.5Lx對(duì)稱粘貼，兩陶瓷片中心線與y=0.5Ly重合，分別以幅值相等，相位相反的電壓驅(qū)動(dòng);第3組作動(dòng)器PZT3是將2個(gè)規(guī)格相同的壓電陶瓷片關(guān)于y=0.5Ly對(duì)稱粘貼，兩陶瓷片的中心線與x=0.5Lx重合，分別以幅值相等，相位相反的電壓驅(qū)動(dòng);第4組作動(dòng)器PZT4是將4個(gè)規(guī)格相同的壓電陶瓷片關(guān)于x=0.5Lx、y=0.5Ly對(duì)稱粘貼，其驅(qū)動(dòng)電壓幅值相等，相對(duì)相位如圖所示。在實(shí)際應(yīng)用中，可將壓電陶瓷片的電極對(duì)應(yīng)相反連接，從而提供幅值相等相位相反的控制電壓。由于四組作動(dòng)器是基于前4階聲輻射模態(tài)的對(duì)稱性布置，從而這4組作動(dòng)器能分別獨(dú)立激勵(lì)前4階聲輻射模態(tài)的輻射模態(tài)，有［12］:

將式(10)代入式(9)，取k=4，方程組變成4個(gè)獨(dú)立的方程，解方程可以得到4個(gè)獨(dú)立的控制電壓:

輸入4個(gè)相互獨(dú)立控制電壓控制4組作動(dòng)器，抵消前4階模態(tài)輻射的聲功率，此即解耦控制策略。

對(duì)于非解耦控制，如果一組作動(dòng)器不能正常工作，由于作動(dòng)器之間的耦合，會(huì)導(dǎo)致其余三組作動(dòng)器都不能正常工作，不僅沒有控制效果，反而會(huì)導(dǎo)致輻射聲功率增大。解耦控制時(shí)4組作動(dòng)器互相獨(dú)立工作，即使某一組作動(dòng)器不能工作，也不會(huì)對(duì)其他三組作動(dòng)器產(chǎn)生影響，仍然會(huì)對(duì)其他三階模態(tài)的聲輻射有控制效果。從而使系統(tǒng)的穩(wěn)定性、可靠性大大增加。并且能夠方便的查到出現(xiàn)故障的作動(dòng)器，使得故障診斷更加容易。

解耦輸入控制能量表示為:

非解耦控制輸入能量表示為:

其中Ei是在不同方案下的控制電壓。

2 解耦控制與非控制解耦比較

設(shè)簡(jiǎn)支板參數(shù)為:長(zhǎng)Lx=0.36 m，寬Ly=0.3 m，厚度h=0.002 m，彈性模量Eb=2 ×1011N/m2，ρ=7.8 ×103kg/m3，泊松比vb=0.3，各階模態(tài)阻尼系數(shù)均為0.01;設(shè)壓電陶瓷各項(xiàng)參數(shù)為:長(zhǎng)La=0.05 m，寬Lb=0.05 m，厚度he=0.4 mm，彈性模量Ee=6.3 ×1010N/m2，泊松比ve=0.3，壓電應(yīng)變常數(shù)d31=1.66 ×10-10m/V，原始激勵(lì)力用壓電陶瓷片提供，激勵(lì)電壓為10 V，取板左下角為坐標(biāo)原點(diǎn)，壓電片中心點(diǎn)坐標(biāo)為(0.054，0.045)。

解耦控制方案:作動(dòng)器布置在圖2所示位置。非解耦控制方案一:4個(gè)作動(dòng)器中心位置分別為(0.185，0.158)、(0.28，016)、(0.157，0.26)、(0.06，0.06);非解耦控制方案二:4組作動(dòng)器中心位置分別為(0.10，0.12)、(0.23，0.17)、(0.18，0.22)、(0.05，0.03)。兩種方案作動(dòng)器的位置是隨機(jī)選取。

圖3是0～1 000 Hz控制范圍內(nèi)的三種控制方案的控制結(jié)果。通過對(duì)比可以發(fā)現(xiàn)，在600 Hz以內(nèi)，三種方案都可以取得良好的控制效果，600 Hz以上，三種控制方案出現(xiàn)了不同程度的溢出。并且非解耦控制時(shí)，作動(dòng)器位置對(duì)控制效果會(huì)產(chǎn)生明顯的影響。

圖4表示三種方案在低頻時(shí)輸入控制能量比較。解耦控制方案要明顯好于非解耦的控制方案，輸入控制能量小，并且控制能量在各個(gè)頻率段相差不大，更加穩(wěn)定。

3 解耦控制溢出機(jī)理分析

由式(1)、式(3)可知，聲功率可以表示為聲輻射模態(tài)伴隨系數(shù)與其對(duì)應(yīng)的輻射效率的線性組合。圖5是前8階聲輻射模態(tài)的輻射效率圖，在頻率較低時(shí)(低于600 Hz)，對(duì)應(yīng)的輻射效率隨著聲輻射模態(tài)階數(shù)的增加而迅速降低［8］。在低頻時(shí)，高階模態(tài)的輻射效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于低階模態(tài)，因此高階模態(tài)輻射聲功率占總輻射聲功率的比重很小，對(duì)控制效果的影響可以忽略不計(jì)。在頻率較高時(shí)，高階模態(tài)輻射效率很大，高階模態(tài)聲輻射占總聲輻射的比重很大，高階模態(tài)對(duì)控制效果的影響也會(huì)隨之變得很大。

圖3 三種方案控制結(jié)果比較Fig.3 The control results of three programs

圖4 三種方案控制能量比較Fig.4 The control energy of three programs

圖5 板的前八階聲輻射模態(tài)輻射效率系數(shù)Fig.5 The radiation efficiencies of the first eight radiation modes

圖6表示了前4階聲輻射模態(tài)具有4種互相獨(dú)立的對(duì)稱形式［12］，圖2所示4組作動(dòng)器就是基于這種對(duì)稱形式進(jìn)行布置的，把前4階模態(tài)對(duì)應(yīng)的對(duì)稱形式分別稱為第一、二、三、四種對(duì)稱形式。通過分析聲輻射模態(tài)，發(fā)現(xiàn)很多高階模態(tài)也擁有這4種對(duì)稱形式。圖7表示了五到八階模態(tài)的形狀?？梢钥闯?，第5階、6階聲輻射模態(tài)具有第一種對(duì)稱形式，第7階聲輻射模態(tài)具有第三種對(duì)稱形式，第8階聲輻射模態(tài)具有第二種對(duì)稱形式。

圖6 板的前四階模態(tài)形狀Fig.6 The mode shapes of the first four radiation modes on the panel

圖8表示了第一組作動(dòng)器激勵(lì)的5～8階聲輻射模態(tài)的伴隨系數(shù)，其中第5、第6階模態(tài)伴隨系數(shù)很大，第7階、8階模態(tài)伴隨系數(shù)很小。圖9和圖10表示了第二組、第三組作動(dòng)器的情況?？梢园l(fā)現(xiàn)，第一組作動(dòng)器不僅激勵(lì)第一階聲輻射模態(tài)［12］，而且激勵(lì)第5階、第6階聲輻射模態(tài)。第二組作動(dòng)器不僅激勵(lì)第2階聲輻射模態(tài)［12］，而且激勵(lì)第8階聲輻射模態(tài)。同樣，第三組作動(dòng)器可以激勵(lì)出第3階、第7階聲輻射模態(tài)。每組作動(dòng)器對(duì)有相應(yīng)對(duì)稱形式的模態(tài)都有較大的激勵(lì)。

圖11～圖14表示了解耦控制后，5～8階模態(tài)輻射聲功率的變化情況?？梢园l(fā)現(xiàn)，5～8階模態(tài)輻射效率在控制后，在某些頻率段出現(xiàn)積極的控制效果，某些頻率段則出現(xiàn)消極的控制效果。

頻率較低時(shí)，由于高階模態(tài)的對(duì)控制效果影響可以忽略，此時(shí)即便產(chǎn)生消極的控制效果，其輻射的聲功率還是很小，不會(huì)產(chǎn)生控制溢出。而頻率較高時(shí)，高階聲模態(tài)輻射聲功率很大，對(duì)控制效果的影響很大，此時(shí)產(chǎn)生消極的控制效果，就會(huì)出現(xiàn)控制溢出現(xiàn)象。

圖8 PZT1激勵(lì)的5～8階聲輻射模態(tài)伴隨系數(shù)Fig.8 The adjoint coefficients of the radiation modes from five to eight excited by PZT1

圖9 PZT2激勵(lì)的5～8階聲輻射模態(tài)伴隨系數(shù)Fig.9 The adjoint coefficients of the radiation modes from five to eight excited by PZT2

圖10 PZT3激勵(lì)的5～8階聲輻射模態(tài)伴隨系數(shù)Fig.10 The adjoint coefficients of the radiation modes from five to eight excited by PZT3

可見，當(dāng)高階聲輻射模態(tài)對(duì)稱形式與作動(dòng)器布置的對(duì)稱形式一致時(shí)，控制策略僅針對(duì)前4階聲輻射模態(tài)進(jìn)行控制，由于作動(dòng)器對(duì)有相同對(duì)稱形式的高階模態(tài)的激勵(lì)，以及高階模態(tài)聲輻射占總聲輻射的比重的增加，造成了高頻段出現(xiàn)控制溢出。因此在較高頻率時(shí)，為避免控制溢出，在制定控制策略時(shí)應(yīng)兼顧考慮高階聲輻射模態(tài)的影響。

圖11 解耦控制前后第5階聲輻射模態(tài)輻射聲功率Fig.11 The sound powers of the fifth radiation mode before and after decoupling controlled

圖12 解耦控制前后第6階聲輻射模態(tài)輻射聲功率Fig.12 The sound powers of the sixth radiation mode before and after decoupling controlled

圖13 解耦控制前后第7階聲輻射模態(tài)輻射聲功率Fig.13 The sound powers of the seventh radiation mode before and after decoupling controlled

圖14 解耦控制前后第8階聲輻射模態(tài)輻射聲功率Fig.14 The sound powers of the eighth radiation mode before and after decoupling controlled

4 結(jié)論

本文通過比較基于聲輻射模態(tài)的解耦和非解耦兩種控制方法，得到解耦控制的優(yōu)點(diǎn):各組作動(dòng)器可以獨(dú)立激勵(lì)出對(duì)應(yīng)階的聲輻射模態(tài)輻射的聲功率，作動(dòng)器位置確定，輸入的控制能量小，控制系統(tǒng)更加穩(wěn)定可靠，故障診斷更加容易。

600 Hz以內(nèi)，解耦控制和非解耦控制兩種方法都能取得良好的控制效果，沒有明顯的控制溢出。600 Hz以上，兩種控制方案都會(huì)出現(xiàn)不同程度的控制溢出。重點(diǎn)分析了解耦控制下的溢出機(jī)理。

在比較高的頻率，為了避免控制溢出，有必要對(duì)解耦控制進(jìn)一步發(fā)展新的控制策略，控制前4階模態(tài)時(shí)，兼顧考慮5～8階的影響。

［1］Fuller C R.Optimal placement of piezoelectric actuators and polyvinylidence fluride error sensors in active structural acoustic control approach［J］.J.Acoust.Soc.Am ，1992，92(3):1521-1533.

［2］ Snyder S D ，Tanaka N.On feedforward active control of sound and vibration using error signals［J］.J.Acoust.Soc.Am，1993，94(4):2181-2193.

［3］黎 勝，趙德友.結(jié)構(gòu)聲輻射的振動(dòng)模態(tài)分析和聲輻射模態(tài)分析研究［J］.聲學(xué)學(xué)報(bào)，2004，29(3):220-208.

［4］Borgiotti G V.The power radiated by a vibrating body in an acoustic fluid and its determination from boundary measurements［J］.J.Acoust.Soc.Am，1990，88(4):1884-1893.

［5］Cunefare K A，Currey M N.On the exterior acoustic radiation modes of structures［J］.J.Acoust.Soc.Am.，1994，96(4):2302-2312.

［6］ Elliott S J，Johnson M E.Radiation modes and the active control of sound power［J］.J.Acoust.Soc.Am，1993，94(4):2194-2204.

［7］李 雙，陳克安.結(jié)構(gòu)振動(dòng)模態(tài)和聲輻射模態(tài)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系及其應(yīng)用［J］.聲學(xué)學(xué)報(bào)，2007，32(2):171-177.

［8］毛崎波，姜 哲.通過聲輻射模態(tài)研究結(jié)構(gòu)聲輻射的有源控制［J］.聲學(xué)學(xué)報(bào)，2001，26(3):277-281.

［9］李 雙，陳克安.結(jié)構(gòu)聲輻射有源控制中主導(dǎo)輻射模態(tài)的抵消及次級(jí)力的最優(yōu)布放［J］.噪聲與振動(dòng)控制，2006(6):62-66.

［10］靳國(guó)勇，劉志剛，盧熙群，等.通過輻射模態(tài)研究封閉空間結(jié)構(gòu)聲輻射及其有源控制［J］.哈爾濱工程大學(xué)學(xué)報(bào)，2009，30(4):376-382.

［11］黎 勝，趙德友.半空間內(nèi)聲輻射的研究［J］.船舶力學(xué)，2004，8(1):106-112.

［12］吳經(jīng)彪，姜 哲，朱利鋒.基于聲輻射模態(tài)的有源控制解耦［J］.聲學(xué)學(xué)報(bào)，2009，34(5):453-461.

［13］ Dimitriadis E K，F(xiàn)uller C R，Rogers C A.Piezoelectric actuators for distributed vibration excitation of thin plates.ASME Transactions［J］.Journal of Vibration and Acoustics，1991，113:100-107.