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基于超聲TOFD法直通波幅度分布的近表面缺陷檢測(cè)

2013-07-01 11:38:48陳振華胡懷輝
無(wú)損檢測(cè) 2013年11期
關(guān)鍵詞:淺孔直通端部

陳振華,胡懷輝,盧 超

(南昌航空大學(xué) 無(wú)損檢測(cè)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,南昌 330063)

超聲衍射回波法(Time of Flight Diffraction)技術(shù)具有可靠性好、檢出率高、定量準(zhǔn)確、效率高、成本低[1-2]等優(yōu)點(diǎn),越來(lái)越多地應(yīng)用于無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域。然而,常規(guī)超聲TOFD檢測(cè)技術(shù)也有其局限性,表面檢測(cè)盲區(qū)問(wèn)題即是超聲TOFD檢測(cè)方法需解決的問(wèn)題之一。

降低檢測(cè)盲區(qū)的手段主要有檢測(cè)信號(hào)分析以及優(yōu)化檢測(cè)方法延長(zhǎng)衍射波傳播路徑。遲大釗、陳偉[3-6]等人提出了一種基于圖像能量分布的方法,通過(guò)數(shù)字圖像處理及信號(hào)分析,提取了混疊的缺陷端衍射波信號(hào),提高了近表面缺陷的識(shí)別能力,但該方法對(duì)缺陷信號(hào)的提取受待處理圖像的成像質(zhì)量影響很大,存在側(cè)向波抑制不完全或損傷缺陷信號(hào)的問(wèn)題。張銳、陳天璐[7-11]等人通過(guò)優(yōu)化檢測(cè)方法增大衍射波的傳播聲程,提高對(duì)近表面缺陷的檢測(cè)能力。但由于衍射波聲程的增大,端部衍射衰減較大,且信號(hào)中聲波成分更加復(fù)雜,難于分析,造成對(duì)較小的近表面缺陷檢測(cè)困難。

筆者主要對(duì)近表面缺陷檢測(cè)的直通波信號(hào)幅度分布進(jìn)行試驗(yàn),針對(duì)直通波時(shí)域范圍內(nèi)選取多個(gè)關(guān)鍵點(diǎn),通過(guò)這些關(guān)鍵點(diǎn)在不同近表面缺陷的幅值變化,發(fā)現(xiàn)了與直通波重疊的端部衍射波?;谥蓖úǚ确植继岢隽藱z測(cè)特征值,根據(jù)該特征值分布能夠檢測(cè)近表面缺陷并估計(jì)其深度,提高對(duì)近表面缺陷的檢測(cè)能力。

1 試塊制作

試驗(yàn)制備了用于近表面缺陷檢測(cè)的試塊。試塊材質(zhì)為 A7N01-T4鋁合金,尺寸為320mm×200mm×20mm。在垂直于鋁合金板的板面制備了深度不同的淺孔,直徑均為φ1mm,孔深分別為1,2,3,5,8,10mm,各淺孔間距40mm,如圖1所示。

圖1 試塊結(jié)構(gòu)尺寸

2 試驗(yàn)方法

檢測(cè)中采用斜角為60度,中心頻率為5MHz的超聲TOFD檢測(cè)專(zhuān)用探頭。檢測(cè)系統(tǒng)的最大采樣率為60MHz。兩探頭以被檢孔為中心對(duì)稱(chēng)放置,探頭間距設(shè)為5mm,如圖2所示。試驗(yàn)對(duì)近表面各淺孔進(jìn)行檢測(cè),提取檢測(cè)波形。

圖2 探頭布置示意

人工缺陷的開(kāi)口淺孔對(duì)板面破壞導(dǎo)致直通波衰減,圖3為檢測(cè)直徑φ1mm、深10mm孔與表面完整時(shí)的直通波信號(hào)。10mm深孔的檢測(cè)直通波不受端部衍射波的影響而僅由表面的破壞引起,因此為更準(zhǔn)確地描述近表面缺陷尖端衍射對(duì)直通波幅度的影響,同時(shí)又不引入表面破壞的干擾,試驗(yàn)中采用直徑φ1mm、深度10mm深孔的檢測(cè)直通波作為無(wú)近表面缺陷的檢測(cè)信號(hào)。

圖3 表面破壞對(duì)直通波波幅的影響

圖4 為各淺孔的超聲TOFD檢測(cè)直通波信號(hào),其中虛線為10mm深孔的檢測(cè)信號(hào)(即無(wú)近表面缺陷時(shí)的直通波信號(hào))。圖4顯示,孔深為1,2mm時(shí)幾乎看不到端部衍射波,孔深3mm時(shí)開(kāi)始出現(xiàn)較明顯的衍射波形,當(dāng)孔深增大到5mm時(shí),能清晰地看到衍射波信號(hào)。

圖4 近表面缺陷波形與無(wú)近表面缺陷波形對(duì)比

圖4 顯示的試驗(yàn)結(jié)果與理論一致。式(1)是衍射波與直通波時(shí)間差的理論公式,可見(jiàn)隨著缺陷深度的增大,衍射波與直通波的時(shí)間差值Δt逐漸增大,即端部衍射逐漸移出直通波并完全分離出來(lái)。

式中:s為兩探頭間的距離;h為缺陷深度;v為聲速;l0為探頭前沿長(zhǎng)度。

此外,由圖4可知,直通波幅值分布隨著孔深的增大也發(fā)生了變化。直通波幅度的變化與淺孔深度存在一定聯(lián)系。因此探討直通波幅值分布隨孔深的變化規(guī)律可為近表面缺陷檢測(cè)提供依據(jù)。

3 近表面缺陷尖端衍射波對(duì)直通波幅度分布的影響

在直通波時(shí)域范圍內(nèi)選取多個(gè)關(guān)鍵點(diǎn),通過(guò)各關(guān)鍵點(diǎn)的幅值變化,研究直通波與淺孔端部衍射波的相互作用,各關(guān)鍵點(diǎn)編號(hào)為A~E,如圖5(a)所示。1~5mm淺孔以及無(wú)近表面缺陷時(shí)直通波各個(gè)參考點(diǎn)的幅值變化數(shù)據(jù)如圖5(b)所示。與無(wú)近表面缺陷直通波信號(hào)相比,1mm淺孔的A點(diǎn)幅度變化最大,其余關(guān)鍵點(diǎn)幅度基本不變;2mm淺孔的B,C點(diǎn)幅度的變化較大;3mm淺孔的C,D點(diǎn)幅度變化最大;5mm淺孔的E點(diǎn)幅度變化最大,其余關(guān)鍵點(diǎn)基本恢復(fù)原幅值。通過(guò)圖5(b)的變化趨勢(shì)可推斷隨孔深的增大,其端部衍射波對(duì)直通波幅度的影響在時(shí)域上逐漸右移(即由A向E移動(dòng))。

圖5 直通波各關(guān)鍵點(diǎn)幅值變化關(guān)系

進(jìn)一步分析直通波幅度分布變化的原因可知,近表面缺陷端部衍射波不僅存在且與直通波相互疊加。按圖5(b)的變化趨勢(shì)可模擬不同深度近表面缺陷端部衍射波對(duì)直通波的影響,如圖6所示。圖6(a)顯示1mm淺孔的端部衍射波與直通波相互疊加,造成A點(diǎn)幅度增大;圖6(b)顯示當(dāng)孔深為2mm時(shí),尖端衍射波向右移動(dòng)一定距離,衍射波仍在直通波脈沖寬度內(nèi)并與之疊加,使得B,C點(diǎn)處幅度顯著降低;圖6(c)顯示淺孔深3mm時(shí),尖端衍射波繼續(xù)遠(yuǎn)離直通波,C,D處疊加增強(qiáng);圖6(d)顯示當(dāng)淺孔深5mm時(shí),衍射波信號(hào)與直通波信號(hào)分離開(kāi)來(lái)。因此可見(jiàn),圖6中所模擬的衍射波特征與圖5(b)中由衍射波引起的各關(guān)鍵點(diǎn)幅值變化情況一致。

圖6 各不同深度缺陷模擬衍射波相對(duì)直通波的位置變化

在相同試驗(yàn)條件下采集8,10mm孔深的端部衍射波波形,如圖7所示。圖7是試驗(yàn)測(cè)得的衍射波波形特征??梢?jiàn),衍射波的相位變化與入射界面兩側(cè)介質(zhì)有關(guān),與孔深度無(wú)關(guān)。因此從衍射波相位及幅值分布看,圖6中模擬的端部衍射波與真實(shí)衍射波具有較好的一致性。

圖7 各不同深度缺陷所檢測(cè)的波形

此外,根據(jù)式(1)可計(jì)算出各淺孔端部衍射波位置與直通波的時(shí)間差值。隨孔深的增大,直通波與尖端衍射波的疊加狀態(tài)不斷發(fā)生改變,直到尖端衍射波完全與直通波分離。圖8的計(jì)算值與圖6的衍射波位置基本一致,進(jìn)一步證明了淺孔尖端衍射波的存在及其與直通波的疊加規(guī)律。

圖8 各淺孔的衍射波與直通波起點(diǎn)的時(shí)間差

通過(guò)以上分析可知,超聲TOFD檢測(cè)近表面缺陷時(shí),其直通波的幅值變化包含著大量的近表面缺陷信息,通過(guò)直通波幅度的分布特征可以對(duì)近表面缺陷進(jìn)行檢測(cè)。為了能夠更直觀地檢測(cè)近表面缺陷,試驗(yàn)基于直通波幅度分布定義了檢測(cè)特征值,如式(2)。

式中:A(i)為檢測(cè)特征值;Bf(i)為近表面缺陷直通波幅值分布;B(i)為無(wú)近表面缺陷時(shí)的直通波分布。

依據(jù)試驗(yàn)數(shù)據(jù)可得到各淺孔的檢測(cè)特征分布如圖9所示。各類(lèi)缺陷情況下,其特征值分布具有明顯差異,依據(jù)該特征分布能夠?qū)砻嫒毕葸M(jìn)行檢測(cè)并估計(jì)缺陷深度。

圖9 近表面缺陷超聲TOFD直通波幅度檢測(cè)特征值分布

4 結(jié)語(yǔ)

近表面缺陷的端部衍射波與直通波相互疊加,影響直通波的幅度分布,直通波幅度分布中包含大量的缺陷信息。基于直通波幅度分布提出了近表面缺陷的檢測(cè)特征值。通過(guò)該特征值的分布可以檢測(cè)近表面缺陷并估計(jì)缺陷的位置,可提高超聲TOFD技術(shù)對(duì)近表面缺陷的檢測(cè)能力。基于直通波分布所檢測(cè)特征值容易受到表面狀態(tài),如污染、腐蝕、劃痕的影響,因此文中所述方法對(duì)被檢件的表面狀態(tài)要求較高。

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