譚代木
(南京華日液晶顯示技術(shù)有限公司,江蘇南京 210038)
L C D光刻膠涂布質(zhì)量淺析
譚代木
(南京華日液晶顯示技術(shù)有限公司,江蘇南京 210038)
通過(guò)對(duì)液晶顯示器制造過(guò)程中的關(guān)鍵工序——光刻膠涂布工藝、原理進(jìn)行分析,對(duì)光刻膠涂布設(shè)備參數(shù)進(jìn)行調(diào)整等,為生產(chǎn)LCD提高合格率提供參考。
光刻膠;涂布;顯示器;液晶
平板顯示,作為信息產(chǎn)業(yè)的重要構(gòu)成部分。平板顯示中液晶顯示的生產(chǎn)技術(shù)不斷提高,市場(chǎng)需求量急速增長(zhǎng),為了提高LCD產(chǎn)品質(zhì)量,把好生產(chǎn)過(guò)程中的工藝關(guān)、光刻工藝中光刻膠涂布質(zhì)量的好壞直接影響光刻質(zhì)量從而影響LCD質(zhì)量。本文重點(diǎn)闡述了光刻膠涂布對(duì)LCD的影響。
要在透明導(dǎo)電玻璃上制造出顯示字符圖案,就要用到一種在薄膜和半導(dǎo)體工業(yè)中常用到光刻工藝-具有科學(xué)性質(zhì)的技術(shù)。在液晶顯示器生產(chǎn)過(guò)程中,光刻的目的就是按照產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求,在導(dǎo)電玻璃上涂覆感光膠,并進(jìn)行曝光,然后利用光刻膠的保護(hù)作用對(duì)ITO導(dǎo)電層進(jìn)行選擇性的化學(xué)腐蝕,從而在ITO導(dǎo)電玻璃上得到與掩摸版完全對(duì)應(yīng)的圖形。
光刻是液晶顯示器制造過(guò)程中的關(guān)鍵工藝之一,涂光刻膠是光刻工藝的關(guān)鍵,顯示屏上的圖形越來(lái)越復(fù)雜,精密度越來(lái)越高,光刻技術(shù)就顯得更為重要。
目前在生產(chǎn)中最普遍采用的光刻方法是接觸爆光法。光刻工藝流程:
ITO玻璃→前清洗→IR、UV烘干→涂光刻膠→前烘→曝光→顯影→豎膜→刻蝕→剝離去膜→水洗
光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān),配比的原則是既要使光刻膠具有良好的抗蝕能力,又要有較高的分辨率。但往往是互相矛盾的。不能同時(shí)達(dá)到。因此必須根據(jù)不同的光刻對(duì)象和要求選取不同的對(duì)比。因?yàn)楣饪棠z中溶劑的多少?zèng)Q定光刻膠的稀稠,從而影響光刻膠的厚薄。故當(dāng)刻蝕細(xì)小圖形時(shí),為提高分辨率,必須采用較稀的光刻膠,使光刻膠膜薄一些,這樣的光的散射和衍射作用影響較弱。光刻出來(lái)的圖形清晰、邊緣整齊。但當(dāng)被刻蝕的ITO層較厚時(shí),由于腐蝕時(shí)間較長(zhǎng),為了滿足抗蝕能力的要求,需采用較濃的光刻膠。
光刻膠在暗室和黃燈下進(jìn)行配制的光刻膠經(jīng)過(guò)過(guò)濾(過(guò)濾方法有加壓法、吸引法、自然滴下法、離心沉淀等)除去膠中的雜質(zhì)微粒,過(guò)濾好的光刻膠應(yīng)裝在暗色的玻璃瓶中,并保存在陰涼和干燥的暗箱內(nèi)。
涂膠是光刻的首道工序。主要在ITO玻離表面上涂一層光刻膠。涂膠效果的好壞直接影響光刻質(zhì)量,因此在操作時(shí)應(yīng)將光刻膠按要求準(zhǔn)備好并控制好光刻膠的涂層厚度及均勻性、涂層表面狀態(tài)等。
光刻膠一般是在低溫避光條件下儲(chǔ)存。因此在使用光刻膠前一定要把膠從低溫條件下取出,在使用場(chǎng)地放置至瓶?jī)?nèi)膠的濃度與環(huán)境程度相同時(shí)才能打開(kāi)瓶蓋,膠在使用前要對(duì)其黏度進(jìn)行測(cè)試。因膠的黏度高時(shí),涂層厚抗蝕性雖然提高但分辨率下降;而膠的黏度低時(shí),分辨率能提高但抗蝕性差。因此根據(jù)產(chǎn)品的工藝加工精度要求將光刻膠黏度控制在一定范圍內(nèi)。通常膠的黏度的調(diào)整是使用稀釋方法,即將高黏度調(diào)成低黏度。方法是根據(jù)原濃度的大小加入一定量的稀釋劑充分?jǐn)嚢瑁o置一段時(shí)間測(cè)量其黏度值,使達(dá)到其要求的黏度。
涂膠前的ITO玻璃表面狀況好壞,對(duì)光膠與ITO層粘附質(zhì)量影響極大,在生產(chǎn)中為保證ITO膜與光刻膠間有良好的接觸和粘附。清洗后的玻璃經(jīng)紫外光照射對(duì)其表面進(jìn)行活化處理然后再涂光刻膠。
(1)光刻膠與ITO粘附良好,不能有膠脫落現(xiàn)象,涂層厚度均勻一致不能有厚有薄,不然在顯影、刻蝕時(shí)會(huì)出現(xiàn)圖形缺陷;涂層表面狀態(tài)不能有條紋、針孔、突起等缺陷。
(2)涂膠環(huán)境。涂膠工序應(yīng)在洗凈的條件下進(jìn)行,環(huán)境溫度要求在22℃±3℃,濕度低于63%(48%±2%)并在不含紫外光成分的黃光條件下進(jìn)行操作。
(3)涂膠方法與設(shè)備。涂膠方法有浸涂、甩涂、輥涂等。其中輥涂的涂復(fù)質(zhì)量好于其他兩種,一般現(xiàn)行采用滾筒涂布機(jī)涂光刻膠。
根據(jù)涂光刻膠原理及要求,一般采用滾筒涂布機(jī)設(shè)備較多,現(xiàn)以日本DNS公司生產(chǎn)的型號(hào)RC-553-P為例,對(duì)其原理進(jìn)行分析:設(shè)備由電源控制系統(tǒng)(PLC程序控制)、面板操作指示系統(tǒng)、傳動(dòng)系統(tǒng)、藥液供給系統(tǒng)、調(diào)整系統(tǒng)等組成。
(1)光刻膠液供給系統(tǒng)。在磁力計(jì)量泵的驅(qū)動(dòng)下,從專用的光刻膠瓶將光刻膠通過(guò)管道系統(tǒng)→過(guò)濾器過(guò)濾后再由噴嘴將藥液滴在均膠輪與涂膠輪之間。噴嘴通過(guò)無(wú)桿汽缸來(lái)回移動(dòng)將膠均勻滴在兩輪之間。涂膠輪由電機(jī),經(jīng)減速器帶動(dòng),均膠輪調(diào)到一定壓力由摩擦力原理將涂膠輪上的膠均勻(涂膠輪上不得存在膠線等缺陷),然后涂布。多余的光刻膠經(jīng)涂膠輪兩邊的溝槽滴入回收盤(pán)的回收廢液瓶。供液量的大小主要是調(diào)整磁力泵的沖程和頻率:生產(chǎn)前跑勻時(shí)沖程、頻率調(diào)90%,正常生產(chǎn)時(shí)沖程、頻率調(diào)50%。按流量20 ml/min計(jì)算沖程、頻率調(diào)50%時(shí),即滴液量為:20×50%×50%=5 ml/min。
(2)氣動(dòng)控制系統(tǒng)。由動(dòng)力供給的DRY AIR→球閥→壓力控制器→油水過(guò)濾器→減壓閥→壓力表→速度調(diào)節(jié)閥→磁藕合無(wú)桿氣缸→帶動(dòng)噴咀來(lái)回移動(dòng)
(3)傳動(dòng)系統(tǒng)。基板傳動(dòng):涂膠輪上的光刻膠均布后,基板(ITO玻璃)由電機(jī)經(jīng)減速器帶動(dòng)支撐輪轉(zhuǎn)動(dòng)、支撐輪上的錐齒輪→錐齒輪)帶動(dòng)傳動(dòng)軸。傳動(dòng)軸上的斜齒輪→斜齒輪,帶動(dòng)各傳動(dòng)軸,使傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)基板前進(jìn)。經(jīng)過(guò)與支撐輪和涂膠輪,此時(shí)基板表面ITO膜上均勻涂上一層光刻膠,流入下道工序?;鍌鲃?dòng)速度:電機(jī)由驅(qū)動(dòng)控制器調(diào)節(jié)電流大小、而改變電機(jī)的轉(zhuǎn)速,來(lái)調(diào)節(jié)速度。一般傳動(dòng)速度為5.2 m/min(根據(jù)工藝可調(diào)節(jié))涂膠輪轉(zhuǎn)速通過(guò)共用一個(gè)調(diào)節(jié)速度控制旋鈕與支撐輪轉(zhuǎn)速相同。
涂膠輪、均膠輪、支撐輪之間的間隙、壓入量、光刻膠供給系統(tǒng)、過(guò)濾器、更換輪子的過(guò)程中,如果調(diào)整不好,將影響光刻膠涂布質(zhì)量。
(1)涂膠輪的間隙設(shè)定。與處理基板的厚度相對(duì)應(yīng),調(diào)整涂膠輪和支撐輪之間的間隙。處理不同的基板其間隙不同,如果間隙過(guò)大涂膠輪的光刻復(fù)制不良、部分不能涂布。如果間隙過(guò)小,基板上的涂膜發(fā)生氣泡或線不均勻。通過(guò)旋轉(zhuǎn)板厚手柄,觀看指示器數(shù)量與處理厚度的值相對(duì)應(yīng),如表1所示。
表1 不同玻璃厚度間隙調(diào)整范圍
(2)均膠輪的壓入量。均膠輪的調(diào)整與表顯示數(shù)值相對(duì)應(yīng),壓入量1~1.1 mm。如1.1 mm的玻璃基板其壓入量為1.03 mm,如壓入量過(guò)小,涂膠輪表面發(fā)生線不均,過(guò)大時(shí),光刻膠量變少,基板上的膜厚變薄。
(3)光刻膠供給。光刻膠的供給,在涂膠輪間隙及均膠輪的壓入量設(shè)定后,邊運(yùn)轉(zhuǎn)邊進(jìn)行。把新的光刻膠的瓶子放入孔里,準(zhǔn)備排液回收瓶,用速度調(diào)整盤(pán)調(diào)到搬運(yùn)速度為5.2 m/min.按操作屏的[藥液供給]鍵。設(shè)備工作開(kāi)始滴液時(shí),氣泵功率控制在:沖程量90%、頻率90 Hz;輪子走勻開(kāi)始涂膠時(shí),氣泵功率控制在沖程量60%、頻率60 Hz;輪子走勻生產(chǎn)過(guò)程中,氣泵功率控制在沖程量45%、頻率45 Hz。光刻膠的最小供給量約為4~5 ml/min,如果壓力指示器達(dá)0.28 MPa時(shí),必須更換過(guò)濾器。
(4)除去輪表面的膠線不均。如果在運(yùn)轉(zhuǎn)開(kāi)始時(shí)發(fā)生膠線不均可用以下方法來(lái)清除 :運(yùn)轉(zhuǎn)中觀察輪子的狀態(tài),均膠輪押入量增加0.5~1.0 mm,在瞬時(shí)拉斷[搬送]鍵,用此方法反復(fù)進(jìn)行幾次、通??梢郧宄z線不均。如果這樣仍有不均,可以回到基本狀態(tài),使均膠輪壓入量為1mm左右。
(5)ITO基板的清洗。在涂布前,基板要進(jìn)行清洗,清洗不足時(shí),有光刻膠涂不到的地方。清洗方法很多,例如堿清洗、水清洗、IR、UV爐烘干等。
(6)更換光刻過(guò)濾器。過(guò)濾器的內(nèi)壓力達(dá)0.28 MPa以上時(shí),就不能起到過(guò)濾器的作用,必須更換;在拆卸時(shí),打開(kāi)泄漏塞拴,除掉過(guò)濾器配管內(nèi)的光刻膠,拆下各部件進(jìn)行更換。
(7)各輪子調(diào)整。輪子的調(diào)整,在更換輪子時(shí),各輪之間的間隙需進(jìn)行重新調(diào)整。
光刻膠涂膠設(shè)備:影響光刻膠涂布質(zhì)量的因素很多,通過(guò)改變主要影響質(zhì)量的參數(shù)進(jìn)行對(duì)比,試驗(yàn)用1.1 mm基板玻璃,其結(jié)果見(jiàn)表2~表4。
通過(guò)對(duì)光刻膠涂布工藝試驗(yàn)分析,影響光刻膠涂布質(zhì)量,通過(guò)改變主要影響質(zhì)量的參數(shù)有:
(1)均膠輪壓入量取-1.2 mm為適;
表2 調(diào)整壓入量--對(duì)涂布質(zhì)量的影響(均膠輪壓入涂膠輪的量用負(fù)值)
表3 調(diào)整涂布轉(zhuǎn)速--對(duì)涂布質(zhì)量的影響(即涂膠輪轉(zhuǎn)動(dòng)速度)
表4 調(diào)整光刻膠黏度--對(duì)涂布質(zhì)量的影響(光刻膠采用FH2730膠,稀釋劑采用正膠稀釋劑RZR-3100)
(2)涂布輪轉(zhuǎn)速取23 r/min為適;
(3)采用FH2730膠不加稀釋劑為適。
通過(guò)對(duì)光刻膠涂布工藝原理、設(shè)備原理及工藝試驗(yàn)對(duì)比分析對(duì)光刻膠涂布質(zhì)量的影響結(jié)論為:涂布工藝技術(shù)參數(shù)制定是提高LCD光刻膠涂布質(zhì)量的關(guān)鍵。
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[1]范志新.液晶器件工藝基礎(chǔ)[M].北京:北京郵電大學(xué)出版社,2000.
[2]李維諟,郭強(qiáng).液晶顯示應(yīng)用技術(shù)[M].北京:電子工業(yè)出版社,2000.
LCD Light-sensitive Lacquer Coating Quality Is Simple Analysis
TAN Daimu
(Nanjing Huari LCD technical Ltd,Nanjing 210038,China)
Abstract:Based on the key working procedure in the process of LCD manufacture-photoresist coating process,principle analysis,adjust photoresist coating equipment parameters etc,provide reference for production improve the qualified rate of LCD.
Keywords:Lithography glue;Coating;Display;Liquid crystal
TN305.7
A
1004-4507(2013)07-0044-04
2013-06-18
譚代木(1957-),男,工程師,南京華日液晶顯示技術(shù)有限公司,主要從事設(shè)備維修管理工作。