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均相Fenton氧化降解對木素模型物對羥基苯丙酸去除效果的研究

2014-01-05 02:10張宗鵬張思月豆寶娟
中國造紙學報 2014年2期
關鍵詞:木素反應時間試劑

王 昶 張宗鵬 王 芳 張思月 豆寶娟

(1.天津科技大學海洋科學與工程學院,天津,300457;2.天津科技大學材料科學與化學工程學院,天津,300457)

當前,造紙廢水作為污染環(huán)境的主要污染源日益受到人們的重視,我國造紙行業(yè)廢水排放量占全國工業(yè)廢水總排放量的1/6。造紙廢水成分復雜,污染物濃度高,除含有大量的纖維素、木素及化學藥品外,還含有眾多的有機物,COD高,排放量大,是引起水體污染和環(huán)境破壞的重要有機污染源,處理難度極大[1-3]。造紙廢水中,由3種基本結構單元(愈創(chuàng)木基單元、紫丁香基單元和對羥基苯丙烷單元)組成的木素,因其結構復雜、分子質(zhì)量大以及對生物的毒性,很難采用生物方法進行降解[4-5]。

近年來高級氧化法成為造紙廢水處理的熱點,特別是Fenton試劑法用于處理造紙廢水得到了廣泛關注。Fenton試劑法具有操作過程簡單、反應物易得、費用低、無需復雜設備、對后續(xù)的生化處理無毒害作用且對環(huán)境友好等優(yōu)點,已逐漸應用于制漿造紙廢水的深度處理領域[6]。

本研究在前期愈創(chuàng)木酚[7]、紫丁香醇[8]實驗基礎上,進一步針對組成木素的對羥基苯丙烷單元,選擇木素類模型物——對羥基苯丙酸(HL)作為目標化合物,研究了均相Fenton試劑對木素類模型物HL的降解效果,詳細探討了溶液pH值、H2O2用量、Fe2+用量、HL溶液初始濃度、反應時間、紫外光(UV)照射等因素對HL降解的影響,為今后全面考查Fenton試劑對木素的降解提供有價值的實驗數(shù)據(jù)。

1 實驗

1.1 實驗儀器及試劑

(1)儀器:Lab Tech UV-9100D紫外-可見分光光度計;GE Sievers InnovOx實驗室總有機碳(TOC)分析儀;85-2恒溫磁力攪拌器;J500型精密電子天平;Hanna Instruments pH211精密酸度計;ZSZ型紫外燈(8 W)。

(2)試劑:對羥基苯丙酸(HL)、硫酸亞鐵、質(zhì)量分數(shù)為30%的雙氧水、氫氧化鈉、稀硫酸及無水亞硫酸鈉均為分析純,購于天津市江天化工技術有限公司。

1.2 降解目標物對羥基苯丙酸

HL的分子式C9H10O3,主要結構為苯基烷、酚羥基、羧基,分子結構如圖1所示,最大吸收波長λmax=275.35 nm。

圖1 HL的化學結構

在275.35 nm下測定配制的不同質(zhì)量濃度HL溶液的吸光度值(A),得到如圖2所示的標準曲線。

圖2 HL定量分析標準曲線

利用一元線性法得到HL溶液質(zhì)量濃度(C)與吸光度(A)的關系式(1):

其中,相關系數(shù)R2=0.9997。符合Lambert-Beer光吸收定律。

1.3 實驗方法

1.3.1 H2O2的理論用量

根據(jù)文獻[8],按照式(2)計算可知,250 mL質(zhì)量濃度為 60 mg/L的HL溶液完全氧化所需的H2O2(質(zhì)量分數(shù)為30%)理論用量(Qth)為0.74 mL/L。以此為參考,實驗選取的H2O2用量為此用量的倍數(shù)。

1.3.2 HL去除實驗

取一定量的HL溶于蒸餾水配制成250 mL溶液,加入反應器中,再將反應器置于恒溫磁力攪拌器上攪拌,用稀H2SO4或NaOH溶液調(diào)節(jié)至所需pH值。然后,加入一定量現(xiàn)配的FeSO4溶液攪拌均勻,最后加入一定量的H2O2(質(zhì)量分數(shù)30%)后開始計時。一定時間后,取5 mL反應液,立即加入一定量的Na2SO3溶液使反應終止,在波長275.35 nm處測定其吸光度。根據(jù)式(1)確定溶液中剩余HL的質(zhì)量濃度,并按式(3)計算HL去除率:

式中:C0為處理前HL溶液的質(zhì)量濃度,mg/L;C為處理后HL溶液的濃度質(zhì)量,mg/L。

2 結果與討論

2.1 體系初始pH值的影響

室溫下,用0.030 g HL配成質(zhì)量濃度為60 mg/L的HL溶液,取250 mL該溶液用稀H2SO4或NaOH溶液調(diào)節(jié)初始pH值分別為2、3、4(未經(jīng)調(diào)整的原始值)、5、6、8、9,H2O2用量為 2倍理論量(2Qth),n(Fe2+)∶n(H2O2)=1∶100,按實驗方法進行實驗,反應時間為60 min。不同初始pH值對HL去除率的影響見圖3。

圖3 初始pH值對HL去除率的影響

由圖3可見,當溶液初始pH值在4.0~5.0范圍內(nèi)時,F(xiàn)enton和UV/Fenton對HL的去除效果較好,尤其當 pH值為4.0時,去除率分別達到最大值79.2%和100%。而當pH值為2.0時,HL去除率為57.1%和 99.7%;當 pH 值為6.0時 HL去除率為28.4%和32.4%。可見當體系處于酸性條件時,有利于Fenton反應的進行。一方面,當pH值過低時,H+濃度過高,強酸性環(huán)境使H2O2穩(wěn)定性增強,單位時間內(nèi)生成的·OH的數(shù)量減少,同時還抑制了Fe3+向Fe2+的還原,使Fenten氧化體系中的羥基自由基對HL分解作用減弱,導致去除率下降。另一方面,隨著pH值增大,尤其是H2O2在堿性溶液中很不穩(wěn)定,會快速分解成O2和H2O。而且,F(xiàn)e2+在堿性條件下也易形成沉淀,從而導致催化H2O2分解成·OH的能力大大降低。由此可見,合適的pH值對于Fenton反應具有重要意義。由于HL溶液原始pH值為4,其酸堿性基本在一個比較合適的范圍內(nèi),所以以下實驗中,固定溶液初始pH值為4.0,即溶液原始pH值不進行調(diào)整。

2.2 H2O2用量的影響

為了考查H2O2用量對HL去除率的影響,室溫下,取適量的HL配制成質(zhì)量濃度為60 mg/L的溶液250 mL,分別加入不同用量的 H2O2(質(zhì)量分數(shù)30%):0.25Qth(即 0.25 倍的理論用量,下同)、0.5Qth、1.0Qth、2.0Qth和 3.0Qth,n(Fe2+)∶n(H2O2)=1∶100,進行 Fenton氧化降解反應,反應時間為60 min,然后分別取一定體積的溶液測定其吸光度,再由標準曲線計算出相應的質(zhì)量濃度以及去除率,結果見圖4。

由圖4可見,HL的去除率先隨H2O2用量的增加而增大。當H2O2用量為2.0Qth時,HL去除率最大,之后去除率開始降低。在 UV照射條件下,1.0Qth~3.0Qth的 H2O2對于 HL 的去除率基本沒有影響,都達到100%。這是因為H2O2是·OH的生成劑,同時也是消除劑。當H2O2用量超過適宜范圍時,過多的 H2O2會清除·OH,發(fā)生式(4)和式(5)的反應,致使·OH數(shù)量減少、利用率下降。因此,選擇合適的H2O2用量極為重要。

圖4 H2O2用量對HL去除率的影響

2.3 Fe2+與H2O2摩爾比的影響

室溫下,取適量的HL配成質(zhì)量濃度為60 mg/L的溶液250 mL,H2O2用量為2.0Qth,改變 Fe2+與H2O2摩爾比為 1∶200、1∶160、1∶100、1∶80、1∶60 進行Fenton反應,反應時間60 min。Fe2+與H2O2摩爾比對廢水中HL去除率的影響見圖5。

圖5 Fe2+與H2O2摩爾比對HL去除率的影響

由圖5可見,當 n(Fe2+)∶n(H2O2)=1∶100時,HL去除率達到最大值。低于或高于這個比值其去除率會降低。這是因為Fe2+作為Fenton反應的催化劑能加速·OH的產(chǎn)生,隨著Fe2+的增加,單位時間內(nèi)產(chǎn)生的·OH數(shù)量增加,總數(shù)不斷增加,HL的最終去除率不斷提高。但Fe2+用量再進一步增加時,去除率反而下降。這主要是由于:①高濃度的Fe2+使H2O2在短時間內(nèi)大量分解產(chǎn)生·OH,相對于廢水中污染物是有富余的,此時·OH會發(fā)生復合反應而被消耗掉(見式(5));②高濃度的Fe2+會與·OH發(fā)生如式(6)的競爭反應:

這兩種因素均會導致·OH利用率下降。而在UV照射下能減小這種差異。

2.4 HL溶液初始質(zhì)量濃度的影響

室溫下,配置質(zhì)量濃度分別為20、40、60、80、100 mg/L的 HL溶液各250 mL,H2O2按各自溶液的 2.0Qth添加,n(Fe2+)∶n(H2O2)=1∶100,反應時間為60 min。不同初始質(zhì)量濃度下HL的去除率見圖6。

圖6 HL初始質(zhì)量濃度對去除率的影響

由圖6可見,在無UV照射條件下,HL去除效果與其初始質(zhì)量濃度有很大關系:HL初始質(zhì)量濃度較低時,其去除率也較低。這是由于雖然H2O2加入量是按照各自溶液的2.0Qth添加的,但畢竟HL初始質(zhì)量濃度較低,相應H2O2用量少,催化劑Fe2+濃度也低,所以必然導致溶液中產(chǎn)生·OH的濃度較小,氧化反應不充分;隨著初始濃度增加,H2O2和催化劑Fe2+用量相應增加,去除率也逐漸提高;但是,當初始質(zhì)量濃度超過一定值后,所產(chǎn)生的·OH會因相對濃度過高,引起·OH之間的復合反應,反而降低了自由的·OH量,最終導致去除率下降。由圖6還可以知道,無UV照射的條件下,單純的Fenton氧化過程對HL的降解效果是很有限的。但UV照射條件下,F(xiàn)enton體系中的羥基自由基在UV高能量的作用下,變得更為活潑,快速與HL反應,促使其分解,去除效果顯著提高,去除率接近100%。因此,在實際處理廢水中,應考慮到H2O2濃度的影響,在高濃度情況下,F(xiàn)enton試劑要采用分批次的優(yōu)化投加,尤其是H2O2加入方式,盡可能避免·OH之間的復合反應,提高Fenton試劑的降解效果;另外應盡可能使用UV,促進Fention氧化過程,提高去除率。

2.5 反應時間的影響

室溫下,取適量的HL配成質(zhì)量濃度為60 mg/L的溶液250 mL,在 H2O2用量為 2.0Qth、n(Fe2+)∶n(H2O2)=1∶100的條件下進行Fenton反應。反應時間對HL及TOC去除率的影響見圖7。

圖7 反應時間對HL和TOC去除率的影響

由圖7可知,在無UV照射條件下,HL去除率隨反應時間延長而逐漸增加,20 min以內(nèi)變化較快,20 min后變化緩慢,60 min之后基本不變。說明隨著Fenten氧化過程的不斷進行,溶液中HL逐漸減少,最終失去了降解能力,尤其對于苯環(huán)結構穩(wěn)定的化合物。

另外,為了考察降解過程中中間產(chǎn)物的變化情況,使用TOC總有機碳分析儀分析了不同處理時間下,溶液中殘余的總有機碳(TOC)含量,這些物質(zhì)包含了HL以及由它降解的分子質(zhì)量更小的有機化合物,由圖7可以很清楚地發(fā)現(xiàn),盡管HL去除率相對較高,但此時溶液中的TOC去除率較低,即溶液中HL降解并不能代表它已被完全礦化,降解過程也是一個低分子化的過程,因此,通過TOC分析儀在線分析可以了解Fenton氧化過程對污染物的最終降解能力。在UV照射條件下,在開始階段反應速率很大,10 min時,HL去除率就可達到83.7%,而此時無UV照射條件下只有46.5%;20 min時,HL幾乎完全被降解,而無UV條件下去除率只有59.3%,充分顯示了UV對Fenton氧化過程的促進作用。在UV高能量的激發(fā)下,不僅提高了·OH自由基的產(chǎn)生,增加了其活性,同時還活化了有機化合物,降低了他們相互之間反應的活化能,所以UV照射可以與Fenton試劑形成協(xié)同效應,加速有機物降解。不難看出,不論是UV/Fenton體系,還是Fenton體系,TOC去除率均低于HL的去除率。這表明HL并不是直接就被全部氧化成CO2和H2O,而是先被降解成為其他有機物中間體[9],然后再一步一步慢慢礦化。無UV照射條件下,盡管HL在Fenton試劑作用下部分降解,但這與有機物的完全礦化還有很大差距,也就是說,HL降解的一些有機物中間體仍然存在于溶液之中,而UV照射下,HL降解就相對比較完全,溶液中的TOC去除率也能夠達到90%以上,說明降解產(chǎn)生的有機物中間體也隨著UV和Fenton試劑的協(xié)同效應得到了進一步降解。但事物總是一分為二的,·OH自由基之間的相互作用也有副作用,所以在UV條件下,H2O2用量是過程控制的一個重要指標,可以采用低濃度或分批投加的方法,提高其協(xié)同效應。

2.6 UV的影響

由圖3~圖7可以看出,在Fenton體系中引入UV照射可以大大提高HL的去除率。相同條件下,UV/Fenton和Fenton兩體系中HL的去除率相差很大,而這樣的差別不是單獨UV照射效果和Fenton試劑產(chǎn)生效果的簡單加和。由實驗可知,單獨采用UV照射,HL幾乎不降解,所以Fenton試劑和UV之間確實存在協(xié)同效應,若充分利用這一特性,將會在Fenton氧化技術的實際應用中提供良好的集成技術,既可以減少Fenton試劑用量,又可以提高降解效果。

3 結論

選擇木素類模型物——對羥基苯丙酸(HL)為研究對象,研究了均相Fenton試劑對HL的降解效果,詳細探討了體系pH值、H2O2用量、Fe2+用量、HL溶液初始質(zhì)量濃度、反應時間,尤其是UV照射等因素對HL降解的影響。

3.1 均相Fenton氧化過程中,對于初始質(zhì)量濃度為60 mg/L的木素類模型物HL廢水,HL降解的最佳工藝條件為:體系初始pH值4.0,H2O2(質(zhì)量分數(shù)為30%)用量為2倍的理論投加量(2.0Qth,即每升HL溶液中,需1.48 mL的H2O2溶液),F(xiàn)e2+與H2O2的摩爾比為1∶100,反應時間60 min,此時HL去除率可達79.2%。

3.2 當體系中有紫外光(UV)照射后,UV與Fenton試劑形成了協(xié)同效應,有效加快了HL和中間體有機物的降解速度,20 min后,溶液中的HL和TOC的去除率分別達到98.3%和79.6%。

3.3 對于均相Fenton氧化體系,在有UV照射條件下,H2O2用量是過程控制的一個重要指標,可以采用低濃度或分批投加的方法,提高H2O2的有效利用率,降低處理成本。

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