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雙離子束濺射鍍膜機(jī)的維修性分配和預(yù)計(jì)

2014-07-04 03:28胡曉宇何華云
電子工業(yè)專用設(shè)備 2014年10期
關(guān)鍵詞:離子源維修性基片

胡曉宇,何華云

(中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所,長沙410111)

采用雙離子束濺射鍍膜方法制備特殊功能薄膜材料,具有成膜速度快、薄膜致密、均勻性好、成份可控、材料適用性廣等優(yōu)點(diǎn)[1],是獲得高質(zhì)量、高性能薄膜材料的常規(guī)先進(jìn)工藝方法。雙離子束濺射鍍膜機(jī)的主要組成部件包括主離子源、輔離子源、基片臺(tái)、水冷靶、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和計(jì)算機(jī)系統(tǒng)[2],如圖1 所示。

主離子源用于濺射靶材,通常分為射頻(RF)源和直流(DC)源兩種;輔離子源用于基片清洗了輔助鍍膜;基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度通常在20 r/min 以下,目前普遍采用“行星”式結(jié)構(gòu)(公轉(zhuǎn)+ 自轉(zhuǎn))以改善成膜均勻性;水冷靶的靶基通常設(shè)計(jì)為3 面或4 面,適用圓形或方形靶材;氣路系統(tǒng)均采用“質(zhì)量流量控制器+截止閥”,根據(jù)不同的工藝可配置3~8 路;真空系統(tǒng)配置機(jī)械泵和分子泵,極限真空為1×10-4Pa 量級(jí);計(jì)算機(jī)系統(tǒng)采用“上位機(jī)+PLC”的架構(gòu)。

圖1 雙離子束濺射鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成

雙離子束濺射鍍膜機(jī)的核心為“濺射”,被濺射出來的靶材粒子沿著靶面法向呈正態(tài)分布向外“飛濺”[3],意味著靶材原子在真空腔內(nèi)造成污染,必須定期清理維護(hù),否則會(huì)造成短路、打火、灰塵,影響薄膜質(zhì)量。因此,在雙離子濺射鍍膜機(jī)的研發(fā)過程中,必須考慮維修性設(shè)計(jì),特別是暴露在真空腔內(nèi)的相關(guān)部件,包括主離子源、輔離子源、基片臺(tái)、水冷靶等。

可靠性設(shè)計(jì)的目的是保證設(shè)備盡可能少出故障,而維修性設(shè)計(jì)則是保證設(shè)備在出現(xiàn)故障時(shí),能夠簡便、快捷、安全、經(jīng)濟(jì)地檢測(cè)和修復(fù)故障。機(jī)電一體化設(shè)備的維修性指標(biāo)通常為8 h 以內(nèi),實(shí)時(shí)性、機(jī)動(dòng)性的武器裝備的維修性大多要求在30 min 內(nèi),實(shí)驗(yàn)室中的半導(dǎo)體專用設(shè)備維修性通常為2~8 h。

下面以中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所最新研發(fā)用于薄膜傳感器的M781-2/UM 型雙離子束濺射鍍膜機(jī)為例,建立維修性模型,根據(jù)各部件的可靠性和維修時(shí)間經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù),進(jìn)行維修性分配和預(yù)計(jì)。

1 建立維修性模型

建立維修性模型的目的是為了進(jìn)行維修性分配、預(yù)計(jì)和評(píng)定,估計(jì)或確定設(shè)計(jì)方案可達(dá)到的維修性水平。另外,當(dāng)設(shè)計(jì)變更時(shí),可以進(jìn)行靈敏度分析,以確定哪些參數(shù)對(duì)模型的影響最大。

和所有交付的機(jī)電一體化設(shè)備一樣,雙離子束濺射鍍膜機(jī)的維修活動(dòng)按照先后順序見圖2 所示。

從維修職能流程中可以看出,設(shè)備維修耗費(fèi)的時(shí)間主要集中在故障的檢測(cè)與隔離、分解- 修復(fù)- 組裝、更換、調(diào)整/ 調(diào)準(zhǔn)、檢驗(yàn)等步驟,這些時(shí)間參數(shù)通過維修人員的歷史經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)積累得到。按照系統(tǒng)組成,各部件的可靠性數(shù)據(jù)建圖3 所示。

圖2 雙離子束濺射鍍膜機(jī)維修職能流程

圖3 雙離子束濺射鍍膜機(jī)各部件可靠性數(shù)據(jù)

2 維修性分配方法的選取

維修性分配的主要目的有兩個(gè)方面:一是為系統(tǒng)各部分研制者提供維修性設(shè)計(jì)指標(biāo),以保證系統(tǒng)最終符合規(guī)定的維修性指標(biāo)要求;二是明確各轉(zhuǎn)承制方或供應(yīng)方的產(chǎn)品維修性指標(biāo),以便于系統(tǒng)承制方對(duì)其實(shí)施管理。

維修性分配有兩個(gè)前提條件,一是已確定設(shè)備總的維修性指標(biāo)(M)、維修方案(維修級(jí)別、維修資源、維修類型等)和設(shè)備的功能層次,二是已完成各功能層次的可靠性分配或預(yù)計(jì)。根據(jù)《GJB/Z 57 維修性分配與預(yù)計(jì)手冊(cè)》的規(guī)定,維修性分配有五種方法[4],見表1 所示。

按102 規(guī)定的故障率分配法,故障率高的部件,分配的維修時(shí)間應(yīng)當(dāng)短,各個(gè)可維修項(xiàng)目的平均修復(fù)時(shí)間Mi按照公式(1)分別求出,其維修性分配如表2 所示。

式中,λi 為各部件的可靠性數(shù)據(jù)。

表1 GJB/Z57 規(guī)定的維修性分配方法

表2 雙離子束濺射鍍膜機(jī)維修性分配表

3 維修性預(yù)計(jì)

維修性預(yù)計(jì)的目的主要有三個(gè)方面,一是預(yù)計(jì)設(shè)計(jì)方案的維修性水平是否能達(dá)到第3 節(jié)分配的指標(biāo);二是發(fā)現(xiàn)維修性設(shè)計(jì)缺陷,為更改設(shè)計(jì)提供依據(jù);三是在更改設(shè)計(jì)時(shí),估計(jì)其對(duì)維修性的影響。

維修性預(yù)計(jì)的前提條件也有三個(gè)方面:一是已有歷史經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)或相似設(shè)備的數(shù)據(jù),包括設(shè)備的層次結(jié)構(gòu)和各部件維修性指標(biāo);二是已確定系統(tǒng)的維修方案;三是已完成各功能層次的可靠性分配或預(yù)計(jì),有了可靠性的數(shù)據(jù)。因此,維修性預(yù)計(jì)與具體產(chǎn)品的實(shí)際經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)習(xí)習(xí)相關(guān),且受到各種條件的影響,必須真實(shí)客觀地確定數(shù)據(jù),避免在預(yù)計(jì)時(shí)“湊數(shù)據(jù)”。

根據(jù)GJB/Z57 的規(guī)定,維修性預(yù)計(jì)的方法有6 種,見表3。

采用功能層次預(yù)計(jì)法,根據(jù)各部件維修活動(dòng)中檢測(cè)、隔離、分解、更換、結(jié)合、調(diào)準(zhǔn)和校驗(yàn)等所消耗的實(shí)際時(shí)間,分別計(jì)算各組成部件維修所需的總時(shí)間及故障率,以主離子源為例,其維修性預(yù)計(jì)表如表4 所示(表中數(shù)據(jù)為典型值,僅供參考)。

表3 GJB/Z57 規(guī)定的維修性預(yù)計(jì)方法

表4 主離子源的維修性預(yù)計(jì)表

輔離子源、基片臺(tái)、水冷靶、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)均可按照表4 所示的方法分別進(jìn)行維修性預(yù)計(jì);最后,按照公式(2)分別計(jì)算各部件的維修性預(yù)計(jì)值Mpi,按公式(3)計(jì)算雙離子束濺射鍍膜機(jī)總的維修性預(yù)計(jì)值Mp,結(jié)果如表5所示。

表5 雙離子束濺射鍍膜機(jī)的維修性預(yù)計(jì)表

維修性預(yù)計(jì)的Mp值為6.975 h,低于設(shè)備的維修性指標(biāo)8 h,維修性設(shè)計(jì)符合要求。如果預(yù)計(jì)值大于8 h,則必須根據(jù)表5 中維修性預(yù)計(jì)值Mpi超過分配值的部件重新進(jìn)行設(shè)計(jì)調(diào)整,在可達(dá)性、防差錯(cuò)、標(biāo)準(zhǔn)化和互換性、模塊化、標(biāo)識(shí)[5]等方面進(jìn)行改進(jìn),縮短部件的維修時(shí)間。

4 結(jié) 論

近年來,用于軍用電子元器件研發(fā)的半導(dǎo)體專用設(shè)備項(xiàng)目,在申報(bào)中逐步提出了關(guān)于可靠性、維修性、測(cè)試性、安全性等方面的設(shè)計(jì)內(nèi)容要求,如果在綜合論證報(bào)告中進(jìn)行科學(xué)的維修性分配和預(yù)計(jì),可以使項(xiàng)目申報(bào)材料中的內(nèi)容更有可信度和說服力,進(jìn)而提高普通軍工產(chǎn)品項(xiàng)目中標(biāo)的成功率[6],同時(shí)也能夠使研發(fā)生產(chǎn)的半導(dǎo)體專用設(shè)備更具市場競爭力。

[1] 賈嘉,陳新禹. 離子束濺射工藝中的基片溫度及其控制方法[J]. 光學(xué)儀器,2004,26(2):187-190.

[2] 陳特超,龍長林,胡凡等. 射頻離子束輔助濺射鍍膜設(shè)備的研制[J].電子工業(yè)專用設(shè)備,2013,42(11):1-3.

[3] 劉金聲. 離子束沉積薄膜技術(shù)及應(yīng)用[M]. 北京:國防工業(yè)出版社,2006.

[4] GJB/Z 57,維修性分配與預(yù)計(jì)手冊(cè)[S].

[5] GJB 368B-2009,裝備維修性工作通用要求[S].

[6] 周鳴岐. 型號(hào)維修性和測(cè)試性設(shè)計(jì)分析和驗(yàn)證培訓(xùn)教材[M]. 北京:中國航天科工集團(tuán)第二研究院,2013.

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