王 超,曹多禮
(中國空間技術(shù)研究院西安分院 陜西 西安 710100)
為了滿足不斷增加的寬帶接入和通信服務(wù)的多樣化需求,能夠和兩個(gè)或兩個(gè)以上站點(diǎn)通信的高增益多波束天線受到了各國的普遍重視[1]。綜合國內(nèi)外的多波束天線設(shè)計(jì)方法可知,單反射面的高增益多波束天線設(shè)計(jì)方法包括兩種:圓環(huán)反射面天線和多焦點(diǎn)拋物反射面天線。前者可以在不同波束方向上產(chǎn)生類似的方向圖,但是它的口徑效率很低。后者有較高的口徑效率,但是因?yàn)榻裹c(diǎn)排列的設(shè)計(jì)靈活性有限,口徑效率會隨著焦點(diǎn)數(shù)目增加而下降[2]。本文基于國外學(xué)者關(guān)于多焦點(diǎn)拋物反射面天線的研究,從饋源位置出發(fā),利用改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面天線設(shè)計(jì)方法,對反射面進(jìn)行賦形,設(shè)計(jì)了二乘五焦點(diǎn)拋物反射面天線,研究此種多焦點(diǎn)拋物面設(shè)計(jì)方法在饋源二維排布時(shí)的可行性,并將結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)偏置反射面進(jìn)行對比,檢驗(yàn)這種方法是否能夠改善整個(gè)天線的性能。
圖1是一個(gè)三焦點(diǎn)拋物面天線的的橫截面,圖中展示了多焦點(diǎn)反射面天線的設(shè)計(jì)原理。這個(gè)天線由兩個(gè)或者更多拋物面的加權(quán)平均得到,每個(gè)拋物面都被叫做基礎(chǔ)拋物面,這些基礎(chǔ)拋物面相切于點(diǎn),每個(gè)面的軸方向不同,但是焦距相同。這個(gè)設(shè)計(jì)方法最大的缺陷在于它要求各個(gè)基礎(chǔ)面的焦距必須相同。由于各條曲線的曲率都極大的不同,所以當(dāng)口徑尺寸增大或者焦點(diǎn)數(shù)目增多時(shí),很難在不同的波束方向獲得高的效率。此外另外一個(gè)限制口徑效率的因素是這種方法限制多個(gè)拋物面的交點(diǎn)只有一個(gè)。所以從兩個(gè)方面改進(jìn)這個(gè)方法:1)每個(gè)基礎(chǔ)拋物面的焦距可以不同;2)基礎(chǔ)拋物面之間的交點(diǎn)可以不為一個(gè)[3]。之前國外學(xué)者從這兩個(gè)方面出發(fā)設(shè)計(jì)了一種修正的多焦點(diǎn)反射面設(shè)計(jì)方法,可是其是針對各基本拋物面軸向角δi已知的情況。但是在大多數(shù)工程應(yīng)用中,與軸向角相比,更容易得到的是各個(gè)饋源的位置,因此本文計(jì)劃采用改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面設(shè)計(jì)方法。圖2為改進(jìn)的三焦點(diǎn)拋物面天線的x=xc=0的橫截面,它表示改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面的設(shè)計(jì)思想。
這種反射面天線的設(shè)計(jì)步驟如下:
1)用焦距為f0的環(huán)形表面來近似要設(shè)計(jì)的反射面。
2)設(shè)定一個(gè)基礎(chǔ)拋物面的焦點(diǎn)(即饋源位置)為 F(xc,F(xiàn)i,f0),得到軸向角 δi。
3)設(shè)定參考拋物面與基礎(chǔ)拋物面之間的交點(diǎn)(Msi(xc,Msiy,Msiz))x軸分量值。通過計(jì)算得到交點(diǎn) Msi的坐標(biāo)值以及基礎(chǔ)拋物面的焦距fi。
圖1 三焦點(diǎn)拋物反射面Fig.1 Three focus parabolic reflector
圖2 改進(jìn)的三焦點(diǎn)拋物反射面Fig.2 Improved three focus parabolic reflector
得到基礎(chǔ)拋物面與參考拋物面的交點(diǎn)M和基礎(chǔ)拋物面的焦距之后,就可以知道各個(gè)基礎(chǔ)拋物面的位置了。
由上式是各基礎(chǔ)拋物面在各自坐標(biāo)系下的表達(dá)式,要通過坐標(biāo)軸的平移旋轉(zhuǎn)將它們轉(zhuǎn)換到參考坐標(biāo)系(x,y,z)下才能進(jìn)行加權(quán)平均解得多焦點(diǎn)拋物面的表達(dá)式。
4)由各基礎(chǔ)拋物面 zi(xc,y)加權(quán)得到最終的多焦點(diǎn)拋物面:
文中使用Matlab仿真反射面的表面圖形,選取若干個(gè)離散點(diǎn)來描述多焦點(diǎn)反射面的表面形狀,用于反射面仿真軟件Grasp中對反射面表面形狀的輸入,然后仿真得到該反射面天線的方向圖,驗(yàn)證設(shè)計(jì)的正確性。綜上所述,本文的多焦點(diǎn)反射面設(shè)計(jì)流程如圖3所示。
這種改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面天線設(shè)計(jì)方法經(jīng)過仿真驗(yàn)證得出在饋源一維排布的情況下是適用的,其可以改善天線性能。但是要使得這種方法能夠真正的應(yīng)用于實(shí)際的多波束天線設(shè)計(jì)工作中,饋源二維排布情況下的仿真驗(yàn)證是非常必要的。因此在其基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)了一個(gè)二乘五焦點(diǎn)拋物反射面天線。
為了避免饋源陣的遮擋影響,天線采用偏置拋物面的形式,天線示意圖如圖4所示。其中天線工作頻率為20 GHz,天線口徑D=1.3 m,參考拋物面焦距f0=1.6 m,偏置量H=300 mm,饋源采用30 mm口徑的基模喇叭。通過計(jì)算可以得到半張角θ*=21.21°,偏置角 θf=31.83[4]。
圖4 偏置反射面天線示意圖Fig.4 Schematic offset reflector antenna
二乘五焦點(diǎn)拋物反射面天線饋源排布圖如5所示,(xf,yf)為饋源坐標(biāo)系,設(shè)置r=25.981 mm,饋源間距為 30 mm,使得各個(gè)饋源成等邊三角形排列,然后將10個(gè)饋源編號。該反射面天線其他參數(shù)設(shè)置如下:參考拋物面焦距f0=1.6 m,設(shè)置xc=(25.981、25.981、25.981、25.981、25.981、0、0、0、0、0),10 個(gè)焦點(diǎn)位置(即饋源位置)y 坐標(biāo) Fi=(-15、-45、-75、-105、-135、0、-30、-60、-90、-120)(MATLAB 程序中 Fi為參考坐標(biāo)系下的饋源位置坐標(biāo),因此加上負(fù)號)。由公式(1)可以得到各基本拋物面軸向角 δi=(-0.54、-1.61、-2.68、-3.75、-4.82、0、-1.07、2.15、-3.22、-4.29)。 各基礎(chǔ)拋物面焦距 fi=(1 599.9、1 599.3、1 598.2、1 596.5、1 594.3、1 600、 1 599.7、1 598.9、1 597.5、1 595.5)。
得到在同一參考坐標(biāo)系下的基礎(chǔ)拋物面方程后,就可以通過加權(quán)平均得到最后的二乘五焦點(diǎn)拋物面。在加權(quán)系數(shù)wi的定義中,反射面邊緣根據(jù)最大軸向角掃描時(shí)的口徑相位等高線分布來確定。由于饋源分兩行排布,反射面邊緣根據(jù)每行最大軸向角掃描時(shí)的口徑相位等高線分布來確定,所以加權(quán)系數(shù)定義為:
圖5 天線饋源排布示意圖Fig.5 Schematic arrangement of the antenna feeds
其 中 k1取 0.5, 則 加 權(quán) 系 數(shù) 為 (0.51、0.56、0.65、0.80、1.00、0.50、0.53、0.63、0.78、1.00)。
使用Matlab仿真得到反射面的表面圖形,選取了4 356個(gè)離散點(diǎn)來描述二乘五焦點(diǎn)反射面的表面形狀,用于Grasp仿真中反射面表面形狀的輸入。用Grasp分別對10個(gè)饋源進(jìn)行仿真,得到.grd文件,在后處理程序中讀取.grd文件得到圖6所示的波束覆蓋圖。
作為對比,本節(jié)還仿真了標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物反射面,反射面和饋源的參數(shù)設(shè)置與二乘五焦點(diǎn)拋物反射面相同,得到的波束覆蓋圖如圖7所示。
圖6 二乘五焦點(diǎn)拋物反射面波束覆蓋圖Fig.6 The coverage map of Squares five focus parabolic reflector
下面從4個(gè)方面對這兩種情況下的仿真結(jié)果進(jìn)行對比:
1)交迭增益與副瓣電平
通過Grasp軟件后處理程序讀取兩種情況下各個(gè)波束輻射方向圖的grid文件,得到各個(gè)波束的峰值增益和副瓣電平,如表1所示。標(biāo)準(zhǔn)偏置反射面天線最低峰值增益和最大旁瓣電平為45.78 dBi和-18.36 dBi,而使用本文中多焦點(diǎn)設(shè)計(jì)方法設(shè)計(jì)的二乘五焦點(diǎn)拋物反射面天線最低峰值增益和最大旁瓣電平分別為46.46 dBi和-17.83 dBi,最低峰值增益提高了0.68 dBi,而最大副瓣電平提高了0.46 dBi。
圖7 標(biāo)準(zhǔn)拋物反射面波束覆蓋圖Fig.7 Standard parabolic reflector beam coverage
表1 兩種情況下波束峰值增益和旁瓣電平Tab.1 Beam peak gain and sidelobe level in both cases
但是與峰值增益相比,多波束天線更重要的一個(gè)指標(biāo)是交迭增益。對比圖6和圖7,可知在標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物面情況下,由于饋源偏焦,使得邊緣波束交迭增益下降到38.27 dBi,可以看到隨著饋源偏焦距離增大,波束交迭增益遞減,中心波束交迭增益最大為39.21 dBi;使用改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物面設(shè)計(jì)方法對反射面賦形后,邊緣波束交迭增益上升到38.85 dBi,相比標(biāo)準(zhǔn)偏置反射面,覆蓋區(qū)內(nèi)最低交迭增益上升了0.58 dBi。
2)在相同交迭增益下的掃描范圍
掃描范圍也是多波束天線一個(gè)重要的指標(biāo),所以本文也研究了在相同交迭增益下的波束掃描范圍。兩種情況下相同增益的掃描范圍如表2所示,可知對反射面賦形后,在相同交迭增益下,賦形反射面相比標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物面掃描范圍能夠增加2°左右。結(jié)合波束直徑計(jì)算得到在相同交迭增益下的掃描波束數(shù),兩種情況的結(jié)果對比圖如圖8所示。
3)口徑效率
在前文中由Grasp仿真得到的天線方向圖讀出的增益實(shí)際上是天線的方向性系數(shù)。在天線增益G和方向性系數(shù)Du已知的情況下,反射面天線的口面效率εap的計(jì)算公式為:
表2 兩種情況下相同交迭增益的掃描范圍Tab.2 Scanning range of same overlap gain in both cases
圖8 兩種情況下相同交迭增益的掃描波束數(shù)Fig.8 The number of scanning beams of same overlap gain in both cases
口徑漸削效率εt代表嚴(yán)格地由口徑幅度分布引起的增益損耗,也可以稱它為利用因子。所以我們這里用天線口面的利用因子來表示天線的口徑效率[5]。即:
根據(jù)式(8)(9)可計(jì)算得到二乘五焦點(diǎn)拋物反射面的口徑效率,與標(biāo)準(zhǔn)拋物反射面天線對比結(jié)果如表3所示。從表3可以看出,與標(biāo)準(zhǔn)拋物反射面天線相比,雖然賦形反射面靠近中心的波束口徑效率稍稍下降,但是邊緣波束的口徑效率有了顯著的提高,其最低口徑效率為59.7%,相比標(biāo)準(zhǔn)拋物面最低口徑效率提高了8.65%。
(4)C/I
多波束天線的C/I定義為載波功率與干擾功率之比。在多波束天線中它與波束方向性、波束輻射功率、頻率復(fù)用方式等相關(guān)[6]。
按照C/I的定義本文計(jì)算了兩種情況下每個(gè)波束的C/I值,其中標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物面覆蓋區(qū)域內(nèi)最小C/I值為12.20 dB,使用多焦點(diǎn)反射面方法對反射面表面進(jìn)行賦形后,覆蓋區(qū)域內(nèi)最小C/I值為13.24 dB,可見,使用本文方法能夠改善多波束天線的C/I性能。
文中基于改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面天線設(shè)計(jì)方法,對反射面進(jìn)行賦形,設(shè)計(jì)了二乘五焦點(diǎn)拋物反射面天線,研究此種多焦點(diǎn)拋物面設(shè)計(jì)方法在饋源二維排布時(shí)的可行性,并從4個(gè)方面對仿真結(jié)果進(jìn)行分析。結(jié)果表明,除了最大副瓣電平相對于標(biāo)準(zhǔn)偏置反射面提高了0.46 dBi以外,二乘五焦點(diǎn)拋物反射面在交迭電平、掃描范圍、口徑效率、C/I上的性能都要優(yōu)于標(biāo)準(zhǔn)偏置反射面。因此,改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面天線設(shè)計(jì)方法在饋源二維排布情況下也是可行的。
表3 兩種情況下的口徑效率Tab.3 The aperture efficiency in both cases
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